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MDpicts 微波探測光誘導電流瞬態(tài)譜儀

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MDpicts微波探測光誘導電流瞬態(tài)譜儀圖1.與溫度有關的載流子發(fā)射瞬態(tài)靈敏度:對半導體材料電學缺陷有靈敏度溫度范圍:液氮(77k)至500k

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MDpicts
微波探測光誘導電流瞬態(tài)譜儀
圖1. 與溫度有關的載流子發(fā)射瞬態(tài)

 

靈敏度:對半導體材料電學缺陷有靈敏度
溫度范圍:液氮(77k)至500k管理。可選:液氦(4k)或更高溫度
衰減常數(shù)范圍:20納秒到幾毫秒
沾污檢測:電學陷阱基本性能確定:激活能和陷阱的俘獲截面優化上下,受溫度和注入水平影響的少子壽命參數(shù)等

重復性:> 99.5%,測量時間:< 60分鐘模樣。液氮消耗:2升/次
靈活性:從365 nm 到1480nm生產體系,根據(jù)不同材料選擇不同波長激發(fā)光源
可訪問性:基于IP的系統(tǒng)允許來自世界任何地方的遠程操作和技術支持
 圖2. 不同缺陷的評價


從Arrhenius斜率(圖3)可以確定活化能。圖3.Arrhenius曲線圖
 



利用這種新型MDPpicts設備很重要,可在20~500k范圍內(nèi)測量溫度依賴性的瞬態(tài)光電導能力和水平。
Si, GaAs, InP, SiC和其他很多半導體材料已成功采用了這種方法進行研究。  
   
圖4. 不同溫度的Cz-Si晶圓片的MD-PICTS圖譜
                                                                                        
                                                         





                                                                                                                                                                                                              


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