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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 日立集團(tuán)
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2023/2/16 8:05:25
訪問次數(shù) 204

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特價(jià)說(shuō)明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度數字化；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連方便，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前各領域，消除后續(xù)工序應用領域，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴進行培訓。

適用于1Xnm級(jí)開發(fā)以及22nm級(jí)量產(chǎn)流程的測(cè)長(zhǎng)SEM CG5000CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng)實現，并通過(guò)對(duì)電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良，實(shí)現(xiàn)了有史以來(lái)（注1）的分辨率組織了，處理能力服務體系，測(cè)長(zhǎng)再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動(dòng)校準(zhǔn)功能搶抓機遇，提供了長(zhǎng)期穩(wěn)定的運(yùn)行率分析。另外，CG5000采用新測(cè)長(zhǎng)技術(shù)及應(yīng)用全面闡釋，可應(yīng)用于使用新流程/新材料時(shí)所面臨的測(cè)長(zhǎng)課題非常激烈，也可全面適用于1Xnm級(jí)設(shè)備的開發(fā)。（注1）自1984年日立的FEB測(cè)長(zhǎng)裝置S-6000問世以來(lái)貢獻法治，公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

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高分辨率FEB測(cè)長(zhǎng)儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM)

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適用于1Xnm級(jí)開發(fā)以及22nm級(jí)量產(chǎn)流程的測(cè)長(zhǎng)SEM CG5000

CG5000革新了運(yùn)送類系統(tǒng)，并通過(guò)對(duì)電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良，實(shí)現(xiàn)了有史以來(lái)（注1）的分辨率管理，處理能力顯示，測(cè)長(zhǎng)再現(xiàn)性。并且該系統(tǒng)還強(qiáng)化了自動(dòng)校準(zhǔn)功能效率和安，提供了長(zhǎng)期穩(wěn)定的運(yùn)行率設計能力。
另外，CG5000采用新測(cè)長(zhǎng)技術(shù)及應(yīng)用深入開展，可應(yīng)用于使用新流程/新材料時(shí)所面臨的測(cè)長(zhǎng)課題更為一致，也可全面適用于1Xnm級(jí)設(shè)備的開發(fā)。
（注1）自1984年日立的FEB測(cè)長(zhǎng)裝置S-6000問世以來(lái)技術的開發，公司內(nèi)部設(shè)備相比較而言

特點(diǎn)

高生產(chǎn)性

此裝置革新了運(yùn)送機(jī)器的結(jié)構(gòu)構(gòu)成（包括裝研究與應用、卸部件以及平臺(tái)速度和停止精度的提高），實(shí)現(xiàn)AF的高速化更高效，通過(guò)可變像素實(shí)現(xiàn)測(cè)長(zhǎng)區(qū)域的化的發生，從而縮短MAM時(shí)間，與以往相比影響，提高了約40%的處理能力。

高分辨率

此裝置通過(guò)改良電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)（降噪的過程中，改善邊緣銳度發展契機，圖像內(nèi)部暗部強(qiáng)調(diào)），改善了Image Sharpness促進進步。

長(zhǎng)期穩(wěn)定性

再現(xiàn)性
此裝置通過(guò)電子光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定化發力，以及增加計(jì)量類型，可以實(shí)現(xiàn)測(cè)長(zhǎng)區(qū)域的可設(shè)定性的可變像素迎來新的篇章，達(dá)到較高的再現(xiàn)性共創美好。
匹配
此裝置使用平臺(tái)上的專用樣品，通過(guò)開發(fā)的多種自動(dòng)校準(zhǔn)功能薄弱點，實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)期穩(wěn)定的匹配性能覆蓋範圍。
特別是顯著改善了CG5000同一型號(hào)間的機(jī)型差異，實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)線管理的穩(wěn)定化積極性。