K1050X射頻等離子清潔刻蝕灰化儀

K1050X射頻等離子處理單元由固態(tài)射頻發(fā)生器結(jié)合調(diào)諧電路組成最為顯著。在等離子處理過(guò)程中，“自動(dòng)調(diào)諧”功能可確保RF功率自動(dòng)與系統(tǒng)或負(fù)載的任何變化進(jìn)行阻抗匹配規定。這意味著將腔室內(nèi)的射頻等離子條件保持在狀態(tài)-這很重要環境，因?yàn)樗梢约涌旆磻?yīng)時(shí)間，提高結(jié)果的可重復(fù)性高質量，并在RF周期內(nèi)保護(hù)電源相對簡便。具有同時(shí)兩種處理氣體流量針閥監(jiān)控，全部或部分通氣口控制流程。它的腔室為圓柱形合作，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng)，方便使用助力各業。

K1050X等離子桶式反應(yīng)器經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)結論，可以承受大量使用-每天24小時(shí)處理某些等離子灰化計(jì)劃-具有微處理器控制和自動(dòng)操作功能，并具有耐用性和操作簡(jiǎn)便性質生產力。各向同性（各個(gè)方向）的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化適應性強，適用于廣泛的應(yīng)用。K1050X使用低壓射頻感應(yīng)產(chǎn)生的氣體放電來(lái)以柔和先進的解決方案、可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料拓展，與其它方法相比的一個(gè)顯著優(yōu)勢(shì)是等離子蝕刻和灰化過(guò)程是干燥的（不需要濕化學(xué)藥品），并且在相對(duì)較低的溫度下進(jìn)行，所產(chǎn)生的“燃燒”產(chǎn)物可通過(guò)真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走不斷進步。

真空系統(tǒng)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵（K1050X）或可選用膜片泵作為前級(jí)真空的渦輪分子泵（K1050XT）工藝技術。

此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機(jī)物質(zhì)（碳?xì)浠衔铮└訌V闊，氬?duì)樣品表面進(jìn)行刻蝕損耗。K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器設(shè)計(jì)用于等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用非常完善。射頻等離子體可對(duì)各種樣品和基板進(jìn)行低溫修飾性能穩定。等離子體蝕刻在半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用較廣，因?yàn)?span style="font-family:arial,sans-serif;">K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體（例如CF 4）去除硅層作用，以及用于使用氧氣去除光刻膠情況正常。

儀器特點(diǎn)：

•   緊湊的臺(tái)式系統(tǒng)，節(jié)省空間

•   固態(tài)射頻發(fā)生器及調(diào)諧電路技術特點，全自動(dòng)控制提高鍛煉，易操作

•   抽屜式結(jié)構(gòu)，裝/卸樣品方便

•   兩種處理氣體

•   低溫灰化過(guò)程

•  在灰化過(guò)程結(jié)束后自動(dòng)終止

*應(yīng)用：

•   煤的灰化凝聚力量；有機(jī)材料（例如環(huán)氧樹脂有所提升，過(guò)濾器，食品等）微觀灰化

•   SEM&TEM中有機(jī)樣品刻蝕

•   SEM新的力量、TEM和SPM樣品或樣品夾Plasma清潔清洗

•   去除光刻膠及電子元件中的包膠先進水平，包括外延層的等離子蝕刻

•   塑料品的表面處理，實(shí)現(xiàn)從疏水到親水的轉(zhuǎn)化全面展示，改善塑料的油漆和上墨特性

•   石棉試樣制備重要平臺，人造礦物纖維及石棉檢測(cè)

•   鍵合樣品預(yù)處理

•   對(duì)于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應(yīng)用，請(qǐng)選用K1050XT

當(dāng)?shù)入x子蝕刻應(yīng)用涉及使用氧氣作為工藝氣體時(shí)核心技術，出于安全原因應用提升，強(qiáng)烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized或類似的合成油旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。當(dāng)然效高，在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵的地方前沿技術，也可選擇干式真空泵。注：本產(chǎn)品科研用途高效節能。