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Harrick基本型等離子清洗機(jī)PDC-32G-2

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Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的者幅度,我們專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)提供性價(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備結構,已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗(yàn)。Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍: * 清洗電子元件貢獻、光學(xué)器件規模最大、激光器件、鍍膜基片統籌、芯片最深厚的底氣。

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Benchtop Plasma Cleaner

小型等離子清洗系統(tǒng)

PDC32G和PDC002

Harrick基本型等離子清洗機(jī)PDC-32G-2(圖1)


HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的者,我們專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)提供性價(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備堅實基礎,已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗(yàn)稍有不慎。

Harrick基本型等離子清洗機(jī)PDC-32G-2(圖2)


Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍:  

* 清洗電子元件重要作用、光學(xué)器件等地、激光器件、鍍膜基片切實把製度、芯片保供。

* 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片進行部署。

* 移除光學(xué)元件責任、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

* 清洗ATR元件保護好、各種形狀的人工晶體組建、天然晶體和寶石表現。

* 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板深刻變革。

* 清洗生物芯片結論、微流控芯片。

* 清洗沉積凝膠的基片質生產力。

* 高分子材料表面修飾適應性強。

* 牙科材料、人造移植物先進的解決方案、科研的消毒和殺菌拓展。

* 改善粘接光學(xué)元件、光纖宣講活動、生物醫(yī)學(xué)材料不斷進步、宇航材料等所用膠水的粘和力。

等離子體表面處理儀的產(chǎn)品特征:

* 緊湊的臺(tái)式設(shè)備效率、沒(méi)有RF放射更加廣闊、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。



基本型:PDC-32G-2

清洗艙:長(zhǎng)6.5英寸講故事,直徑3英寸非常完善;艙蓋可拆卸。

整機(jī)尺寸:8.5英寸H×10英寸W×8英寸D

Harrick等離子體表面處理儀除了PDC-32G-2 基礎(chǔ)型和PDC-002 擴(kuò)展型兩種常規(guī)機(jī)型的等離子清洗機(jī)以外全面革新,我們還提供以下配件選項(xiàng):






PDC-FMG-2 PlasmaFlo氣流混合器(230伏)

PDC-VP-2 豪華版的真空泵230V (包含管子作用,管夾,進(jìn)油轉(zhuǎn)接頭行業分類,中套環(huán)和變壓管夾)

PDC-VP-OIL 豪華版真空泵用油

PDC-VPE-2 基礎(chǔ)型真空泵230V (包含管子和管夾)

PDC-VPE-OIL 基礎(chǔ)型真空泵用油

PDC-32T 石英樣片(適用于PDC-32G-2 基礎(chǔ)型等離子清洗機(jī))

PDC-00Q石英樣片(適用于PDC-002擴(kuò)展型等離子清洗機(jī))

PDC-32Q 石英艙體(適用于PDC-32G-2 基礎(chǔ)型等離子清洗機(jī))

PDC-191-420 可替換的派熱克斯艙體Pyrex Chamber (適用于PDC-002擴(kuò)展型等離子清洗機(jī))

PDC-191-105可替換的派熱克斯艙體Pyrex Chamber (適用于PDC-32G-2擴(kuò)展型等離子清洗機(jī))

PDC-191-111 可替換的前蓋裝置(適用于PDC-32G-2擴(kuò)展型等離子清洗機(jī))

PDC-FLB 可替換的熒光燈泡 (適用于射頻檢測(cè))

注:我們的設(shè)備配有115V230V兩種電壓類型技術特點,缺省為230V電壓,如果客戶需要115V電壓發展邏輯,請(qǐng)訂購(gòu)時(shí)特別注明凝聚力量。

等離子體表面處理儀的功能:

1.對(duì)金屬、玻璃為產業發展、硅片範圍和領域、陶瓷、塑料各項要求、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟更高要求、油污、脫膜劑新技術、蛋白等)進(jìn)行超清洗共同學習。

2.改變某些材料表面的性能。

3.使玻璃深入、塑料效高、陶瓷等材料表面活化前沿技術,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性性能。

4.清除金屬材料表面的氧化層影響力範圍。

5.對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌新創新即將到來。

等離子體表面處理儀的優(yōu)點(diǎn):

1.地清除表面有機(jī)污染物邁出了重要的一步。

2.清洗快速、操作簡(jiǎn)便設施、使用和維護(hù)成本極低需求。

3.非破壞性、對(duì)被清洗物表面光潔度無(wú)損害組合運用。

4.綠色環(huán)保更讓我明白了、不使用化學(xué)溶劑、無(wú)二次污染積極。

5.常溫條件下清洗探索,被清洗物的溫度變化微小。

6.能清洗各種幾何形狀產業、粗糙程度各異的表面



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