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日立高新離子研磨裝置IM4000

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日立高新離子研磨裝置IM4000主要特點:1. 即可進行截面切割組建,也可進行平面研磨表現;2. 加工效率更高,截面約500μm/h深刻變革;3. 程序控制間歇式加工結論;4. 通過制冷功能可以對受熱易損…

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日立高新離子研磨裝置IM4000


主要特點:日立高新離子研磨裝置IM4000

1. 即可進行截面切割,也可進行平面研磨質生產力;

2. 加工效率更高適應性強,截面約500μm/h;

3. 程序控制間歇式加工先進的解決方案;

4. 通過制冷功能可以對受熱易損傷的樣品進行加工

 

應用領(lǐng)域:

1.      LED拓展、PCB等半導體行業(yè);

2.      頁巖氣宣講活動;

3.      高分子材料

 日立高新離子研磨裝置IM4000
                    刀片切割方式制樣                                                     IM4000 plus離子研磨截面切割
樣品:彩色打印用紙截面(多層結(jié)構(gòu))
放大倍率:1萬倍

 日立高新離子研磨裝置IM4000
                        沒使用制冷研磨                                                           使用制冷研磨
樣品:鋰電池隔膜截面    
放大倍率:2萬倍

 日立高新離子研磨裝置IM4000
                        機械拋光處理后                                                   IM4000 plus離子研磨平面處理
樣品:金線焊接處截面          
放大倍率:1萬倍



 

 



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