材料光學性能測試儀 型K. RM-FX2
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- 公司名稱 北京卓樂康科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 北京市
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2015/12/8 10:00:01
- 訪問次數(shù) 488
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本儀器為光學儀器是檢測太陽能真空管,太陽能集熱器及高新材料共同學習、涂料順滑地配合、顏料、建筑等行業(yè)精確測量而研制的儀器效高,它可用于各種太陽能真空管前沿技術,太陽能集熱器涂層、漆膜性能、油脂多種方式、簿膜、塑料制品技術創新、有機制品反射率和吸收率的測量深入交流研討。同時亦可作為可見光、紫外廣泛應用、紅外等光譜的測定(即相同光源不同材料的測定或者相同材料不同光源的測定)關註度。
工作原理 | ||||||||||||||||||||||||||||||
所謂反射是指選擇反射,非透明體受到光照射后更優質,由于其表面分子結構差異而形成選擇性吸收相對開放,從而將可見光譜中某一部分波長的輻射能吸收了,而將剩余的色光反射出來脫穎而出,這種物體稱為非透過體或反射體拓展應用。本儀器就是利用此原理,采用光電轉(zhuǎn)換感應原理結構,它與多功能數(shù)字感應器配接使用管理,均能精確的測量出不同材料的反射率和不同光源的光譜范圍。儀器的感應元件采用了繞線電鍍式多接點熱點堆能力建設,其表面涂有高吸收率的涂層模樣,感應元件的熱接點在感應面上,而冷接點位于一起的機體內(nèi)服務,以便直接取環(huán)境溫度很重要。為了防止熱接點單方向通過玻璃罩與環(huán)境進行熱交換影響測量精度,采用了兩層玻璃罩覆蓋。當有光波通過反射片反射過來的時候異常狀況,接受儀的冷熱接點就會產(chǎn)生溫差即產(chǎn)生電勢值研究,也就是將光信號轉(zhuǎn)換為電信號輸出,在線性誤差范圍內(nèi)應用創新,輸出的信號與光波通過反射片反射出的光照度成正比提高。光的鏡面反射與粗糙面反射示意圖如下: | ||||||||||||||||||||||||||||||
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三、儀器組成 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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四的特性、主要技術參數(shù) | ||||||||||||||||||||||||||||||
1.測量范圍:0-*交流; 2.重復精度:0.3%; 3.環(huán)境溫度:23℃±5℃提供堅實支撐; 4.相對濕度:<85%還不大; 5.電源:220V±10%; 6.ZLK.RM-FX2材料光學性能測試儀簡單化,采用高性能微處理器為主控CPU力度,大容量數(shù)據(jù)存儲器明確了方向,可連續(xù)存儲正點數(shù)據(jù)100天以上系統性,數(shù)據(jù)采樣率高于0.5秒/通道,工業(yè)控制標準設計單產提升,便攜式防震結構就此掀開,大屏幕漢字液晶顯示屏,輕觸薄膜按鍵今年,操作簡單穩步前行。適合在惡劣工業(yè)環(huán)境使用。具有停電保護功能動手能力,當交流電停電后逐步改善,由充電電池供電,可維持48小時以上提升。 6.1外觀尺寸:金屬外殼350×150×300(mm)大大提高; 6.2數(shù)據(jù)存儲容量:3000條數(shù)據(jù); 6.3數(shù)據(jù)存儲內(nèi)容:時間研究成果,總輻射瞬時功率取得了一定進展,反射輻射的瞬時功率,反射率大面積,吸收率積極參與,透光率; 6.4顯示內(nèi)容:時間培養,總輻射瞬時功率交流研討,反射輻射的瞬時功率,反射率形式,吸收率建設應用,透光率資源配置; 6.5標準RS232接口與管理微機有線連接,實時傳送采集數(shù)據(jù)相關,并可下載數(shù)據(jù)存入微機大力發展; 7.材料光學性能分析軟件在windows98以上環(huán)境即可運行,實時顯示各路數(shù)據(jù)生產效率,每隔10秒更新一次產能提升,檢測數(shù)據(jù)自動存儲(存儲時間可以設定),實時顯示測試結果節點,自動計算并繪制反射率通過活化,吸收率,透光率曲線圖的特點,顯示材料對紫外光健康發展,可見光,紅外光的反射吸收比例與打印機相連自動打印系統,數(shù)據(jù)存儲量達十年以上非常重要,數(shù)據(jù)存儲格式為EXCEL標準格式可供其它軟件調(diào)用。 8.光輻射傳感器采用專業(yè)光輻射原理設計空間廣闊,一套分三種光接收器(光譜范圍:280---3000nm營造一處,400---3000nm,700---3000nm)知識和技能,可測試材料對紫外(280—400nm)取得顯著成效,可見(400—700nm),紅外光(700—3000nm)的反射率實現,吸收率不容忽視,透光率; 8.1 測量范圍:0----2000W服務體系; 8.2 測量精度:小于5%說服力; 8.3 分辨率:1W; 8.4 光譜范圍:A:280---3000nm問題, B:400---3000nm逐漸顯現, C:700---3000nm。 | ||||||||||||||||||||||||||||||
五系統穩定性、ZLK.RM-FX2材料光學性能測試儀配置 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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