可見光靶標

可見光靶標主要分為兩類：A)反射式靶標服務機製，B）透射式靶標。反射式靶標無法提供高精度的靶標圖形因此只能用于可見光成像系統(tǒng)簡單的評估測試使用。透射式靶標的精度可以達到次微米級大幅拓展，通常采用在干凈的玻璃基板上光刻的方法而得到。Inframet采用USAF 1951靶標更加堅強，其具備很好的通用性與時俱進，既支持低分辨率相機測試，也同時支持高分辨率相機測試初步建立。