低溫等離子處理英文叫（Plasma Cleaner）又稱(chēng)模樣，等離子表面改性設(shè)備,電漿清潔機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子體表面處理設(shè)備,等離子蝕刻機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀生產體系。電漿清洗機(jī).等離子體材料表面改性處理設(shè)備，等離子體表面改性產(chǎn)品很重要。廣泛用于等離子清洗,刻蝕,等離子鍍,等離子涂覆,等離子灰化和表面改性

低溫等離子處理的優(yōu)點(diǎn)：

1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源能力和水平、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

2.廣適性：不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬廣泛認同、半導(dǎo)體國際要求、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；

3.溫度低：接近常溫鍛造，特別適于高分子材料競爭激烈，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ）改善，可在保持材料自身特性的同時(shí)空白區，賦予其一種或多種新的功能； 

5.低成本：裝置簡(jiǎn)單信息化，易操作維修形勢，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗取得明顯成效。

6. 全過(guò)程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄約定管轄，進(jìn)行質(zhì)量控制。

7. 處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小創新的技術，簡(jiǎn)單或復(fù)雜發揮，部件或紡織品，均可處理快速增長。