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H5050型高純氣體分析儀(PDHID)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 天津華翼科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 天津市
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2023/12/12 13:08:32
  • 訪問次數(shù) 85

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詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

        華翼科技研發(fā)的H5050型脈沖放電氦離子化氣相色譜儀不負眾望,配備了高靈敏度PDHID檢測(cè)器(脈沖放電氦離子化檢測(cè)器)高效流通,對(duì)高純氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)限可達(dá)到ppb級(jí),是高純氦精準調控、高純氬功能、高純氮、高純氫等大宗氣體及各類電子級(jí)氣體分析的解決。
適用標(biāo)準(zhǔn):
GB/T 28726—2012《氣體分析-氦離子化氣相色譜法》
<高純氣標(biāo)準(zhǔn)>
GB/T 8979-2008《高純氮》 GB/T 14599-2008《高純氧》
GB/T 4844.3-1995 《高純氦》 GB/T 4842-2006《氬》
GB/T 7445-1995 《純氫預期、高純氫、超純氫》 GB/T 17873-1999《純氖》
GB/T 5829-1995《氪氣》 GB/T 5828-1995《氙氣》
HG/T 3633-1999《純甲烷》 GB 10621-2006《食品添加劑 液體二氧化碳》
<電子氣標(biāo)準(zhǔn)>
GB/T 16942-2009《電子工業(yè)用氣體 氫》 GB/T 16943-2009《電子工業(yè)用氣體 氦》
GB/T 16944-2009《電子工業(yè)用氣體 氮》 GB/T 16945-2009《電子工業(yè)用氣體 氬》
GB/T 14604-2009《電子工業(yè)用氣體 氧》 GB/T 14600-2009《電子工業(yè)用氣體 氧化氬氮》
GB/T 15909-2009《電子工業(yè)用氣體 硅烷》 GB/T 21287-2007《電子工業(yè)用氣體 三氟化氮》
主要特點(diǎn):
1. 操作自動(dòng)化程度高幅度,用戶只需按動(dòng)一次啟動(dòng)鍵結構,即可完成樣品分析;
2. 采用了高靈敏度氦離子化檢測(cè)器適應能力,該檢測(cè)器對(duì)各痕量組分的檢測(cè)靈敏度如下表所示更優美;

雜質(zhì)種類 H2 O2 N2 CH4 CO CO2
檢測(cè)限(ppb) 5 10 10 5 25 5
 
3. 選用經(jīng)特殊處理的色譜柱各方面,消除了色譜柱對(duì)O2、CO等痕量組分的非正常吸附現(xiàn)象優勢;
4. 所采用的進(jìn)樣閥及切換閥均為進(jìn)口帶吹掃功能的產(chǎn)品善謀新篇,在保證儀器耐用性的同時(shí),消除了空氣滲漏對(duì)樣品分析結(jié)果的影響便利性;
5. 所有的接頭及管線均經(jīng)過拋光處理方法,且接頭處經(jīng)高精度加工處理,一是為防止氣體泄漏提供有力支撐,二是將系統(tǒng)死體積降至切實把製度,三是減小某些痕量組分的吸附。另外自行開發,色譜柱兩端的密封方式為VCR密封進行部署,其他接頭均采用鍍金卡套密封,泄漏量比普通卡套形式低一個(gè)數(shù)量級(jí)應用情況;
6. 采用背壓閥控制的升壓進(jìn)樣方式保護好,能夠消除進(jìn)樣波動(dòng)并獲得相對(duì)較高的分析靈敏度;
7. 所有管線表現,包括色譜柱管特點,均采用VICI產(chǎn)品,保證管壁光潔度結論;
8. 儀器配備有專用的載氣減壓器和諧共生、進(jìn)口載氣純化器及采樣器,保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性適應性強;
9. 可配備我公司的氧氬分離組件技術交流,用于分析氬氣之外樣品氣中氧及氬含量,尤其在分析高純氧中雜質(zhì)含量時(shí)建設,無需采用脫氧裝置在此基礎上,能夠大大減少維護(hù)工作量。
技術(shù)指標(biāo):

主要參數(shù) 參數(shù)范圍
測(cè)量范圍 0~1000ppm
檢出限 <10ppb CH4
重復(fù)性 ≤2%
輸出 MODBUS
電源 AC220V/50Hz
工作環(huán)境 5~35°C前來體驗,20~90% RH
氣體接口 1/8”不銹鋼卡套
重量 75KG
外形尺寸(長(zhǎng)×寬×高) 570 mm×552 mm×465 mm
 
 
 
應(yīng)用實(shí)例:
1自主研發、高純二氧化碳中雜質(zhì)分析(各組分濃度均近10 ppm)

2、高純氮?dú)庵须s質(zhì)分析(各組分濃度均近5 ppm)

 
3更加廣闊、高純氧氣中雜質(zhì)分析(各組分濃度均近10 ppm)

 
4損耗、高純氬氣中雜質(zhì)分析(各組分濃度均近10 ppm)


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