Huace HT-11高低溫真空探針臺溫度范圍77K-675K(液氮)滿意度；可應(yīng)用于真空及常規(guī)環(huán)境；chao高溫度分辨率可持續；特殊客制低溫系統(tǒng)主要抓手；具有jigao穩(wěn)定性

Huace HT-11高低溫真空探針臺

特點/應(yīng)用

◆ 2至6英寸樣品臺

◆ 高真空腔體

◆ 防輻射屏設(shè)計，樣品溫度均勻性更好

◆ 77K-675K高低溫環(huán)境

◆ 兼容IV/CV/RF測試

◆ 外置多探針臂構建，移動行程大

◆ 經(jīng)濟實用創新科技，可無縫升級

極低溫測試:

因為晶圓在低溫大氣環(huán)境測試時，空氣中的水汽會凝結(jié)在晶圓上共創輝煌，會導(dǎo)致漏電過大或者探針無法接觸電極而使測試失敗具有重要意義。避免這些需要把真空腔內(nèi)的水汽在測試前用泵抽走，并且保持整個測試過程泵的運轉(zhuǎn)大部分。

高溫?zé)o氧化測試：

當(dāng)晶圓加熱至300℃,400℃,500℃甚至更高溫度時強大的功能，氧化現(xiàn)象會越來越明顯，并且溫度越高氧化越嚴(yán)重解決方案。過度氧化會導(dǎo)致晶圓電性誤差優勢，物理和機械形變。避免這些需要把真空腔內(nèi)的氧氣在測試前用泵抽走增產，并且保持整個測試過程泵的運轉(zhuǎn)便利性。

  晶圓測試過程中溫度在低溫和高溫中變換，因為熱脹冷縮現(xiàn)象行動力，定位好的探針與器件電極間會有相對位移提供有力支撐，這時需要針座的重新定位，針座位于腔體外部保供。我們也可以選擇使用操作桿控制的自動化針座來調(diào)整探針的位置自行開發。

技術(shù)參數(shù)

可選附件：

超高溫配件解決問題；
顯示器系列；
轉(zhuǎn)接頭；
射頻測試配件相互配合；

屏蔽箱統籌推進；

光學(xué)平臺；
鍍金卡盤關鍵技術；
光電測試配件了解情況；

高壓測試配件；

分子泵組技術研究；

激光系統(tǒng)重要的；

氣敏測試配件；

Huace HT-11高低溫真空探針臺