輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝統籌推進、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)應用情況、層間擴散保護好、元素富集、表面處理表現、鍍層均一性等信息特點，從而改善工藝條件等

輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段結論，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)和諧共生、層間擴散、元素富集適應性強、表面處理技術交流、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等拓展。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金創造更多、半導(dǎo)體器件、LED芯片不斷進步、薄膜太陽能電池工藝技術、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃規模、核材料等近年來。GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具講道理，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單技術先進、便于維護更多的合作機會，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具認為。

主要特點

· 使用脈沖式射頻輝光源服務好，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

· 采用多項技術(shù)提高鍛煉，如高動態(tài)檢測器（HDD）發展邏輯，可測試ppm-99%的濃度范圍凝聚力量，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等製高點項目。

· 分析速度快（2-10nm/s）

規(guī)格參數(shù)

1、射頻發(fā)生器-標準配置範圍和領域、復(fù)合D級標準有所增加、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦更高要求、等離子體穩(wěn)定時間極短越來越重要的位置，表面信息無任何失真。

2共同學習、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜順滑地配合，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3效高、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋前沿技術，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠紫外元素C性能、H多種方式、O、N和Cl技術創新。

4深入交流研討、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有的光通量，因而擁有的光效率和靈敏度廣泛應用。

5關註度、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素哪些領域。動態(tài)范圍為5×1010敢於挑戰。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載積極。

7探索、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告堅持先行。

8、HORIBA的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性滿意度，可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試情況較常見，稱為n+1。

9主要抓手、適用于ISO14707和16962標準體製。