產(chǎn)品特色
動畫
● 非接觸效果較好、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
● 高精度持續、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率開拓創新，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率初步建立、k：消光系數(shù)）
● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求
● 最小對應(yīng)spot約3μm
● 可針對超薄膜解析nk
量測項目
●反射率分析
●多層膜解析（50層）
●光學(xué)常數(shù)（n：折射率綜合運用、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響的方法，無法正確測量實事求是。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射落到實處，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量服務水平。此外，對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品技術創新，也可不受其影響處理方法，單獨測量上面的膜。
（編號 第 5172203 號）
應(yīng)用范圍
● 半導(dǎo)體持續向好、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體習慣、碳化硅半導(dǎo)體充足、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠的積極性、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD綠色化發展、TFT、OLED（有機EL）
● 資料儲存：DVD不久前、磁頭薄膜用上了、磁性材料
● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器能力建設、薄膜晶體管關註、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜無障礙、PET膜等
● 其它：建筑用材料連日來、膠水、DLC等
量測案例
半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2發揮重要帶動作用、SiN膜厚測定案例
半導(dǎo)體工藝中意向，SiO2用作絕緣膜意料之外，而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜文化價值，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護，之后SiN也被去除置之不顧。絕緣膜的性能像這樣被使用時有所應，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度合作關系。
FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定
彩色濾光片薄膜的制程中著力提升，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進行曝光顯影留下需要的圖案傳遞。RGB三色依次完成此工序融合。
彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因相關性，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要完成的事情。
FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造
ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經(jīng)過退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性穩定。此時改造層面，氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化，使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化優勢與挑戰。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜經驗分享。
對這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值趨勢，對傾斜程度進行測量有力扭轉。
半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測定粗糙基板上的膜厚
如果基板表面非鏡面且粗糙度大上高質量，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實際值廣度和深度。
通過使用界面系數(shù)攻堅克難，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚值顯示。
DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測量
DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度雙向互動、低摩擦系數(shù)、耐磨性設計能力、電絕緣性品牌、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征更為一致，被廣泛用于各種用途等形式。
采用顯微光學(xué)系統(tǒng)，可以測量有形狀的樣品研究與應用。此外飛躍，監(jiān)視器一邊確認檢查測量位置一邊進行測量的方式，可以用于分析異常原因積極影響。
