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EMS300RT大樣品離子濺射鍍膜儀(LargeChamberSputterCoaters)

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EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀(Large Chamber Sputter Coaters)

詳細(xì)信息 在線詢價

    適合SEM(掃描電鏡)順滑地配合、FE-SEM(場發(fā)射掃描電鏡)、TEM(透射電鏡)效高。

    EMS300R T EMS150R T相似前沿技術,明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大,達(dá)到283mm性能,采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空多種方式;此外,它配備三個獨立的濺射頭技術創新,確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果深入交流研討。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀廣泛應用、鉑等。(注意:既能濺射不易氧化金屬,又能濺射易氧化金屬力度,另見EMS300T T)。

特征參數(shù):

1長遠所需、 可以進(jìn)行超大樣本(直徑至203mm)的金屬鍍膜

2、 三個濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量

3拓展應用、 單靶材選擇功能生產創效,可以進(jìn)行小樣本鍍膜

4、 多種金屬靶材比如金管理、金/鈀優化上下、鉑等可選

5、 選擇裝配膜厚監(jiān)測儀可以精確控制膜厚

6模樣、 全自動觸摸屏控制生產體系,快速數(shù)字輸入,操作簡便

7很重要、 可以儲存不同用戶的程序

8能力和水平、 能夠記錄100個鍍膜細(xì)節(jié)

9、 真空自動控制異常狀況,且具有真空保持功能

10研究、 落入式樣品臺拆裝方便(標(biāo)配是旋轉(zhuǎn)樣品臺)

11、 長60分鐘不間斷鍍膜能力

12應用創新、 符合人體工程學(xué)的整體注塑機(jī)身

13提高、 電氣符合CE要求

14、 三年質(zhì)保

   

  

  

    

樣品臺:

    EMS300R T有多種型號的樣品臺可以選擇的特性,用于滿足目前大部分需求交流。落入式設(shè)計使得不同型號的樣品臺之間更換簡便,樣品臺除了行星臺外其高度均可調(diào)提供堅實支撐,旋轉(zhuǎn)速度在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)實現(xiàn)可調(diào)還不大。

l  扁平樣品臺,用于晶圓的鍍膜(152mm-203mm)信息化技術,標(biāo)配

l  旋轉(zhuǎn)樣品臺發揮作用,50mm,不能傾斜

l  旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺系統性,50mm勇探新路,高度可調(diào)(靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)),傾斜角度在0-30度之間

l  用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺

l  加高腔室:需要時可以得到(付費)

儀器參數(shù):

儀器外形尺寸

585mm W x 470mm D x 410mm H (total height with coating head open: 650mm)

重量

36.4kg

包裝尺寸

725mm W x 660mm D x 680mm H (44.8kg)

工作腔室

高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H

安全保護(hù)

整體PET套筒

顯示

145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯

使用者界面

直觀的圖形界面傳遞,觸摸鍵試驗。記憶功能:維護(hù)提醒及后100個鍍膜方案日志記錄

濺射靶材

標(biāo)配三個57 mm Ø x 0.1 mm金靶 (SC502-314A)

真空:

旋轉(zhuǎn)真空泵

50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005.

真空監(jiān)測

皮拉尼測量

極限真空度

潔凈系統(tǒng)可達(dá) 2x10-2 mbar,充氮氣

樣品臺

標(biāo)配晶圓樣品臺穩步前行,152mm-203mm結構不合理,旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)

濺射

根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計時器,濺射電流范圍在0-80mA ,長濺射時間不超過60分鐘

其它重要信息:

需要氣體

氬氣 99.999%意見征詢,氮氣可選(排氣時需要)

電源

90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. (注意電壓的選擇)

電氣標(biāo)準(zhǔn)

符合電氣CE認(rèn)證要求

訂購信息:

貨號

產(chǎn)品名稱

規(guī)格

EMS300R T

EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold (Au) sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard

EACH

91005

愛德華旋轉(zhuǎn)真空泵(單獨購買)Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter

EACH

 


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