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K975X渦輪泵高真空蒸鍍儀是一個多用途鍍膜系統,它具有靈活性和模塊化擴展功能指導,以適應不同的樣品制備廣泛認同。K975X可實現一系列制樣技術,包括TEM的碳支持膜及覆形膜流動性,碳/金屬蒸鍍鍛造、低角度投影(可選)和通過使用雙源蒸發(fā)(可選)進行順序鍍層,濺射鍍膜附件(可選)能適用于多種靶材持續創新。*的抽屜式樣品裝載系統使得用戶可方便地放入各種樣品改善,鉸鏈式頂蓋結構也很容易到達工作腔室內的各個區(qū)域。
K975S基于K975X協調機製,但它具有特殊的和更大的樣品裝載門是目前主流,可允許放入8英寸(200mm)晶圓或類似大樣品鍍碳。碳棒蒸發(fā)源直接安裝在真空腔室頂蓋板上高質量,便于碳槍操作充分發揮,并為大直徑樣品提供所需的蒸發(fā)源至樣品的距離。與K975X不同管理,K975S沒有安裝金屬蒸發(fā)源以及相應的底板安裝立柱設計。
儀器特點:
• 全自動抽真空系統
• 樣品尺寸可達140毫米見方或200毫米直徑
• *設計的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)槍
• 抽屜式樣品裝載系統
• 可選的蒸鍍類型,具有四種蒸發(fā)設置
• 有節(jié)制的破真空排氣控制
• 可選濺射附件
• 可選膜厚監(jiān)測附件(FTM)
*應用:
• 碳棒/碳繩蒸發(fā)
• 金屬蒸發(fā)
• 掃描電鏡光闌清潔(鉬舟)
• TEM用碳支撐膜和覆形膜
• 低角度陰影
• 采用雙源蒸發(fā)的連續(xù)鍍層
• EDX改進措施、WDS就此掀開、EBSD分析
• 可選的磁控濺射應用
對于SEM應用的機械泵抽真空的噴金噴碳儀,請參見SC7620和Q150R Plus奮勇向前。對于FE-SEM應用所需的超細顆粒鍍膜不斷豐富,建議采用高真空鍍膜儀,請參見Q150T Plus組建、Q150V Plus或Q150GB各有優勢;如需大腔室版本的鍍膜系統,請參見:Q300T T Plus、Q300T D Plus持續、Q300T ES Plus和K975X/K975S等多個領域。這些產品科研用途。
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