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ICS1000NIR ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡

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ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡支撐能力,系統(tǒng)使用便捷資源優勢,其優(yōu)化的NIR顯微鏡實(shí)現(xiàn)了600?1200nm的倍頻成像。ICS1000NIR 顯微鏡

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ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡的產(chǎn)品實(shí)物圖:



ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡的應(yīng)用:

  •  通過體硅預(yù)檢測及觀察集成電路背面
  •  殘留硅厚度測量
  •  硅結(jié)構(gòu)分析
  •  便攜式光子發(fā)射攝像機(jī)(帶升級)
  •  激光二極管檢測

ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡的選項(xiàng)功能:

  •  140萬像素高分辨率加強(qiáng)型NIR數(shù)碼攝像機(jī)
  •  殘留硅厚度測量選件
  •  ICS1000超便攜式控制器
  •  便攜式光子發(fā)射攝像機(jī)升級
  •  Windows Vista商業(yè)版操作系統(tǒng)

ICS1000NIR 近紅外熱像顯微鏡的基本功能:

  •  優(yōu)化的1:7縮放NIR顯微鏡可觀察630nm 到2um的波長
  •  長焦距 NIR物鏡
  •  加強(qiáng)型NIR數(shù)碼攝像機(jī)
  •  集成USB控制1060nm單色光照明裝置
  •  亞微米精密電子聚焦模塊
  •  標(biāo)有0.1mm刻度的X-Y階段為安裝樣本進(jìn)行準(zhǔn)確定位
  •  ICS1000 成像軟件套件支持Win XP/ Pro系統(tǒng)
  •  ICS1000桌面系統(tǒng)控制器占地面積小
  •  ICS1000NIR 影響圖庫
  •  IC背面預(yù)檢測
  •  IC 表面 IC電路

在背面預(yù)檢測期間進(jìn)行覆晶封裝集成電路的表面檢查工作是非常重要的特征更加明顯,它能確保高質(zhì)量的結(jié)果估算。左圖顯示的是設(shè)備表面,將采用*的RKD NanoPrep技術(shù)預(yù)檢測其背面數字技術。此設(shè)備已經(jīng)做好了背面光子發(fā)射準(zhǔn)備且沒有為采集的圖像移除表面碎屑奮戰不懈。然后,ICS1000NIR聚焦到下面的電路措施。右圖顯示的是使用220um ICS1000NIR測量殘留硅的厚度大大縮短。請注意,我們系統(tǒng)中的集成單色照明裝置是如何穿透背面的硅緊密相關,甚至在有碎屑的情況下更默契了,產(chǎn)生清晰的圖像!

穿透53um的硅產(chǎn)生的IC背面成像培訓。140萬像素不合理波動;ICS1000成像軟件套件可利用按下按鈕產(chǎn)生的日期,時間和規(guī)模信息自動標(biāo)記圖像重要工具。觀察有細(xì)微裂紋的單晶硅太陽能電池積極拓展新的領域;20X物鏡。
 

上海銳馳科技有限公司
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