納米壓印技術(shù)突破了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過程中的難題可以使用，具有分辨率高進入當下、低成本、高產(chǎn)率的特點(diǎn)效高化。自1995年提出以來新體系，納米壓印已經(jīng)經(jīng)過了14年的發(fā)展，演變出了多種壓印技術(shù)創造，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造長效機製、mems、生物芯片全技術方案、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域分享，被譽(yù)為改變?nèi)祟惖募夹g(shù)之一。
NIL壓印機(jī)的基本思想是通過模版信息化，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上方式之一，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形新型儲能。整個(gè)過程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個(gè)過程創新能力。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）範圍、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing求得平衡， uCP）三種光刻技術(shù)。
二空間廣闊、 功能
l 主要功能
納米壓印機(jī)的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上至關重要，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形服務品質。壓印技術(shù)主要分為以下兩種：
熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）技術發展。升溫并達(dá)到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下集成，將具有納米尺度的模具壓在上面重要手段，并施加適當(dāng)?shù)膲毫Γ瑹崴苄圆牧蠒?huì)填充模具中的空腔穩定性，模壓過程結(jié)束后像一棵樹，溫度降低使熱塑性材料固化，從而得到與模具的重合的圖形去突破。隨后移去模具能運用，并進(jìn)行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物。接下來進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法工具≈腔叟c合力？涛g技術(shù)以熱塑性材料為掩膜，對(duì)其下面的襯底進(jìn)行各向異性刻蝕重要的角色，從而得到相應(yīng)的圖形開放要求。剝離工藝先在表面鍍一層金屬，然后用有機(jī)溶劑溶解掉聚合物平臺建設，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離服務機製，從而在襯底上有金屬作為掩膜，隨后再進(jìn)行刻蝕得到圖形使用。
紫外壓哟蠓卣?。?/span>為了改善熱壓印中熱變形的缺點(diǎn)，特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進(jìn)-閃光壓痈訄詮?。⊿tep- Flash Imprint Lithography）與時俱進，這種工藝中采用對(duì)紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模），光阻膠采用低粘度初步建立，光固化的單體溶液綜合運用。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上，結(jié)合微電子工藝的方法，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法實事求是，用很低的壓力將模版壓到晶圓上，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔落到實處。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型服務水平。最后刻蝕殘留層和進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移，得到高深寬比的結(jié)構(gòu)倍增效應。最后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過程同熱壓工藝類似規則製定。
l 技術(shù)特點(diǎn)
★主機(jī)包含：真空系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)多樣性，壓力控制系統(tǒng)發揮效力，水冷系統(tǒng)新格局，PLC 控
制系統(tǒng)明顯，軟件操作界面，紫外光源顯示，單面電磁加熱系統(tǒng)
設(shè)備壓印尺寸：6 英寸創新為先。
設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)熱壓印、紫外曝光壓印
★壓力：8bar（空壓機(jī)）科普活動，20bar（外接超凈室氣源）
溫度范圍：從室溫到 250 攝氏度創新延展。
紫外光源類型：高壓汞燈：功率：400W，主波長(zhǎng)：365nm。
★設(shè)備真空度：10 帕基本情況。
★設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供全系列的納米壓印膠現場，包括：
熱壓膠、紫外光固化膠
深刻蝕型壓印膠力量、舉離型（Lift-Off）壓印膠
快速模板制作材料我有所應、各類模板防沾劑、襯底增粘劑等
★隨設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供定制納米壓印模板深入實施，包括：周期 400nm的 4英寸點(diǎn)陣模板鎳模板 SFP® & Hybrid Mold®軟模板
支持 20nm 分辨率及曲面壓印至關重要，并提供文獻(xiàn)工藝支持，
★支持自動(dòng)脫模效果，電磁加熱功能
國(guó)內(nèi)外大于 10 個(gè)客戶
★工藝包括：
納米壓印膠旋涂工藝支持
納米壓印模板防粘工藝支持有所應，避免脫模粘膠影響
納米壓印機(jī)參數(shù)調(diào)節(jié)
軟模板工藝，包括 PDMS 模板合作關系、SFP 以及 Hybrid Mold 工藝
ICP 刻蝕工藝
柔性聚合物襯底壓印工藝著力提升，Nickel Template 金屬鎳模板熱壓 PET、PMMA 等
舉離（Lift-off）工藝支持傳遞，加工金屬結(jié)構(gòu)
納米壓印表征技術(shù)
更新壓印工藝研發(fā)指導(dǎo)重要意義，文獻(xiàn)支持
l 技術(shù)能力
該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年，在納米壓印技術(shù)發(fā)明人更加廣闊、 美國(guó)普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室作為研究助理進(jìn)行了為期 3 年的研究工作規劃，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料，對(duì)納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻(xiàn)成效與經驗。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開展研究工作適應性，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料，發(fā)展了新型高分子壓印模板稍有不慎，提出了曲面納 米壓印技術(shù)重要作用；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用”項(xiàng)目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備最為顯著，現(xiàn)已成為產(chǎn)品尤為突出，并被南京大學(xué)、北京航空航天大學(xué)環境、國(guó)防科技大學(xué)空間載體、黑龍江大學(xué)、中科院深圳研究院等多家高校和科研機(jī)構(gòu)所采用相對簡便，形成了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù)重要組成部分，申請(qǐng)和獲得了多項(xiàng)中國(guó)專用與美國(guó)專用，技術(shù)水準(zhǔn)與當(dāng)前國(guó)際該領(lǐng)域水平同步合作。
