綜述
德國斯派克新一代SPECTROLAB 是高性能與靈活性的結(jié)合貢獻力量。的優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)由光電管和CCD雙光學(xué)系統(tǒng)合二為一使用，這是邁向全新概念金屬分析儀。新技術(shù)不但提高了分析性能發行速度，簡化了操作程序更加堅強，更重要是大大擴(kuò)展了靈活性。新一代SPECTROLAB 秉承了前一代的成功之處性能，賦予更多革命性創(chuàng)新初步建立。幾乎所有部件擁有了新的生命，其中很多是全新的發(fā)明供給。這些對(duì)分析性能至關(guān)重要的部件組群包括激發(fā)光源的方法、光學(xué)系統(tǒng)和讀出系統(tǒng)。新技術(shù)組群量子躍遷般的發(fā)展進(jìn)步進行探討，相互優(yōu)化匹配使得同時(shí)具備分析性能和極大靈活性的 SPECTROLAB 成為無以匹敵的直讀光譜儀持續。新一代SPECTROLAB 設(shè)定了樣品分析的新標(biāo)準(zhǔn)：分析時(shí)間更短等多個領域，火花臺(tái)清理維護(hù)更少再獲。全新的硬件診斷功能產品和服務，實(shí)時(shí)可視監(jiān)控硬件運(yùn)行情況。 特點(diǎn)
配備技術(shù)自循環(huán)凈化裝置（UV-PLUS）的光學(xué)系統(tǒng)
SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)體驗區。采用優(yōu)化帕邢—龍格原理的“半殼”鑄造鋁框架技術(shù)提供了超常堅(jiān)固的機(jī)械結(jié)構(gòu)增多，同時(shí)減小了內(nèi)部容積。為減少外部環(huán)境的影響有望，光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部恒溫恒壓進一步推進。
主光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部包括兩個(gè)獨(dú)立的光譜模塊—光電管光學(xué)部分和CCD光學(xué)部分，各自配備一個(gè)原級(jí)全息光柵方案。第三光學(xué)系統(tǒng)是一個(gè)獨(dú)立的空氣光學(xué)系統(tǒng)應用的選擇，將波長范圍擴(kuò)展到780 nm。的自循環(huán)凈化系統(tǒng)（UV-PLUS）用于測(cè)量紫外波段（UV）和遠(yuǎn)紫外波段（VUV）光譜左右。嚴(yán)格密封的光學(xué)室內(nèi)部充以氬氣背景下，無需復(fù)雜的技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)紫外及遠(yuǎn)紫外光在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)不被吸收。分子薄膜泵驅(qū)動(dòng)氬氣在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部和凈化裝置中循環(huán)可靠保障∽匀粭l件？梢员苊獠捎谜婵障到y(tǒng)產(chǎn)生的油蒸氣污染或流動(dòng)沖氣系統(tǒng)帶來的外部污染。保持潔凈的光學(xué)系統(tǒng)和優(yōu)秀的長期穩(wěn)定性表現(xiàn)開展。UV-PLUS的優(yōu)點(diǎn)是大大降低了運(yùn)行成本互動互補，并且在120-180nm的遠(yuǎn)紫外光譜波段提供了出色的光學(xué)表現(xiàn)。
的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和的UV-PLUS技術(shù)提單產，使得創(chuàng)新的SPECTROLAB光學(xué)系統(tǒng)能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級(jí)相關(guān)光譜信息深入實施，CCD光學(xué)系統(tǒng)的光譜分辨率達(dá)到 9 皮米。
等離子發(fā)生器激發(fā)光源
研發(fā)的SPECTRO高效等離子發(fā)生器激發(fā)光源可以提供穩(wěn)定的火花放電發展空間。采用全數(shù)字信號(hào)發(fā)生和激發(fā)過程控制效果，激發(fā)區(qū)域的等離子能量可以高精度、高保真輸出連日來。由于具備了全新的激發(fā)參數(shù)設(shè)置以及高純度的信號(hào)輸出快速融入，激發(fā)光源的精度得以顯著提高。分析精度因此顯著提高系統，分析周期大大縮短增強。對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用程序，每次分析時(shí)間不超過18秒交流等。
分析性能
根據(jù)用戶需求更加廣闊，量身定制。十種標(biāo)準(zhǔn)基體鐵提高、鋁可以使用、銅進入當下、鎳、鈷效高化、鎂新體系、鈦、錫創造、鉛和鋅, 可以與五種貴金屬基體：金不難發現、銀、鉑設備製造、鈀和釕組合配置發展需要。在 CCD 光學(xué)系統(tǒng)中可以實(shí)現(xiàn)120-780nm 波長范圍內(nèi)所有元素的全譜記錄。在光電管光學(xué)系統(tǒng)中最多可以放置 108 個(gè)高性能光電備增管通道管理，每個(gè)通道配有微積分器（TRS 功能）和單火花評(píng)估（SSE 功能）顯示。由此可以保證每一分析要求得以化滿足。配備現(xiàn)代化的光譜技術(shù)和高質(zhì)量的組成部件效率和安，SPECTROLAB 適用于各種分析要求設計能力。出眾的分析性能與高度靈活性相結(jié)合，能夠勝任諸如：過程控制分析範圍，來料及成品檢驗(yàn)廣度和深度，研究開發(fā)部門、檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)等各方面分析任務(wù)引領作用。
讀出系統(tǒng)
全新設(shè)計(jì)的讀出系統(tǒng)可以同時(shí)處理來自光電管檢測(cè)器和CCD檢測(cè)器的信號(hào)加強宣傳。共有22塊（加第三光學(xué)系統(tǒng)共37塊）CCD檢測(cè)器，每個(gè)CCD包括3800 像素用的舒心，類似全譜波長掃描技術發展，測(cè)量后大量數(shù)據(jù)結(jié)果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定集成，新合金配方等）提供了全新的分析手段重要手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有元素的信號(hào)被采集穩定性。這可以實(shí)現(xiàn)瞬時(shí)信號(hào)的實(shí)時(shí)采集像一棵樹。分析結(jié)果可以取自整個(gè)測(cè)量過程中某一時(shí)序的瞬時(shí)信號(hào)測(cè)定。根據(jù)應(yīng)用要求去突破，某些光譜線采用光電倍增管測(cè)量能運用。光電流由微積分器處理，可以實(shí)現(xiàn)微秒級(jí)測(cè)量智能設備，每一單個(gè)火花放電過程可進(jìn)行100次以上的步進(jìn)測(cè)量不可缺少，每個(gè)光電管通道的光譜峰值由步進(jìn)過程描跡而成。實(shí)現(xiàn)這些步進(jìn)過程測(cè)量以后特點，就可以根據(jù)需要定義測(cè)量“窗口”為其中某一時(shí)段動(dòng)態(tài)范圍或信背比時(shí)段（痕量火花分析技術(shù)SAFT）,用以分析微量元素積極回應。相對(duì)于傳統(tǒng)的積分測(cè)量技術(shù)重要性，現(xiàn)在可以測(cè)量每一單個(gè)火花的放電信號(hào)，而不是將千百次火花放電的總信號(hào)量積分成一個(gè)總量多種場景。由此實(shí)現(xiàn)剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗”放電信號(hào)多元化服務體系。SSE單火花評(píng)價(jià)技術(shù)可以顯著提高分析性能∈褂?？梢园凑辗治鲆蠓謩e獨(dú)立定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能大幅拓展，也可以在一個(gè)分析周期內(nèi)多次定義。這一靈活性可以在最短的分析時(shí)間內(nèi)獲得分析結(jié)果更加堅強。
火花臺(tái)
火花臺(tái)光路直接耦合到光學(xué)系統(tǒng)。第三光學(xué)系統(tǒng)通過光導(dǎo)纖維連接到火花臺(tái)性能〕醪浇?；鸹ㄅ_(tái)內(nèi)部空間減少，配合優(yōu)化的氬氣流向供給，使得氬氣消耗量在減小的同時(shí)有效驅(qū)除激發(fā)粉塵要素配置改革。尾氣進(jìn)入雙過濾系統(tǒng)除塵”Ｕ闲?；鸹ㄅ_(tái)的維護(hù)和雙過濾系統(tǒng)的維護(hù)工作量很低帶動產業發展。樣品夾可以左右移動(dòng)，并配有安全回路十分落實”对鲂?？梢赃m應(yīng)快速更換樣品，廣泛適用于各種樣品外形製造業灮詹呗?？梢赃x購樣品夾具分析諸如小試樣、線材樣品或薄片樣品發展基礎。
樣品分析
SPECTROLAB的人性化設(shè)計(jì)大大降低了校準(zhǔn)和維護(hù)工作量兩個角度入手，使操作人員的日常工作更容易。每日樣品輸出量也將大大提高同期。Spark Analyzer Vision 軟件包集成了硬件診斷系統(tǒng)生產效率。連續(xù)檢查并將每天的儀器運(yùn)行狀態(tài)存檔。另外效果，軟件的界面簡單使用、直觀，功能豐富長期間，便于和外部計(jì)算機(jī)交換數(shù)據(jù)基本情況。實(shí)現(xiàn)材料牌號(hào)鑒定，合格樣品的判定高端化，程序自動(dòng)查找等功能力量。集成的SQL數(shù)據(jù)庫完成豐富的數(shù)據(jù)管理功能我有所應。
軟件
導(dǎo)航條實(shí)現(xiàn)點(diǎn)擊進(jìn)入三個(gè)主要功能程序模塊：分析模式、方法建立和參數(shù)配置深入實施。在測(cè)量窗口操作者可以同時(shí)看到多次測(cè)量值和平均值至關重要。使用 Windows 剪貼板功能可以快速輕松地實(shí)現(xiàn)將測(cè)量結(jié)果或其他數(shù)據(jù)粘貼到不同的窗口界面。 技術(shù)配置
多光學(xué)系統(tǒng)
·帕邢 -龍格結(jié)構(gòu)
·光柵焦距 750 mm效果，羅蘭圓
·光學(xué)系統(tǒng)恒溫
·分析波長范圍：120-780 nm
·的氬氣自動(dòng)循環(huán)氣體凈化系統(tǒng)有所應，用于分析小于 200 nm 波長
·光路氬氣沖洗系統(tǒng)
·全息原級(jí)光柵 3600，2924 線／毫米
·光柵材料：微晶石英
·色散率
主光學(xué)系統(tǒng)
3600 線／毫米光柵合作關系，0.37 nm／mm (1級(jí)光譜)2924 線／毫米光柵著力提升，0.46／0.23 nm／mm(1／2 級(jí)光譜)第三光學(xué)系統(tǒng) 400 mm 焦距2400 線／毫米光柵，1.04 nm／mm (1級(jí)光譜)火花臺(tái)
·開放式火花臺(tái)結構，大樣品量輸出
·適于分析多種幾何形狀的樣品
·低氬氣消耗量
·減少分析工作量和維護(hù)時(shí)間
·易于更換的火花臺(tái)蓋板
·熱量吸收裝置重要的作用，無需水冷卻
·采光快門優(yōu)化觀測(cè)角度激發(fā)系統(tǒng)
·全數(shù)字等離子發(fā)生器。數(shù)字放電參數(shù)設(shè)定規模最大，數(shù)字脈沖發(fā)生器穩中求進，數(shù)字離線脈沖控制
·32 MHz 微處理器控制
·采樣速率：200 微秒 400 次
·能量分辨率：125 毫瓦
·最長單次火花放電時(shí)間：4000 微秒
·火花功率：4千瓦
讀出系統(tǒng)
·光電管和 CCD 系統(tǒng)平行運(yùn)行
·平行 12 Bit 模數(shù)轉(zhuǎn)換器，每個(gè)信道1 MHz
·系統(tǒng)和操作過程自動(dòng)診斷
軟件
·基于 Windows 系統(tǒng)的用戶友好界面
·以 SQL 數(shù)據(jù)庫自動(dòng)存儲(chǔ)分析結(jié)果和統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
·可用樣品的檢測(cè)技術(shù) (SATEUS)最深厚的底氣，自動(dòng)檢測(cè)出預(yù)激發(fā)過程中有缺陷的樣品
·自調(diào)整預(yù)激發(fā)技術(shù) (SERPS)協同控製， 自動(dòng)優(yōu)化預(yù)激發(fā)時(shí)間，直至消除樣品缺陷
·測(cè)量可靠的檢測(cè)技術(shù) (SETEME)品質，可自動(dòng)檢測(cè)出分析過程中的有缺陷的樣品
·硬件故障自動(dòng)診斷 (可視系統(tǒng)和維護(hù)診斷)微機(jī)控制系統(tǒng)
·外置計(jì)算機(jī)控制
·Windows 操作系統(tǒng)
·鍵盤和鼠標(biāo)
·打印機(jī)
儀器尺寸
·1674× 771× 1409 毫米 (長× 寬× 高)
重量
·重約 520 kg (不包括附屬設(shè)備)
電源要求
·230 VAC -15％／+10％利用好，50 HZ
·待機(jī)功率 0.5 kVA
·激發(fā)功率 1.0 kVA
·16 A 慢熔保險(xiǎn)