低溫催化-高溫除氮型純化系統(tǒng)

此純化系統(tǒng)使用自制催化劑,此催化劑使用壽命長(zhǎng)精準調控，純化深度高，抗原料氣瞬間波動(dòng)能力強(qiáng);采用物理吸附和化學(xué)反應(yīng)工藝應用的因素之一，先在室溫下將惰性氣體和氫氣（H2）中大量雜質(zhì)H2O解決、O2、CO敢於監督、CO2脫除幅度，然后再通過(guò)高溫吸氣塔將殘余的雜質(zhì)及N2脫除，使出口純氣雜質(zhì)除到1ppb以下 重要的作用。此設(shè)備具有使用壽命長(zhǎng)貢獻，操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

產(chǎn)品性能

◎適合與不低于99.999%純度的原氣配合使用穩中求進。                              

◎此產(chǎn)品為雙式結(jié)構(gòu)統籌，一組工作，另一組再生備用                            

◎純化深度高協同控製，出口各種雜質(zhì)含量＜1ppb    

◎電化學(xué)拋光316（L）不銹鋼                    

◎內(nèi)置0.003微米高效過(guò)濾器

◎此純化器配置有預(yù)純化塔振奮起來，在貴重消耗型吸氣劑塔之前除去大量的雜質(zhì)，這樣能延長(zhǎng)貴重消耗型吸氣劑的使用壽命

產(chǎn)品應(yīng)用 

◎高純單晶硅利用好、晶片外延深入各系統、大規(guī)模集成電路、光電產(chǎn)品生產(chǎn)等電子工業(yè)氣體終端純化                      

◎半導(dǎo)體工藝設(shè)備：CVD系列、MOCVD作用、HVPE、擴(kuò)散爐等  

◎大宗氣體純化

系統(tǒng)參數(shù)