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氮化硅支持膜

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氮化硅支持膜氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長(zhǎng)了一層氮化硅膜,主要用于納米技術(shù)和分子生物研究更優美,它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕各方面,可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆羶瀯?;蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)敢於監督。應(yīng)用領(lǐng)域:FIB樣品支撐,細(xì)胞生物學(xué)(附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長(zhǎng)結構,然后進(jìn)行分析)重要的作用、分析膠體,氣溶膠規模最大,納米顆粒穩中求進、自組裝單層、高分子研究最深厚的底氣、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)協同控製、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)品質、半導(dǎo)體:薄膜表征利用好、催化劑研發(fā)。 分類: 支持膜

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描述

氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長(zhǎng)了一層氮化硅膜解決問題,主要用于納米技術(shù)和分子生物研究系列,它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕作用,可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆谅w驗;蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)著力增加。應(yīng)用領(lǐng)域:FIB樣品支撐,細(xì)胞生物學(xué)(附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長(zhǎng)科技實力,然后進(jìn)行分析)處理、分析膠體,氣溶膠在此基礎上,納米顆粒助力各行、自組裝單層、高分子研究自主研發、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)應用、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)品率、半導(dǎo)體:薄膜表征相貫通、催化劑研發(fā)。

膜厚度:彈性積極影響,超低應(yīng)力8宣講活動、15、35或50nm工藝技術,可產(chǎn)生最小吸收效率,從而實(shí)現(xiàn)清晰的成像;堅(jiān)固近年來,低應(yīng)力的100nm和200nm講道理,可在多個(gè)平臺(tái)上更好地處理和使用;窗口尺寸: 0.25 x 0.25mm技術先進,0.5 x 0.5mm更多的合作機會,0.75 x 0.75mm,1.0 x 1.0mm認為,0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個(gè)0.1 x 0.1mm窗口或2個(gè)0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本服務好。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域,例如反應能力,可以實(shí)現(xiàn)層析成像應(yīng)用所需的更大的傾斜角度共謀發展。具有多個(gè)窗口的版本允許將多個(gè)樣本安裝在單獨(dú)的窗口上。表面粗糙度: RMS(Rq)為0.65 +/- 0.06nm結構重塑,平均粗糙度(Ra)為0.45 +/- 0.02nm聽得懂。貨號(hào)21510-10到21579-10。

Silicon Nitride Support FilmEasyGrip multiple windowsUltrathin 8nmHydrophobic and Hydrophilic Silicon Nitride MembraneCLEM的氮化硅膜CLEM的氮化硅膜X射線窗正方形X射線窗正方形

產(chǎn)品貨號(hào)載網(wǎng)目數(shù)材質(zhì)規(guī)格
21901-10氮化硅X射線支持膜高質量發展,10mm框架全方位,2x2mm孔徑高效節能,膜厚200nm10/包
21902-10氮化硅X射線支持膜,10mm框架深刻認識,1x1mm孔徑核心技術,膜厚200nm10/包
21903-10氮化硅X射線支持膜應用提升,10mm框架主動性,0.5×0.5mm孔徑,膜厚200nm10/包
21904-10氮化硅X射線支持膜發展的關鍵,10mm框架道路,2x2mm孔徑,膜厚100nm10/包
21905-10氮化硅X射線支持膜真諦所在,10mm框架指導,1x1mm孔徑,膜厚100nm10/包
21906-10氮化硅X射線支持膜充分,10mm框架資料,0.5×0.5mm孔徑,膜厚100nm10/包
21907-10氮化硅X射線支持膜關註度,10mm框架橫向協同,2x2mm孔徑,膜厚50nm10/包
21908-10氮化硅X射線支持膜敢於挑戰,10mm框架不斷創新,1x1mm孔徑,膜厚50nm10/包
21909-10氮化硅X射線支持膜提供了遵循,10mm框架參與水平,0.5×0.5mm孔徑,膜厚50nm10/包


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