二氧化硅支持膜二氧化硅支持膜是在200um厚的硅片上生長40問題、18或8nm厚二氧化硅膜逐漸顯現，3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜，膜厚分為40nm系統穩定性，18nm和8nm拓展基地，孔徑大小/數(shù)量：40 nm時50 x 50µm / 24孔，18nm時60 x 60µm / 24孔實力增強，8nm時70 x 70µm / 24孔體系流動性。表面粗糙度：RMS（Rq）為0.65nm，平均粗糙度（Ra）為0.41 nm帶來全新智能。應(yīng)用領(lǐng)域：納米材料的沉積和生長積極拓展新的領域。薄膜分析和表征。催化劑的研發(fā)更優質。支持FIB薄片相對開放。半導(dǎo)體材料的表征。研究附著的生物分子領域。貨號21530-10到21532-10. 分類： 支持膜, 電鏡耗材

描述

二氧化硅支持膜是在200um厚的硅片上生長40溝通機製、18或8nm厚二氧化硅膜，3mm氮化硅片上0.5 x 0.5mm窗口上的二氧化硅膜註入新的動力，膜厚分為40nm領先水平，18nm和8nm，孔徑大小/數(shù)量：40 nm時50 x 50µm / 24孔雙重提升，18nm時60 x 60µm / 24孔戰略布局，8nm時70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）為0.65nm表現明顯更佳，平均粗糙度（Ra）為0.41 nm狀態。應(yīng)用領(lǐng)域：納米材料的沉積和生長。薄膜分析和表征指導。催化劑的研發(fā)廣泛認同。支持FIB薄片國際要求。半導(dǎo)體材料的表征。研究附著的生物分子鍛造。貨號21530-10到21532-10.