核心技術(shù)：基于第三代半導(dǎo)體自主研發(fā)，面向痕量和超痕量元素分析的高靈敏度TXRF技術(shù)的基礎(chǔ)研究深刻認識，涉及新型光學(xué)設(shè)計和小型化儀器開發(fā)核心技術，制樣方法、基體效應(yīng)研究以及與多方法聯(lián)用的研究

核心技術(shù)：

基于第三代半導(dǎo)體自主研發(fā)主動性，面向痕量和超痕量元素分析的高靈敏度TXRF技術(shù)的基礎(chǔ)研究創造性， 涉及新型光學(xué)設(shè)計和小型化儀器開發(fā)， 制樣方法道路、基體效應(yīng)研究以及與多方法聯(lián)用的研究規模設備。

TXRF技術(shù)原理示意圖	基于波導(dǎo)光學(xué)TXRF結(jié)構(gòu)示意圖
波導(dǎo)管（waveguide） 結(jié)構(gòu)示意圖	Glancing Angle Dependence Of Measured Fluorescence Intensity Of Si And Ca
For Multi-element Energy Scale Test Spectrum（x-ray Tube Was Operated At 20kv And 500μa）	Matrix Effect（Absorption And Enhancement）