XTU-4C X熒光光譜儀
型號：XTU-4C
測量面積：最小0.002mm2
鍍層分析：23層鍍層24種元素
儀器特點：可手動變焦
儀器優(yōu)勢：同元素不同層分析
儀器簡介：
XTU-4C是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的鍍層測厚儀約定管轄，采用了下照式C型腔體設(shè)計數據，不但可以測量各種微小樣品，即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測量發揮，是一款測量涂鍍層成分及厚度性價比高顯著、適用性強的機型。
該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測今年。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用結構不合理。
產(chǎn)品優(yōu)勢：
技術(shù)參數(shù)：
1. 元素分析范圍：氯（Cl）- 鈾（U）
2. 涂鍍層分析范圍：氯（Cl）/鋰（Li）- 鈾（U）
3. 厚度檢出限：0.005μm
4. 成分檢出限：1ppm
5. 最小測量直徑0.2mm（最小測量面積0.03mm2）
6. 對焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量：45KG
10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm
11. XY軸工作臺承重：5KG
應用領(lǐng)域：
多元迭代EFP核心算法
專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上動手能力，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光意見征詢、靶材熒光提升、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法的必然要求，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)研究成果、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標樣來校正儀器因子應用擴展，可測試重復鍍層體驗區、非金屬、輕金屬活動上、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量有望。
單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe導向作用、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應用：如ZnNi/Fe方案、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法十大行動，在計算鎳磷鍍層厚度的同時左右，還可精準分析出鎳磷含量比例。
重復鍍層應用：不同層有相同元素綜合措施，也可精準測量和分析可靠保障。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量設計標準。
配置清單：
