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ZRF2000 高剪切濕法研磨膠體磨

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高剪切濕法研磨膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,最高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000RPM以上,所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

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一建設應用、粉體顆粒概述

與大塊固體相比較十大行動,相對微小的固體稱之為顆粒。根據(jù)其尺度的大小背景下,常區(qū)分為顆粒(particle)綜合措施、微米顆粒(micronparticle)、亞微米顆粒(sub-micronparticle)自然條件、超微顆粒(ultramicronparticle)設計標準、納米顆粒(nano-particle)等等。這些詞匯之間有一定的區(qū)別互動互補,目前正在建立相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行界定發揮重要帶動作用。通常粉體工程學(xué)研究的對象,是尺度界于10-9m到10-3m范圍的顆粒意料之外。從粉體工程學(xué)廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域來看文化價值,以微小顆粒的形式來處理固體物質(zhì)具有如下顯而易見的幾方面的必要性與有利性:

1.比表面積增大促進(jìn)溶解性和物質(zhì)活性的提高,易于反應(yīng)處理置之不顧。

2.顆粒狀態(tài)易于流動非常重要,可以精確計(jì)量控制供給與排出和成形。

3.實(shí)現(xiàn)研磨空間廣闊、分散營造一處、混合、均質(zhì)化與梯度化知識和技能,控制材料的組成與構(gòu)造取得顯著成效。

4.易于成分分離,有效地從天然資源或廢棄物中分離有用成分實現。

如上所述不容忽視,可以充分理解以顆粒或顆粒集合體形式處理物料的重要性服務體系。

粉體技術(shù)明確的一個發(fā)展方向是使顆粒更加微細(xì)化說服力、更具有活性、更能發(fā)揮微粉*的性能分析。近年來關(guān)于“超微顆帘硎?!钡难芯块_發(fā)就是沿著這個方向,以至于60個碳原子組成C60和70個碳原子組成的C70(即fullerene:碳原子排列成球殼狀的分子)歸入超微粉體非常激烈。自古以來的粉體單元操作——粉碎法(breaking-down法)競爭力所在、化學(xué)或物理的粉體制備法(building-up法)以及反應(yīng)工程中物質(zhì)移動操作的析晶反應(yīng),都被包含在粉體技術(shù)制備領(lǐng)域中領域。

高剪切濕法研磨膠體磨工作原理:膠體磨是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn)發展需要,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力攻堅克難,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力顯示、摩擦力雙向互動、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化設計能力、分散和粉碎品牌,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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 膠體磨結(jié)構(gòu):三道磨碎區(qū)求得平衡,一級為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū)空間廣闊,三級為超微磨碎區(qū)至關重要。 雖然都是三級結(jié)構(gòu),但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同服務品質,形狀及齒列的 結(jié)構(gòu)的發生。磨頭結(jié)構(gòu)SZX有多種的膠 體磨頭主要內(nèi)部結(jié)構(gòu)區(qū)別溝槽是曲線,上下深度不一影響,上深下淺ZRF磨頭配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子新的動力,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕發展契機。磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒廣泛關註,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道 的體積從上往下是從大到下發力,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度 一樣優勢領先,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別共創美好。我們可以保證物料從上往下 一直在進(jìn)行研 磨推動並實現,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。 軸的振動偏差 0.01mm (靜止) 這與設(shè)備的設(shè)計(jì)和零件的加工精度有關(guān) 這個和高速運(yùn)轉(zhuǎn)有相當(dāng)大的影響覆蓋範圍。偏差越大優化程度,就需要磨頭的間歇越 大,那么粉碎 的效果越差奮勇向前。 齒列的深度 從開始的2.7mm 到末端的0.7mm 范圍比較大不斷豐富,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣規劃。最大線速 度 V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S使用。


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 高剪切膠體磨的細(xì)化作用非常高,它對物料的適應(yīng)能力也較強(qiáng)(如高粘度發行速度、大顆粒)更加堅強,所以在很多場合下與時俱進,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化初步建立。

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 ZRF2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)綜合運用,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。ZRF2000系列膠體磨的線速度很高的方法,剪切間隙非常小實事求是,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈落到實處,結(jié)果就是通常所說的濕磨服務水平。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽技術創新。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離處理方法。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向持續向好。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料習慣,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

  高剪切濕法研磨膠體磨三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子進展情況,配合精密的定子腔的積極性。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,最高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000RPM以上,所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果至關重要。

 可以選擇六種不同的模塊頭不久前,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊提升行動,超高速模塊綜合措施,ZRF膠體模塊,批次粉液液混合模塊自然條件,連續(xù)粉液混合模塊設計標準。更換磨頭可以作為均質(zhì)機(jī)使用。膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)互動互補,但它對物料的適應(yīng)能力 較強(qiáng)(如高粘度發揮重要帶動作用、大顆粒), 所以在很多場合下深入實施,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合至關重要。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使 用膠體磨進(jìn)行細(xì)化

產(chǎn)品特點(diǎn):

  *優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量

  *為適應(yīng)物料顆粒大小,可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置

  *適合于粘度高達(dá)50,000 mPas的各種粘度范圍的物料

  *能在高達(dá)16 bar的壓力下操作

  *所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼

  *高性能雙端面機(jī)械密封

  *高標(biāo)準(zhǔn)表面處理

  *機(jī)器可自動排水效果, 具有CIP/SIP功能

  *噪音低

  *根據(jù)符合EHEDG(歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計(jì)集團(tuán))準(zhǔn)則制造

  *制藥級設(shè)計(jì)

*根據(jù)提供的ATEX 95指導(dǎo)方針執(zhí)行防爆

設(shè)備等級:化工級有所應、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級合作關系、無菌級
電機(jī)形式:普通電機(jī)著力提升、變頻調(diào)速電機(jī)深刻內涵、防爆電機(jī)、變頻防爆電機(jī)
電源選擇:380V/50HZ融合、220V/60HZ深入闡釋、440V/50HZ
設(shè)備選配:物料儲罐、變頻器完成的事情、電控箱物聯與互聯、移動小車,冰水機(jī)
設(shè)備表面處理:拋光
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口改造層面、夾箍

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

ZRF2000/4

700

18000

44

4

DN25

DN15

ZRF2000/5

3000

10500

44

11

DN40

DN32

ZRF2000/10

8000

7200

44

22

DN50

DN50

ZRF2000/20

20000

4900

44

37

DN80

DN65

ZRF2000/30

40000

2850

44

55

DN150

DN125

ZRF2000/40

80000

1100

44

110

DN150

DN125






 

 

蘇州贊歆機(jī)械科技有限公司

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  • 規(guī)格、等級必然趨勢、主要成份
  • 使用方法說明書促進善治、售后服務(wù)
  • 其他
以上可多選,勾選其他發展的關鍵,可自行輸入要求

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