粉塵中游離二氧化硅分析儀產(chǎn)品詳細(xì)介紹電力和煤炭行業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中粉塵的種類較多, 主要有矽塵可能性更大、煤塵部署安排、鍋爐塵、石棉塵技術、水泥塵推廣開來、電焊煙塵等, 其特點(diǎn)是粉塵中游離二氧化硅含量較高, 粉塵的分散度也比較高, 即多為呼吸性粉塵, 因此對(duì)接塵人員的危害較大。根據(jù)生產(chǎn)性粉塵的理化性質(zhì)相對較高、空氣中濃度資源配置、進(jìn)入人體的量和作用部位, 產(chǎn)生的危害也有不同, 主要包括鼻炎、咽炎相關、氣管炎大力發展、支氣管炎等呼吸系統(tǒng)疾病。我國(guó)政府以及電力和煤炭行業(yè)部門對(duì)防塵工作高度重視, 因此, 加強(qiáng)對(duì)粉塵中游離二氧化硅含量的檢測(cè)是一件非常重要和緊迫的工作生產效率。以往檢測(cè)粉塵中游離二氧化硅含量, 均采用《作業(yè)場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定方法》(GB5748—85) 規(guī)定的“焦磷酸重量法”, 該方法存在操作步驟復(fù)雜產能提升、使用試劑種類繁多、檢測(cè)周期長(zhǎng)節點、準(zhǔn)確性差通過活化、試驗(yàn)室條件要求苛刻等一系列問題, 難以滿足現(xiàn)場(chǎng)批量檢測(cè)的要求。為了提高檢測(cè)的準(zhǔn)確性, 實(shí)現(xiàn)批量檢測(cè)的目的,專門研制ZFC-2000D 粉塵中游離二氧化硅分析儀用來檢測(cè)粉塵中游離二氧化硅含量的特點，為滿足不同客戶的需求健康發展，也推出了ZFC-3000D 粉塵中游離二氧化硅分析儀(采用*主機(jī)).進(jìn)口型具有精度高，速度更快大數據，軟件功能更強(qiáng)大等優(yōu)勢(shì)長效機製。

 粉塵中游離二氧化硅分析儀技術(shù)參數(shù)

 

附國(guó)標(biāo)檢測(cè)方法：配套附件根據(jù)用戶實(shí)驗(yàn)室狀況配置範圍和領域。

中華人民共和國(guó)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)

                            GBZ/T 192.4—2007

工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定

第4部分：游離二氧化硅含量

Method for determination of dust in the air of workplace

Part 4: Content of free silica in dust

2007年06月18日發(fā)布                                      2007年12月30日實(shí)施

中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部  發(fā) 布 

前     言

GBZ/T 192根據(jù)工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定的特點(diǎn)有所增加，分為以下五部分：

——第1部分：總粉塵濃度

——第2部分：呼吸性粉塵濃度

——第3部分：粉塵分散度

——第4部分：游離二氧化硅含量

——第5部分：石棉纖維濃度

本部分是GBZ/T192的第4部分各項要求，是在GB 5748-85《作業(yè)場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定方法》，GB16225-1996《車間空氣中呼吸性矽塵衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》附錄B《粉塵游離二氧化硅X線衍射測(cè)定法》估算，GB16245-1996《作業(yè)場(chǎng)所呼吸性煤塵衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》附錄B《呼吸性煤塵中游離二氧化硅紅外光譜測(cè)定法》為基礎(chǔ)修訂而成的講理論。

本部分由全國(guó)職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)提出。

本部分由中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部批準(zhǔn)不要畏懼。

本部分起草單位：華中科技大學(xué)同濟(jì)醫(yī)學(xué)院公共衛(wèi)生學(xué)院服務為一體、武漢鋼鐵公司工業(yè)衛(wèi)生技術(shù)研究所、東風(fēng)汽車公司職業(yè)病防治研究所逐漸顯現、武漢市職業(yè)病防治研究院全會精神、湖北省疾病預(yù)防控制中心、福建省疾病預(yù)防控制中心拓展基地、遼寧省疾病預(yù)防控制中心集中展示、武漢分析儀器廠。

本部分主要起草人：楊磊體系流動性、陳衛(wèi)紅探索創新、劉占元、陳鏡瓊實現了超越、李濟(jì)超新產品、易桂林、楊靜波橋梁作用、梅勇長遠所需、彭開良、劉家發(fā)讓人糾結、葉丙杰規模。

 _{GBZ/T 192.4—2007}

工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定

第4部分：游離二氧化硅含量

1 范圍

本部分規(guī)定了工作場(chǎng)所粉塵中游離二氧化硅含量的測(cè)定方法。

本部分適用于工作場(chǎng)所粉塵中游離二氧化硅含量的測(cè)定管理。

2 規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款優化上下，通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款能力建設。凡是注日期的引用文件模樣，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而服務，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的版本很重要。凡是不注日期的引用文件，其版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)覆蓋。

GBZ 159 工作場(chǎng)所空氣中有害物質(zhì)監(jiān)測(cè)采樣規(guī)范

GBZ/T XXX.1 工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定  第1部分：總粉塵濃度

GBZ/T XXX.2 工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定  第2部分：呼吸性粉塵濃度

3 術(shù)語和定義

本部分采用下列術(shù)語：

游離二氧化硅（Free silica）

指結(jié)晶型的二氧化硅異常狀況，即石英。

4 焦磷酸法

4.1 原理

粉塵中的硅酸鹽及金屬氧化物能溶于加熱到245℃~250℃的焦磷酸中高效，游離二氧化硅幾乎不溶鍛造，而實(shí)現(xiàn)分離競爭激烈。然后稱量分離出的游離二氧化硅，計(jì)算其在粉塵中的百分含量改善。

4.2 儀器

4.2.1 采樣器：同GBZ/T XXX.1和GBZ/T XXX.2空白區。

4.2.2 恒溫干燥箱。

4.2.3 干燥器信息化，內(nèi)盛變色硅膠形勢。

4.2.4 分析天平，感量為0.1mg取得明顯成效。

4.2.5 錐形瓶約定管轄，50ml。

4.2.6 可調(diào)電爐創新的技術。

4.2.7 高溫電爐發揮。

4.2.8 瓷坩堝或鉑坩堝，25ml快速增長，帶蓋長足發展。

4.2.9 坩堝鉗或鉑尖坩堝鉗。

4.2.10 量筒穩步前行，25ml結構不合理。

4.2.11 燒杯，200ml ~400ml逐步改善。

4.2.12 瑪瑙研缽意見征詢。

4.2.13 慢速定量濾紙。

4.2.14 玻璃漏斗及其架子大大提高。

4.2.15 溫度計(jì)的必然要求，0℃~360℃。

4.3 試劑

實(shí)驗(yàn)用試劑為分析純取得了一定進展。

4.3.1 焦磷酸完善好，將85%（W/W）的磷酸加熱到沸騰，至250℃不冒泡為止積極參與，放冷問題分析，貯存于試劑瓶中生產效率。

4.3.2 流動性，40%。

4.3.3 酸銨空間廣闊。

4.3.4 鹽酸溶液應用的選擇，0.1mol/L十大行動。

4.4 樣品的采集

現(xiàn)場(chǎng)采樣按照GBZ 159執(zhí)行。

本法需要的粉塵樣品量一般應(yīng)大于0.1g背景下，可用直徑75mm濾膜大流量采集空氣中的粉塵綜合措施，也可在采樣點(diǎn)采集呼吸帶高度的新鮮沉降塵可靠保障，并記錄采樣方法和樣品來源。

4.5 測(cè)定步驟

4.5.1 將采集的粉塵樣品放在105℃±3℃的烘箱內(nèi)干燥2h設計標準，稍冷多種，貯于干燥器備用。如果粉塵粒子較大充分發揮，需用瑪瑙研缽研磨至手捻有滑感為止發展成就。

4.5.2 準(zhǔn)確稱取0.1000g~0.2000g（G）粉塵樣品于25ml錐形瓶中，加入15ml焦磷酸及數(shù)毫克酸銨重要方式，攪拌開展面對面，使樣品全部濕潤(rùn)。將錐形瓶放在可調(diào)電爐上非常重要，迅速加熱到245℃~250℃進一步提升，同時(shí)用帶有溫度計(jì)的玻璃棒不斷攪拌，保持15min營造一處。

4.5.3 若粉塵樣品含有煤改革創新、其他碳素及有機(jī)物，應(yīng)放在瓷坩堝或鉑坩堝中取得顯著成效，在800℃~900℃下灰化30min以上新模式，使碳及有機(jī)物*灰化。取出冷卻后不容忽視，將殘?jiān)媒沽姿嵯慈脲F形瓶中組織了。若含有硫化礦物（如黃鐵礦、黃銅礦說服力、輝銅礦等）搶抓機遇，應(yīng)加數(shù)毫克結(jié)晶酸銨于錐形瓶中。再按照4.5.2加焦磷酸及數(shù)毫克酸銨加熱處理表示。

4.5.4取下錐形瓶全面闡釋，在室溫下冷卻至40℃~50℃，加50℃~80℃的蒸餾水至約40ml ~45ml競爭力所在，一邊加蒸餾水一邊攪拌均勻貢獻法治。將錐形瓶中內(nèi)容物小心轉(zhuǎn)移入燒杯，并用熱蒸餾水沖洗溫度計(jì)分享、玻璃棒和錐形瓶共享，洗液倒入燒杯中信息化，加蒸餾水約至150ml~200ml方式之一。取慢速定量濾紙折疊成漏斗狀，放于漏斗并用蒸餾水濕潤(rùn)新型儲能。將燒杯放在電爐上煮沸內(nèi)容物創新能力，稍靜置新品技，待混懸物略沉降，趁熱過濾求得平衡，濾液不超過濾紙的2/3處紮實做。過濾后，用0.1mol鹽酸洗滌燒杯至關重要，并移入漏斗中提供深度撮合服務，將濾紙上的沉渣沖洗3~5次，再用熱蒸餾水洗至無酸性反應(yīng)為止（用pH試紙?jiān)囼?yàn)）的發生。如用鉑坩堝時(shí)組成部分，要洗至無磷酸根反應(yīng)后再洗3次。上述過程應(yīng)在當(dāng)天完成新的動力。

4.5.5 將有沉渣的濾紙折疊數(shù)次的過程中，放入已稱至恒量（m₁）的瓷坩堝中，在電爐上干燥廣泛關註、炭化促進進步；炭化時(shí)要加蓋并留一小縫。然后放入高溫電爐內(nèi)優勢領先，在800℃~900℃灰化30min迎來新的篇章；取出，室溫下稍冷后推動並實現，放入干燥器中冷卻1h空白區，在分析天平上稱至恒量（m₂），并記錄信息化。

4.5.6 計(jì)算  按式（1）計(jì)算粉塵中游離二氧化硅的含量：

．．．（1）

式中：S_iO₂（F）——游離二氧化硅含量形勢，%；

m₁——坩堝質(zhì)量取得明顯成效，g服務機製；

m₂——坩堝加沉渣質(zhì)量，g使用；

G——粉塵樣品質(zhì)量大幅拓展，g。

4.5.7 焦磷酸難溶物質(zhì)的處理

若粉塵中含有焦磷酸難溶的物質(zhì)時(shí)更加堅強，如碳化硅與時俱進、綠柱石、電氣石初步建立、黃玉等綜合運用，需用在鉑坩堝中處理。方法如下：

將帶有沉渣的濾紙放入鉑坩堝內(nèi)的方法，如步驟4.5.5灼燒至恒量（m₂）實事求是，然后加入數(shù)滴9mol/L硫酸溶液進行探討，使沉渣全部濕潤(rùn)。在通風(fēng)柜內(nèi)加入5ml~10ml 40%服務水平，稍加熱最新，使沉渣中游離二氧化硅溶解，繼續(xù)加熱至不冒白煙為止（要防止沸騰）處理方法。再于900℃下灼燒重要作用，稱至恒量（m₃）。處理后游離二氧化硅含量按式（2）計(jì)算：

  ．．．（2）

式中：S_iO₂（F）——游離二氧化硅含量習慣，%有望；

m₂——處理前坩堝加沉渣（游離二氧化硅+焦磷酸難溶的物質(zhì)）質(zhì)量，g導向作用；

m₃——處理后坩堝加沉渣（焦磷酸難溶的物質(zhì)）質(zhì)量方案，g；

G——粉塵樣品質(zhì)量十大行動，g左右。

4.6 注意事項(xiàng)

4.6.1 焦磷酸溶解硅酸鹽時(shí)溫度不得超過250℃，否則容易形成膠狀物綜合措施。

4.6.2 酸與水混合時(shí)應(yīng)緩慢并充分?jǐn)嚢杩煽勘Ｕ?，避免形成膠狀物。

4.6.3 樣品中含有碳酸鹽時(shí)設計標準，遇酸產(chǎn)生氣泡開展，宜緩慢加熱，以免樣品濺失我有所應。

4.6.4 用處理時(shí)提單產，必須在通風(fēng)柜內(nèi)操作，注意防止污染皮膚和吸入蒸氣至關重要。

4.6.5 用鉑坩堝處理樣品時(shí)發展空間，過濾沉渣必須洗至無磷酸根反應(yīng)，否則會(huì)損壞鉑坩堝有所應。

磷酸根檢驗(yàn)方法如下：

原理：磷酸和鉬酸銨在pH4.1時(shí)足了準備，用抗壞血酸還原成藍(lán)色。

試劑：①乙酸鹽緩沖液（pH4.1）：0.025mol乙酸鈉溶液與0.1mol乙酸溶液等體積混合著力提升，②1%抗壞血酸溶液（于4℃保存）深刻內涵，③鉬酸銨溶液：取2.5g鉬酸銨，溶于100ml的0.025mol硫酸中（臨用時(shí)配制）融合。

檢驗(yàn)方法：分別將試劑②和③用①稀釋成10倍深入闡釋，取濾過液1ml，加上述稀釋試劑各4.5ml，混勻提高，放置20min可以使用，若有磷酸根離子進入當下，溶液呈藍(lán)色紮實。

5 紅外分光光度法

5.1 原理

α-石英在紅外光譜中于12.5μm（800cm^-1）、12.8μm（780cm^-1）及14.4（694cm^-1）μm處出現(xiàn)特異性強(qiáng)的吸收帶新體系，在一定范圍內(nèi)投入力度，其吸光度值與α-石英質(zhì)量成線性關(guān)系。通過測(cè)量吸光度不難發現，進(jìn)行定量測(cè)定貢獻法治。

5.2 儀器

5.2.1 瓷坩堝和坩堝鉗。

5.2.2 箱式電阻爐或低溫灰化爐發展需要。

5.2.3 分析天平攻堅克難，感量為0. 1mg。

5.2.4 干燥箱及干燥器顯示。

5.2.5 瑪瑙乳缽雙向互動。

5.2.6 壓片機(jī)及錠片模具。

5.2.7 200目粉塵篩設計能力。

5.2.8 紅外分光光度計(jì)品牌。以X軸橫坐標(biāo)記錄900cm^-1~600cm^-1的譜圖，在900cm^-1處校正零點(diǎn)和*提供有力支撐，以Y軸縱坐標(biāo)表示吸光度應用。

5.3 試劑

5.3.1 *，優(yōu)級(jí)純或光譜純品率，過200目篩后相貫通，用濕式法研磨，于150℃干燥后積極影響，貯于干燥器中備用集聚效應。

5.3.2 無水乙醇，分析純重要手段。

5.3.3 標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵互動講，純度在99%以上，粒度<5μm像一棵樹。

5.4 樣品的采集

根據(jù)測(cè)定目的過程中，樣品的采集方法參見GBZ 159 和GBZ/T XXX.2或GBZ/T XXX.1，濾膜上采集的粉塵量大于0.1mg時(shí)能運用，可直接用于本法測(cè)定游離二氧化硅含量達到。

5.5 測(cè)定

5.5.1 樣品處理：準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量（G）。然后將受塵面向內(nèi)對(duì)折3次，放在瓷坩堝內(nèi)蓬勃發展，置于低溫灰化爐或電阻爐（小于600℃）內(nèi)灰化特點，冷卻后，放入干燥器內(nèi)待用重要性。稱取250mg*和灰化后的粉塵樣品一起放入瑪瑙乳缽中研磨混勻后又進了一步，連同壓片模具一起放入干燥箱（110℃±5℃）中10min。將干燥后的混合樣品置于壓片模具中多元化服務體系，加壓25MPa規劃，持續(xù)3min，制備出的錠片作為測(cè)定樣品深度。同時(shí)帶動擴大，取空白濾膜一張，同樣處理開拓創新，作為空白對(duì)照樣品持續發展。

5.5.2 石英標(biāo)準(zhǔn)曲線的繪制：精確稱取不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵（0.01mg ~1.00mg），分別加入250mg*主動性，置于瑪瑙乳缽中充分研磨均勻創造性，按上述樣品制備方法做出透明的錠片。將不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)石英錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描體系，以800cm^-1保障性、780cm^-1及694cm^-1三處的吸光度值為縱坐標(biāo)，以石英質(zhì)量（mg）為橫坐標(biāo)責任製，繪制三條不同波長(zhǎng)的α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線十分落實，并求出標(biāo)準(zhǔn)曲線的回歸方程式。在無干擾的情況下規則製定，一般選用800cm^-1標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析製造業。

5.5.3 樣品測(cè)定：分別將樣品錠片與空白對(duì)照樣品錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描，記錄800cm^-1（或694cm^-1）處的吸光度值關規定，重復(fù)掃描測(cè)定3次發展基礎，測(cè)定樣品的吸光度均值減去空白對(duì)照樣品的吸光度均值后，由α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線得樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量（m）建強保護。

5.5.4 計(jì)算  按式（3）計(jì)算粉塵中游離二氧化硅的含量：

（3）

式中：SiO₂（F）——粉塵中游離二氧化硅（α-石英）的含量同期，%；

m——測(cè)得的粉塵樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量使命責任，mg效果；

G——粉塵樣品質(zhì)量，mg合規意識。

5.6 注意事項(xiàng)

5.6.1 本法的α-石英檢出量為0.01mg密度增加；相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)差（RSD）為0.64%~1.41%有效性。平均回收率為96.0%~99.8%。

5.6.2 粉塵粒度大小對(duì)測(cè)定結(jié)果有一定影響機遇與挑戰，因此廣泛關註，樣品和制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的石英塵應(yīng)充分研磨，使其粒度小于5μm者占95%以上集成技術，方可進(jìn)行分析測(cè)定就能壓製。

5.6.3 灰化溫度對(duì)煤礦塵樣品定量結(jié)果有一定影響，若煤塵樣品中含有大量高嶺土成分發展空間，在高于600℃灰化時(shí)發(fā)生分解效果，于800cm^-1附近產(chǎn)生干擾有所應，如灰化溫度小于600℃時(shí)足了準備，可消除此干擾帶。

5.6.4 在粉塵中若含有粘土敢於監督、云母幅度、閃石、長(zhǎng)石等成分時(shí)重要的作用，可在800cm^-1附近產(chǎn)生干擾貢獻，則可用694cm^-1的標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。

5.6.5 為降低測(cè)量的隨機(jī)誤差穩中求進，實(shí)驗(yàn)室溫度應(yīng)控制在18℃~24℃統籌，相對(duì)濕度小于50%為宜。

5.6.6 制備石英標(biāo)準(zhǔn)曲線樣品的分析條件應(yīng)與被測(cè)樣品的條件*一致協同控製，以減少誤差振奮起來。

6  X線衍射法

6.1 原理

當(dāng)X線照射游離二氧化硅結(jié)晶時(shí)，將產(chǎn)生X線衍射利用好；在一定的條件下深入各系統，衍射線的強(qiáng)度與被照射的游離二氧化硅的質(zhì)量成正比。利用測(cè)量衍射線強(qiáng)度系列，對(duì)粉塵中游離二氧化硅進(jìn)行定性和定量測(cè)定作用。

6.2 儀器

6.2.1 測(cè)塵濾膜。

6.2.2 粉塵采樣器慢體驗。

6.2.3 濾膜切取器著力增加。

6.2.4 樣品板。

6.2.5 分析天平科技實力，感量為0.01mg處理。

6.2.6 鑷子、直尺勃勃生機、秒表助力各業、圓規(guī)等。

6.2.7 瑪瑙乳缽或瑪瑙球磨機(jī)。

6.2.8 X線衍射儀應用。

6.3 試劑

實(shí)驗(yàn)用水為雙蒸餾水建議。

6.3.1 鹽酸溶液，6mol/L相貫通。

6.3.2 氫氧化鈉溶液不斷發展，100g/L。

6.4 樣品的采集

根據(jù)測(cè)定目的自動化方案，樣品的采集方法參見GBZ 159和GBZ/T XXX.2或GBZ/T XXX.1緊密協作，濾膜上采集的粉塵量大于0.1mg時(shí)，可直接用于本法測(cè)定游離二氧化硅含量效率。

6.5 測(cè)定步驟

6.5.1 樣品處理：準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量（G）規模。按旋轉(zhuǎn)樣架尺度將濾膜剪成待測(cè)樣品4~6個(gè)。

6.5.2 標(biāo)準(zhǔn)曲線

6.5.2.1 標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵制備：將高純度的α-石英晶體粉碎后講道理，首先用鹽酸溶液浸泡2h發展目標奮鬥，除去鐵等雜質(zhì)，再用水洗凈烘干更多的合作機會。然后用瑪瑙乳缽或瑪瑙球磨機(jī)研磨延伸，磨至粒度小于10μm后，于氫氧化鈉溶液中浸泡4h服務好，以除去石英表面的非晶形物質(zhì)新趨勢，用水充分沖洗，直到洗液呈中性（pH=7）共謀發展，干燥備用學習。或用符合本條要求的市售標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵制備聽得進。

6.5.2.2 標(biāo)準(zhǔn)曲線的制作：將標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵在發(fā)塵室中發(fā)塵新的力量，用與工作環(huán)境采樣相同的方法，將標(biāo)準(zhǔn)石英粉塵采集在已知質(zhì)量的濾膜上便利性，采集量控制在0.5mg~4.0mg之間全面展示，在此范圍內(nèi)分別采集5~6個(gè)不同質(zhì)量點(diǎn)，采塵后的濾膜稱量后記下增量值深刻認識，然后從每張濾膜上取5個(gè)標(biāo)樣核心技術，標(biāo)樣大小與旋轉(zhuǎn)樣臺(tái)尺寸一致。在測(cè)定α-石英粉塵標(biāo)樣前主動性，首先測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)硅在（111）面網(wǎng)上的衍射強(qiáng)度（CPS）創造性。然后分別測(cè)定每個(gè)標(biāo)樣的衍射強(qiáng)度（CPS）。計(jì)算每個(gè)點(diǎn)5個(gè)α-石英粉塵樣的算術(shù)平均值道路，以衍射強(qiáng)度（CPS）均值對(duì)石英質(zhì)量（mg）繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線規模設備。

6.5.3 樣品測(cè)定

6.5.3.1 定性分析  在進(jìn)行物相定量分析之前真諦所在，首先對(duì)采集的樣品進(jìn)行定性分析，以確認(rèn)樣品中是否有α-石英存在競爭力。儀器操作參考條件：

物相鑒定：將待測(cè)樣品置于X線衍射儀的樣架上進(jìn)行測(cè)定建立和完善，將其衍射圖譜與《粉末衍射標(biāo)準(zhǔn)聯(lián)合委員會(huì)（JCPDS）》卡片中的α-石英圖譜相比較提供了遵循，當(dāng)其衍射圖譜與α-石英圖譜相一致時(shí)，表明粉塵中有石英存在產業。

6.5.3.2 定量分析

X線衍射儀的測(cè)定條件與制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的條件*一致滿意度。

6.5.3.2.1 首先測(cè)定樣品（101）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度情況較常見，再測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度可持續；測(cè)定結(jié)果按式（4）計(jì)算：

        ．．．（4）

式中：I_B——粉塵中石英的衍射強(qiáng)度，CPS體製；

I_i——采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度構建，CPS；

I_s——在制定石英標(biāo)準(zhǔn)曲線時(shí)服務延伸，標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度共創輝煌，CPS；

I——在測(cè)定采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度時(shí)進一步，測(cè)得的標(biāo)準(zhǔn)硅（111）面網(wǎng)衍射強(qiáng)度大部分，CPS。

如儀器配件沒有配標(biāo)準(zhǔn)硅實際需求，可使用標(biāo)準(zhǔn)石英（101）面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度（CPS）表示I值解決方案。

由計(jì)算得到的I_B值（CPS），從標(biāo)準(zhǔn)曲線查出濾膜上粉塵中石英的質(zhì)量（m）善謀新篇。

6.5.4  計(jì)算  粉塵中游離二氧化硅（α-石英）含量
按式（5）計(jì)算：

（5）

式中：SiO₂（F）——粉塵中游離二氧化硅（α-石英）含量增產，%；

m——濾膜上粉塵中游離二氧化硅（α-石英）的質(zhì)量方法，mg行動力；

G——粉塵樣品質(zhì)量，mg切實把製度。將M₂-M₁改為G保供，與紅外法一致自行開發！

6.6 注意事項(xiàng)

6.6.1本法測(cè)定的粉塵中游離二氧化硅系指α-石英，其檢出限受儀器性能和被測(cè)物的結(jié)晶狀態(tài)影響較大引領；一般X線衍射儀中傳遞，當(dāng)濾膜采塵量在0.5mg時(shí)，α-石英含量的檢出限可達(dá)1%勞動精神。

6.6.2粉塵粒徑大小影響衍射線的強(qiáng)度開展攻關合作，粒徑在10μm以上時(shí)，衍射強(qiáng)度減弱預下達；因此制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的粉塵粒徑應(yīng)與被測(cè)粉塵的粒徑相一致的有效手段。

6.6.3單位面積上粉塵質(zhì)量不同，石英的X線衍射強(qiáng)度有很大差異方案。因此濾膜上采塵量一般控制在2mg~5mg范圍內(nèi)為宜關鍵技術。

6.6.4當(dāng)有與α-石英衍射線相干擾的物質(zhì)或影響α-石英衍射強(qiáng)度的物質(zhì)存在時(shí)，應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行校正深入。