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- 更新時間 2020/12/7 14:45:14
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HiSeq2000測序原理采用穩(wěn)定的可逆終止法邊合成邊測序技術(shù)引領,該技術(shù)使用4種含有末端阻斷基團和不同熒光信號的堿基進行模板互補鏈合成,不僅確保了測序的高精確性和高順序性示範,而且排除了由重復(fù)序列和同聚物導(dǎo)致的測序錯誤應用前景。HiSeq2000融合了的光學(xué)系統(tǒng)和制造工藝,采用兩個激光源對流動池掃描運行好,用4臺照相機對4種堿基分別進行記錄首次,減少了不同堿基間的信號干擾,提高了測序準(zhǔn)確度部署安排。HiSeq2000因采用了流動池雙表面成像技術(shù)搖籃,增加了流動池有效面積,從而增大了測序通量推廣開來,降低了測序成本推動。
讀數(shù) | 單流動槽 | 雙流動槽 | ||
數(shù)據(jù) | 時間 | 數(shù)據(jù) | 時間 | |
1×35 | 47-52Gb | 1.5 days | 95-105Gb | 2 days |
2×50 | 135-150Gb | 4.5 days | 270-300Gb | 5.5 days |
2×100 | 270-300Gb | 8.5 days | 540-600Gb | 11 days |
質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) | 2×50bp Q30≥85% | |||
2×100bp Q30≥80% |
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