VacCoat公司Vac Coat有限公司是高質(zhì)量定制物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商更加廣闊，客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色規劃。擁有25年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下可以使用，高度積極地開發(fā)新設(shè)計(jì)以滿足客戶的特殊要求進入當下。Vac Coat的工程團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。Vac Coat的真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)已通過遍布的分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心效高化，并得到了很好的參考和反饋新體系。
1投入力度、DSR1
儀器描述：
該產(chǎn)品為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu）長效機製，鈀（Pd）法治力量，鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜分享，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析共享。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制方式之一，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)生動，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高創新能力。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速
? 通過觸摸屏中直觀檢測(cè)數(shù)據(jù)和曲線新品技；歷史頁面可顯示300個(gè)歷史涂層信息。? 可控鍍膜速率求得平衡，可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)? 可手動(dòng)或自動(dòng)紮實做，根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射? 可聯(lián)網(wǎng)更新用戶友好軟件
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)至關重要、可傾斜臺上與臺下、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果技術發展。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
? 2英寸磁控管陰極
? 兩級(jí)直驅(qū)4m3/h旋片機(jī)械泵
? Pyrex樣品倉：外徑170mm集聚效應，高140mm，
? 尺寸：50(W) x 37(D) × 45(H) Cm
? 運(yùn)輸重量（包括真空泵）：42kg
? 電源：220V-240V重要手段，50 / 60HZ-10A
? 極限真空度：小于40 mTorr
? 電子控制快門
? 電子控制真空閥
2互動講、DCR
儀器描述：
DCR是一臺(tái)結(jié)構(gòu)緊湊的臺(tái)式鍍碳儀∠褚豢脴?？捎糜趻呙桦娮语@微鏡（SEM）過程中、透射電子顯微鏡（TEM）和能譜分析（EDX）制樣。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 可進(jìn)行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式能運用，與傳統(tǒng)鍍碳相比重要部署，碎屑顯著減少
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速；真空度工具、電流智慧與合力、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測(cè)；歷史頁面可顯示300個(gè)歷史涂層信息重要的角色。
? 可聯(lián)網(wǎng)更新用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖表
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)開放要求。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜平臺建設、可旋轉(zhuǎn)服務機製；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果貢獻力量。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
1、真空泵：二極直驅(qū)旋片機(jī)械泵（4m3/h)
2大幅拓展、極限真空度：小于50 mTorr
3發行速度、Pyrex 樣品倉：外徑170mm，140mm與時俱進，
4性能、0-25A脈沖直流開關(guān)電源
5、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H x W x D)
6綜合運用、電源：220V-240V供給，50 / 60HZ-10A
7、電子控制快門
8實事求是、精密真空壓力控制閥
9進行探討、USB數(shù)據(jù)傳輸端口
10、運(yùn)輸重量：46kg
3責任製、DSCR
儀器描述：
DSCR型臺(tái)式多功能鍍膜儀十分落實，是一臺(tái)緊湊型涂布系統(tǒng)，集離子濺射系統(tǒng)和鍍碳系統(tǒng)于一體規則製定。該系統(tǒng)能夠在不導(dǎo)電或?qū)щ娦圆畹臉悠飞蠟R射金（Au）擴大、鈀（Pd）、鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）等貴金屬發揮效力，并且可以在樣品上鍍上碳膜。
DSCR是一臺(tái)多功能掃描電子顯微鏡制樣設(shè)備明顯。全自動(dòng)操作選項(xiàng)使得即使是初學(xué)者安全鏈，也可以輕松使用系統(tǒng)，形象的用戶友好軟件創新為先，簡(jiǎn)化了對(duì)沉積信息的感知真正做到。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 精密可復(fù)制涂層：可重復(fù)膜厚沉積
? 高分辨率精細(xì)涂層（金顆粒可達(dá)2nm）
? 低壓濺射
? 無需冷卻系統(tǒng)
? 可進(jìn)行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式創新延展，與傳統(tǒng)鍍碳相比強化意識，碎屑顯著減少可使用雙碳纖維蒸鍍，用于厚層沉積
? 易于操作：7’’彩色觸摸屏直觀控制涂布過程基本情況，數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速
? 用戶友好的全自動(dòng)及半自動(dòng)控制軟件
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)現場。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜力量、可旋轉(zhuǎn)我有所應；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
1深入實施、真空泵：二極直驅(qū)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵（4m3/h)
2至關重要、Pyrex 樣品倉：外徑170mm發展空間，140mm，
3有所應、儀器尺寸：45（H）x50（W）37×（D）Cm
4足了準備、2英寸磁控管陰極
5、極限真空度：小于50 mTorr
6著力提升、電子控制快門
7深刻內涵、自動(dòng)控制泄露閥
8、電源：220V-240V, 50/60HZ- 10A
9重要意義、80W直流開關(guān)電源
10交流等、運(yùn)輸重量：42kg
4、DST1-170
產(chǎn)品描述：
DST1-170是一臺(tái)結(jié)構(gòu)緊湊的臺(tái)式磁控離子濺射儀各方面。適用于金屬材料濺射防控，包括惰性金屬以及氧化性金屬，DST1-170配有直徑為2英寸的磁控管陰極適應性。在較短時(shí)間內(nèi)即可形成晶粒尺寸均勻的薄膜堅實基礎。
DST1-170高真空濺射儀，可提供高質(zhì)量的均勻薄膜重要作用，具有較細(xì)的晶粒尺寸等地，十分適用于樣品的高分辨和高品質(zhì)表征，如FE-SEM尤為突出、EDS/WDS規定、TEM和EBSD，也可應(yīng)用于科研和各種薄膜的應(yīng)用研究中空間載體，如：納米和微電子高質量、太陽能電池應(yīng)用、光學(xué)元件涂層合薄膜傳感器等重要組成部分。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）+二級(jí)旋片式真空泵的前級(jí)泵流程，為儀器提供了潔凈的高真空，減少了污染勃勃生機。
? 涂層速率可控助力各業，可獲得更細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)
? 可手動(dòng)或自動(dòng)，根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速提供有力支撐；真空度應用、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測(cè)品率；歷史頁面可顯示300個(gè)歷史涂層信息臺上與臺下。
? 觸摸屏直觀地控制涂布過程，數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速
? 可通過網(wǎng)絡(luò)更新的用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)技術發展。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)集聚效應、可傾斜集成、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果互動講。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
1穩定性、高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）
2、二極直驅(qū)旋片機(jī)械泵（4m3/h)
3過程中、極限真空：小于5x10-6 Torr
4非常完善、獨(dú)立于壓力自動(dòng)控制濺射功率
5、全量程真空計(jì)（Leybold）
6全面革新、ISO-KF 63蝶形閥
7作用、80 W直流電源
8、電子控制快門
9行業分類、電控氬氣泄漏閥
10技術特點、設(shè)施：220V-240V，50/60HZ-16A
11發展邏輯、運(yùn)輸重量：36kg
5凝聚力量、DCT
產(chǎn)品描述：
DCR是一臺(tái)裝有渦輪泵的碳鍍儀，可提供細(xì)粒度均勻的高質(zhì)量碳膜聽得進，適用于需要高分辨率和高質(zhì)量表征的樣品新的力量，尤其適合FE-SEM，EDS/WDS便利性，TEM全面展示，EBSD和薄膜應(yīng)用研究等。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 可進(jìn)行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式深刻認識，與傳統(tǒng)鍍碳相比核心技術，碎屑顯著減少
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速；真空度高效、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測(cè)要素配置改革；歷史頁面可顯示300個(gè)歷史涂層信息體系。
? 可聯(lián)網(wǎng)更新用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖表
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)帶動產業發展、可傾斜責任製、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 可選用碳棒蒸發(fā)源及適配大電流電源
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
1倍增效應、高真空渦輪分子泵90 l/s Leybold
2規則製定、二級(jí)旋片式真空泵作為分子泵前級(jí)泵
3、全量程真空計(jì)
4優化服務策略、真空倉：外徑170mm關規定，140mm
5發展基礎、0-25A脈沖直流開關(guān)電源
6、極限真空度：小于50×10-6 Torr
7迎難而上、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H × W × D)
8積極、電源：220V-240V，50 / 60HZ-10A
9堅持先行、用于精確控制真空壓力的精密計(jì)量閥
10產業、電子控制快門
11、涂層參數(shù)實(shí)時(shí)圖
12情況較常見、USB數(shù)據(jù)傳輸端口
13可持續、運(yùn)輸重量：46kg
6、DSCT
產(chǎn)品描述：
DSCT是一臺(tái)多功能的涂布系統(tǒng)體製，集濺射鍍膜機(jī)和纖維碳鍍膜機(jī)于一體：在一臺(tái)儀器中具有可互換的磁頭構建。
DSCT高真空鍍膜機(jī)，可提供晶粒尺寸很細(xì)的高質(zhì)量均勻薄膜探討，適用于需要高分辨率和高質(zhì)量表征的樣品不負眾望，如FE-SEM、EDS/WDS調解製度、TEM和EBSD精準調控。
DSCT具有2''磁控管陰極，80w直流開關(guān)電源和碳蒸發(fā)大電流電源應用的因素之一，也可用于科研及不同薄膜的應(yīng)用研究中解決。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
? 高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）+二級(jí)旋片式真空泵的前級(jí)泵，為儀器提供了潔凈的高真空敢於監督，減少了污染幅度。
? 涂層速率可控，可獲得更細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)
? 可進(jìn)行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式重要的作用，與傳統(tǒng)鍍碳相比貢獻，碎屑顯著減少
? 可手動(dòng)或自動(dòng)，根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速穩中求進；真空度統籌、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測(cè)協同控製；歷史頁面可顯示300個(gè)歷史涂層信息振奮起來。
? 觸摸屏直觀地控制涂布過程，數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速
? 可通過網(wǎng)絡(luò)更新的用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測(cè)儀（精度可達(dá)1nm）
? 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)利用好。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)深入各系統、可傾斜、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來更好的噴金效果預下達。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標(biāo)準(zhǔn)
產(chǎn)品參數(shù)：
1的有效手段、極限真空：小于5×10-6 Torr
2、獨(dú)立于壓力自動(dòng)控制濺射速率
3責任、用于精確控制真空壓力的精密質(zhì)量流量計(jì)（MFC）
4應用情況、可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
5、設(shè)施：220V-240V組建，50/60HZ-16A
6表現、運(yùn)輸重量：42kg
