參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì) 代理商
更新時(shí)間 2023/2/14 10:39:16
訪問(wèn)次數(shù) 521

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品點(diǎn)擊查看聯(lián)系電話

索取相關(guān)資料

促銷詳情

促銷時(shí)間：

特價(jià)說(shuō)明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化結構重塑，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連行動力，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離提供有力支撐，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序保供，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化自行開發，降低對(duì)人的依賴。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

Quattro SEM為具有環(huán)境真空功能的極靈活責任、多功能高分辨率掃描電鏡應用情況，可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式（ESEM）相結(jié)合，使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。

Quattro的場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG）確保了優(yōu)異的分辨率表現，通過(guò)不同的探測(cè)器選項(xiàng)特點，可以調(diào)節(jié)不同襯度信息，包括定向背散射結論、STEM和陰極熒光信息和諧共生。來(lái)自多個(gè)多個(gè)探測(cè)器和探測(cè)器區(qū)分的圖像可以同步采集和顯示，使得單次掃描即可獲得樣品信息適應性強，從而降低電子束敏感樣品的束曝光并實(shí)現(xiàn)真正額動(dòng)態(tài)試驗(yàn)技術交流。Quattro的三種真空模式使得系統(tǒng)靈活性，可以容納泛的樣品類型相對較高，無(wú)論樣品導(dǎo)電資源配置、絕緣、潮濕或是在高溫條件下相關，均可獲得可靠的分析結(jié)果大力發展。Quattro的硬件有用戶向?qū)еС郑粌H可以指導(dǎo)操作者綠色化，還可以直接進(jìn)行交換不同需求，輕松縮短結(jié)果獲取時(shí)間。

金屬及合金保持穩定、斷口總之、焊點(diǎn)、拋光斷面支撐作用、磁性及超導(dǎo)材料
陶瓷研學體驗、復(fù)合材料、塑料
薄膜/涂層
地質(zhì)樣品斷面最為突出、礦物
軟材料：聚合物落實落細、藥物、濾膜高效化、凝膠製高點項目、生物組織、植物材料
顆粒範圍和領域、多孔材料有所增加、纖維
水合/脫水/濕潤(rùn)/接觸角分析
結(jié)晶/相變
氧化/催化
材料生成
拉伸（伴隨加熱或冷卻）

發(fā)射源：高穩(wěn)定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍

分辨率：

型號(hào)	Quattro C	Quattro S
高真空
30 kV（STEM）	0.8 nm
30 kV（SE）	1.0 nm
1 kV（SE）	3.0 nm
高真空下減速模式
1 kV（BD+BSED）	3.0 nm
1 kV（BD+ICD）	2.1 nm
200 V（BD+ICD）	3.1 nm
低真空
30 kV（SE）	1.3 nm
3 kV（SE）	3.0 nm
30 kV（BSE）	2.5 nm
環(huán)境掃描模式
30 kV（SE）	1.3 nm

放大倍率：6 ~ 2,500,000×
加速電壓范圍：200 V ~ 30 kV
著陸電壓：20 eV~30 keV，電子束減速可選
探針電流范圍：1 pA ~ 200 nA更高要求，連續(xù)可調(diào)

X-Ray工作距離：10mm越來越重要的位置，EDS檢出角35°
樣品室：從左至右為340mm寬的大存儲(chǔ)空間，樣品室可拓展接口數(shù)量12個(gè)共同學習，含能譜儀接口3個(gè)（其中2個(gè)處于180°對(duì)角位置）

樣品臺(tái)和樣品：

探測(cè)器系統(tǒng)：

同步檢測(cè)多達(dá)四種信號(hào)順滑地配合，包括

樣品室高真空二次電子探測(cè)器ETD
低真空二次電子探測(cè)器LVD
氣體SED（GSED深入，用于環(huán)境掃描模式）
樣品室內(nèi)IR-CCD紅外相機(jī)（觀察樣品臺(tái)高度）
樣品導(dǎo)航彩色光學(xué)相機(jī)Nav-Cam™
珀?duì)柼_(tái)集成式STEM，用于觀察濕薄樣品- WetSTEM™

控制系統(tǒng)：
操作系統(tǒng)：64位GUI（Windows 7）前沿技術、鍵盤基礎、光學(xué)鼠標(biāo)
圖像顯示：24寸LCD顯示器，WUXGA 1920×1200
定制化的圖像用戶界面多種方式，可同時(shí)激活多達(dá)四個(gè)視圖
導(dǎo)航蒙太奇
軟件支持Undo和Redo功能

在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行預(yù)案為研究先進技術，具有環(huán)境真空模式（ESEM）的高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡；

縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析不合理波動，樣品表面無(wú)荷電累積；
在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品重要工具，同步獲取二次電子像和背散射電子像積極拓展新的領域；
的分析性能，樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測(cè)器更優質，其中2個(gè)EDS端口分開180°相對開放、WDS和共勉EDS/EBSD;
針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)低真空模式下的精確EDS和EBSD分析；
靈活脫穎而出、精確的優(yōu)中心樣品臺(tái)拓展應用，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品結構；
軟件直觀管理、簡(jiǎn)便易用，并配置用戶向?qū)Ъ癠ndo（撤銷）功能能力建設，操作步驟減少模樣，分析更快速；
全新創(chuàng)新選項(xiàng)服務，包括可伸縮RGB陰極熒光（CL）探測(cè)器很重要、1100℃高真空熱臺(tái)和AutoScript；