- 儀器介紹

SGC-10薄膜測(cè)厚儀關規定，適用于介質(zhì)發展基礎，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量建強保護。該薄膜測(cè)厚儀同期，是我公司與美國(guó)new-span公司合作研制的，采用new-span公司*的薄膜測(cè)厚技術(shù)使命責任，基于白光干涉的原理來測(cè)定薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)（折射率n效果，消光系數(shù)k）。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜合規意識，用軟件來擬合運(yùn)算密度增加，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n創新內容，消光系數(shù)k機遇與挑戰。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國(guó)外進(jìn)口，也可根據(jù)客戶需要*善於監督。

- 強(qiáng)大的軟件功能

界面友好集成技術，操作簡(jiǎn)便，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測(cè)量更合理。便捷快速的保存適應能力、讀取測(cè)量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，可同時(shí)測(cè)量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)實際需求。一次測(cè)量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)解決方案。材料庫(kù)中包含了大量常規(guī)的材料的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫(kù)敢於監督。

- 產(chǎn)品功能適用性

該儀器適用于多種介質(zhì)幅度，半導(dǎo)體結構，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量重要的作用。

- 典型的薄膜材料為

SiO2、CaF2規模最大、MgF穩中求進、光刻膠、多晶硅最深厚的底氣、非晶硅協同控製、SiNx、TiO2、聚酰亞胺利用好、高分子膜深入各系統。

- 典型的基底材料為

SiGe、GaAs系列、ZnS作用、ZnSe、鋁丙烯酸慢體驗、藍(lán)寶石著力增加、玻璃、聚碳酸酯科技實力、聚合物處理、石英。

儀器具有開放性設(shè)計(jì)在此基礎上，儀器的光纖探頭可很方便地取出助力各行，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount適用于微區(qū)（>10μm，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的顯微鏡（顯微鏡需另配）自主研發，就可以使本測(cè)量?jī)x測(cè)量應用。