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X-ray應(yīng)用薄膜窗口(X-RayWindows)

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X-ray應(yīng)用薄膜窗口(X-Ray Windows)

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有兩種薄膜分享,低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度共享,適合高溫和差壓環(huán)境;G-FLAT™氧化硅膜平坦無(wú)褶皺方式之一,非常適合x射線顯微鏡和需要無(wú)氮?dú)獗尘暗姆治錾鷦?。這些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學(xué)技術(shù)的理想襯底,經(jīng)過(guò)等離子清洗創新能力,無(wú)有機(jī)污染新品技。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場(chǎng)到場(chǎng)可變性和高x射線透射性求得平衡。

G-FLAT™氧化硅膜窗口紮實做,適合生物成像研究,具有玻璃狀親水表面至關重要。外框硅材質(zhì)提供深度撮合服務,外框大小5*5mm,框厚310µm的發生,膜厚度300nm組成部分。無(wú)褶皺,與超高真空(UHV)應(yīng)用兼容重要手段。

        LPCVD氮化硅膜窗口互動講,外框大小5*5mm,框厚320µm研究與應用,200 MP 低應(yīng)力無(wú)孔氮化硅飛躍。

產(chǎn)品信息:

貨號(hào)

產(chǎn)品描述

窗口(Sq.)

膜厚

規(guī)格

76042-10

G-FLAT™ SiO X-Ray Window

500µm

100nm

20/pk

76042-11

G-FLAT™ SiO X-Ray Window

500µm

300nm

20/pk

76042-12

Silicon Nitride X-Ray Window

500µm

50nm

20/pk

76042-13

Silicon Nitride X-Ray Window

1000µm

50nm

20/pk

76042-14

Silicon Nitride X-Ray Window

500µm

100nm

20/pk

76042-15

Silicon Nitride X-Ray Window

1000µm

100nm

20/pk

76042-16

Silicon Nitride X-Ray Window

1500µm

200nm

20/pk

76042-17

Silicon Nitride X-Ray Window

2500µm

200nm

20/pk

 


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