主要特點：ARLQuant’X熒光能譜儀具有廣泛的應用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析,各種合金及貴金屬成分分析,環(huán)境污染氣溶膠的測度,考古文物保護,刑偵痕量分析,營養(yǎng)品分析,磁性介質和半導體的薄膜渡層厚度分析,各種油品中成分分析,納米至微米鍍層厚度測量,土壤,催化劑,礦石,原材料等

主要特點：

ARL Quant’X 熒光能譜儀
具有廣泛的應用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析,各種合金及貴金屬成分分析,環(huán)境污染氣溶膠的測度, 考古文物保護,刑偵痕量分析,營養(yǎng)品分析,磁性介質和半導體的薄膜渡層厚度分析,各種油品中成分分析,納米至微米鍍層厚度測量,土壤,催化劑,礦石,原材料等.

用于材料的無損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測器 從氟至鈾的多元素分析測定的濃度范圍一般可以從ppm級至99% 技術參數(shù)

技術參數(shù)：

ARL Quant’X 熒光能譜儀
應對RoHS指令 ――快速分析

超大Si(Li) 晶體敢於監督，具有的痕量分析的靈敏度，打破lng的檢測限壁壘
全數(shù)字脈沖處理器技術結構，死時間達60%重要的作用， 以及優(yōu)異的峰背比
高級FP無標樣分析軟件，進行無標樣分析規模最大，減少對標樣的依賴性
高靈敏電制冷Si(Li) 探測器技術, 儀器免維護和運行
超大樣品室穩中求進，可容納300mm*(乘號)400mm的樣品
全自動校準，自動監(jiān)測最深厚的底氣，自動報警系統(tǒng)協同控製，計算機控制
鍍層和薄膜測量技術, 具有無標樣分析測厚技術