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日本electron臺(tái)式快速涂布機(jī)SC-708系列

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日本electron臺(tái)式快速涂布機(jī)SC-708系列
離子濺射設(shè)備改進措施,用于大型基材的全涂層
濺射靶材的尺寸為1英寸,例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'積極性。
在形成微通道流動(dòng)路徑以及濺射薄膜制造時(shí)支持PDMS表面處理
配備涂布模式/蝕刻模式

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日本electron臺(tái)式快速涂布機(jī)SC-708系列

 

 

特征

  • 離子濺射設(shè)備奮勇向前,用于大型基材的全涂層
  • 濺射靶材的尺寸為1英寸,例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'實施體系。
  • 在形成微通道流動(dòng)路徑以及濺射薄膜制造時(shí)支持PDMS表面處理
  • 配備涂布模式/蝕刻模式
 

應(yīng)用/結(jié)果示例

  • 各種設(shè)備的電極膜附件
  • 反光膜的制造應(yīng)用
  • 樣品表面親水處理的應(yīng)用(蝕刻模式)
  • PDMS表面處理應(yīng)用程序(蝕刻模式)等
 

基本規(guī)格

陰極φ4-8英寸/ 2極電極
濺射電流
蝕刻電流
0-50mA(包括電流表)
濺射電壓
蝕刻電壓
0.8 / 1.4kV
氣體導(dǎo)入機(jī)制針閥
真空泵直連式旋轉(zhuǎn)泵:100l / min(有自動(dòng)泄漏)
箱體尺寸內(nèi)徑φ240mmx D240mm(SUS制)
樣品交換方法前門開合式
樣本量大φ4?8英寸
尺寸(寬/深/高)主體:282/450 / 440mm 
RP:460/175 / 265mm
重量身體:約20kg 
RP:23kg
 
  

特殊規(guī)格示例

SC-704AT
SC-704AT
薄膜厚度可控的全自動(dòng)模型
 SC-704MC
采用SC-704MC
磁控管陰極模型
(無蝕刻/交流濺射功能)

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