高精度自動脫模UV機(jī)
納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou,針對傳統(tǒng)光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是：將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過一定壓力真諦所在，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi)指導，待高分子材料冷卻，納米結(jié)構(gòu)定型充分，移去模板進一步完善，然后再通過等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。 過程如下圖所示：
由于熱壓印需要采用較高壓力競爭力，容易損壞模板調整推進，不利于模板多次使用，并且由于材料和襯底熱系數(shù)并不相同機製性梗阻，容易造成納米結(jié)構(gòu)缺陷機製，于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設(shè)備主要原理是：使用低粘度生產效率，流動性好的聚合物滴到基板上使命責任，利用液體*的毛細(xì)現(xiàn)象效果，使光刻膠充滿模板使用，然后通過紫外光照射使其固化，然后脫模密度增加，刻蝕主要抓手。過程如下圖所示
到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來多種類型，典型的包括熱塑壓印技術(shù)構建、紫外固化壓印創新科技、微接觸納米壓印服務延伸、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。
為了滿足市場日益增長對納米壓印的需求具有重要意義，上海昊量推出了UV納米壓印機(jī)進一步。
該設(shè)備是基于紫外固化的納米壓印機(jī)，可提供2英寸強大的功能；4英寸和6英寸不等的壓印尺寸實際需求。分辨率可做到由于10nm，并且擁有99%產(chǎn)率優勢。
該設(shè)備的之處是已獲得zuanli的自動脫模技術(shù)善謀新篇。該設(shè)備可以通過軟件調(diào)節(jié)納米壓印腔體內(nèi)外的壓力，是模板從襯底上自動脫模便利性。并且可避免分離過程中造成基底和模板的損壞方法。
該產(chǎn)品擁有以下優(yōu)勢：
l 分辨率優(yōu)于10μm，產(chǎn)率優(yōu)于99%
l 同時適用于軟模和剛性模板
l 自動脫模提供有力支撐，防止模板和基板損壞
l 可壓印不同尺寸的模板和基片切實把製度，方便靈活
l 可編程的PLC觸屏界面
l 對準(zhǔn)選項
應(yīng)用實(shí)例：
產(chǎn)品參數(shù)：
| AUV-200 | AUV-400 | AUV-600 |
Substrate size | 2 inch standard | 4 inch standard | 6 inch standard |
Imprint area | Same as wafer size |
Imprint pressure | 1 psi standard |
UV exposure time | 2-3 min at 95% intensity level |
