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AL-1000 氬離子刻蝕鍍膜儀

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產(chǎn)品特點(diǎn):1、面積大:0~?25毫米等特點、0~?50毫米

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產(chǎn)品特點(diǎn):
    1建言直達、面積大:0~?25毫米、0~?50毫米將進一步;

    2充分發揮、濺射樣品表面膜層更均勻

    3動力、顆粒度更型瑫r。?nm左右)

    4效高性、濺射到樣品表面能量低,對(duì)樣品損傷凶詣踊?√嵘?;(適用溫度敏感性高的樣品)

    5、可以濺射各種固體靶材(如各種金屬不折不扣、陶瓷支撐能力、碳等)資源優勢;

    6、控制精度高特征更加明顯,實(shí)驗(yàn)結(jié)果精準(zhǔn)可控重復(fù)性高估算;

    7、在同一真空腔內(nèi)方便,可實(shí)現(xiàn)清洗和鍍膜基礎上,降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差 ;
    8應用領域、加入特殊氣體保持競爭優勢,可進(jìn)行反應(yīng)離子束刻蝕;
    9發展機遇、可實(shí)現(xiàn)的功能有:等離子清洗長效機製、鍍膜等;
    10全技術方案、數(shù)字化自動(dòng)控制系統(tǒng)分享。

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