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奧林巴斯原子力激光共聚焦顯微鏡OLS4500

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LEXT OLS4500是一款集成了激光顯微鏡和探針掃描顯微鏡功能于一體的新型納米檢測顯微鏡逐步顯現,可以實(shí)現(xiàn)從50倍到100萬倍的超大范圍的觀察和測量銘記囑托。


OLS4500為您帶來新的解決方案

實(shí)現(xiàn)納米級觀測的新型顯微鏡。不會丟失鎖定的目標(biāo)自動化裝置。

配有涵蓋了低倍觀察到高倍觀察的4種物鏡試驗,并在電動物鏡轉(zhuǎn)換器上裝配了SPM單元¢_展攻關合作?梢詿o縫切換倍率和觀察方法,不會丟失觀察對象預下達。此外的有效手段,該款顯微鏡可以進(jìn)行納米級觀測。

電動物鏡轉(zhuǎn)換器

電動物鏡轉(zhuǎn)換器切換倍率和觀察方法


涵蓋了低倍到高倍觀察方案,并配有多種觀察方法可以迅速發(fā)現(xiàn)觀察對象關鍵技術。

可以完成低倍到高倍的大范圍倍率觀察。不僅如此深入,奧林巴斯的光學(xué)技術(shù)打造的光學(xué)顯微鏡帶來多種觀察方法技術研究,可以容易的發(fā)現(xiàn)觀察對象。此外開展研究,對于光學(xué)顯微鏡難以找到的觀察對象姿勢,還可以使用激光顯微鏡進(jìn)行觀察。在激光微分干涉(DIC
觀察中首要任務,可以進(jìn)行納米級微小凹凸的實(shí)時觀察綠色化。


縮短從放置樣品到獲取影像的工作時間。

放置好樣品后發展,所有的操作都在1臺裝置上完成保持穩定。可以迅速面向,正確的把觀察對象移到SPM顯微鏡下面支撐作用,所以只要掃描1次就能獲取所需的SPM影像。

縮短從放置樣品到獲取影像的工作時間

 

一體機(jī)的機(jī)型建設項目,所以無需重新放置樣品只要在1臺裝置上切換倍率最為突出、觀察方法就能夠靈活應(yīng)對新樣品。 

OLS4500是把光學(xué)顯微鏡、激光顯微鏡節點、探針顯微鏡融于一體的一體機(jī)通過活化,所以無需重新放置樣品,即可自由切換3種顯微鏡進(jìn)行觀察和評價的特點。這3種顯微鏡各自持有優(yōu)異的性能健康發展,所以能夠高效輸出良好的結(jié)果。

融于一體

 

OLS4500實(shí)現(xiàn)了無縫觀察和測量

【發(fā)現(xiàn)】可以迅速發(fā)現(xiàn)觀察對象

使用光學(xué)顯微鏡的多種觀察方法大數據,迅速找到觀察對象

OLS4500采用了白色LED光源長效機製,可以觀察到顏色逼真的高分辨率彩色影像。它裝有4種物鏡數字技術,涵蓋了低倍到高倍的大范圍觀察奮戰不懈。OLS4500充分發(fā)揮了光學(xué)觀察的特長,除了常使用的明視場觀察(BF)以外措施,還可以使用對微小的凹凸添加明暗對比大大縮短,達(dá)到視覺立體效果的微分干涉觀察(DIC),以及用顏色表現(xiàn)樣品偏光性的簡易偏振光觀察緊密相關。此外更默契了,OLS4500上還配有HDR功能(高動態(tài)范圍功能),該功能使用不同的曝光時間拍攝多張影像后進(jìn)行合成培訓,來顯示亮度平衡更好不合理波動、強(qiáng)調(diào)了紋理的影像。在OLS4500上您可以使用多種觀察方法迅速找到觀察對象重要工具。

明視場  

BF明視場
常使用的觀察方法積極拓展新的領域。在觀察中真實(shí)再現(xiàn)樣品的顏色。適用于觀察有明暗對比的樣品更優質。

微分干涉

DIC微分干涉
對于在明視場觀察中看不到的樣品的微小高低差相對開放,添加明暗對比使之變?yōu)榱Ⅲw可視。適用于觀察金 相組織技術創新、硬盤和晶圓拋光表面之類鏡面上的傷痕或異物等深入交流研討。

OLS4500_6.jpg 

簡易偏振光
照射偏振光(有著特定振動方向的光線), 使樣品的偏光性變?yōu)槿庋劭梢晱V泛應用。適用于觀察金相組織關註度、礦物、半導(dǎo)體材料等哪些領域。

OLS4500_7.jpg

HDR高動態(tài)范圍
使用不同曝光時間拍攝多張影像并進(jìn)行影像合成敢於挑戰,可以觀察平衡度較好的明亮部分和陰暗部分。此外求索,還可以強(qiáng)調(diào)紋理(表面狀態(tài))讓人糾結,進(jìn)行更精細(xì)的觀察。

 

使用激光顯微鏡,可以觀察到光學(xué)顯微鏡中難以觀察到的樣品影像

OLS4500采用了短波長405 nm的激光光源和高N.A.的物鏡基石之一,實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的平面分辨率聯動。能以鮮明的影像呈現(xiàn)出光學(xué)顯微鏡中無法看到的觀察對象。在激光微分干涉(DIC)模式中還可以實(shí)時觀察納米級的微小凹凸共同努力。


【接近】迅速發(fā)現(xiàn)觀察對象行業內卷,在SPM上正確完成觀察

實(shí)現(xiàn)了無縫觀察,不會丟失觀察對象

OLS4500在電動物鏡轉(zhuǎn)換器上裝配了涵蓋低倍到高倍觀察的4種物鏡逐漸完善,以及小型SPM單元參與能力。在光學(xué)顯微鏡或激光顯微鏡的50倍、100倍的實(shí)時觀察中是目前主流,由于SPM掃描范圍一直顯示于視場中心充分發揮,所以把觀察目標(biāo)點(diǎn)對準(zhǔn)該位置后,只要切換到探針顯微鏡充分發揮,就能夠正確接近觀察對象選擇適用。因此,只需1SPM掃描就能獲取目標(biāo)影像設計,從而能夠提高工作效率并降低微懸臂的損耗交流。

SPM上正確完成觀察

 

不會在SPM觀察中迷失的、可切換式向?qū)Чδ?/span>

使用探針顯微鏡開始觀察之前提供堅實支撐, 可以在向?qū)М嬅嫔显O(shè)置所需的條件, 如安裝微懸臂高產、掃描范圍等信息化技術。所以經(jīng)驗較少的操作者也能安心完成操作。

 

【納米級測量】簡單操作良好,可以迅速獲得測量結(jié)果

新開發(fā)的小型SPM測頭逐步顯現,減少了影像瑕疵

OLS4500采用了裝在電動物鏡轉(zhuǎn)換器上的物鏡型SPM測頭。同軸引領、共焦配置了物鏡和微懸臂前端自動化裝置,所以切換SPM觀察時不會丟失觀察目標(biāo)點(diǎn)。不僅如此應用前景,新開發(fā)的小型SPM測頭提高了剛性有很大提升空間,所以與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比,減少了影像瑕疵并提高了可追蹤性激發創作。

SPM測頭

新開發(fā)的小型SPM測頭


使用向?qū)Чδ芮熬?,自由放?/span>SPM影像

使用向?qū)Чδ埽?/span>可以觀察時進(jìn)一步放大探針顯微鏡拍到的影像的所需部分倍率。只要在影像上用鼠標(biāo)指針設(shè)置放大范圍并掃描增幅最大, 就可以獲取所需的SPM影像共享應用。可以自由設(shè)置掃描范圍, 所以大幅度提高了觀察和測量的效率示範推廣。

向?qū)Чδ茉?/span>10μm×10μm影像上放大3.5μm×3.5μm范圍

 

優(yōu)異的分析功能堅持好,應(yīng)對各種測量目的

OLS4500能夠根據(jù)您的測量目的分析在各種測量模式中獲取的影像,并以CSV格式輸出測量結(jié)果大幅增加。OLS4500有以下分析功能特性。

截面形狀分析(曲率測量、夾角測量)

  • 粗糙度分析

  • 形態(tài)分析(面積交流研討、表面積更加完善、體積、高度建設應用、柱狀值支撐作用、承載比)

  • 評價高度測量(線、面積)

  • 粒子分析(選項功能)

 曲率測量

曲率測量(硬盤的傷痕)


跟從向?qū)М嬅娴闹甘緞恿?,可輕松操作的6SPM測量模式

接觸模式

控制微懸臂與樣品之間作用的排斥力為恒定的同時同時, 使微懸臂進(jìn)行靜態(tài)掃描, 在影像中呈現(xiàn)樣品的高度效高性。還可以進(jìn)行彎曲測量模式。

接觸模式 金屬薄膜

                       金屬薄膜

 

動態(tài)模式

使微懸臂在共振頻率附近振動, 并控制Z方向的距離使振幅恒定提升, 從而在影像中呈現(xiàn)樣品高度高品質。特別適用于高分子化合物之類表面柔軟的樣品及有粘性的樣品。

動態(tài)模式 鋁合金表面

                       鋁合金表面

 

相位模式

在動態(tài)模式的掃描中支撐能力, 檢測出微懸臂振動的相位延遲資源優勢。可以在影像中呈現(xiàn)樣品表面的物性差特征更加明顯。

相位模式 高分子薄膜

                       高分子薄膜

 

電流模式

對樣品施加偏置電壓估算,檢測出微懸臂與樣品之間的電流并輸出影像。此外方便,還可以進(jìn)行I/V測量基礎上。

電流模式

SiO2圖案樣品

 Si電路板上的SiO2圖案樣品。高度影像(左)中顯示為黃色的部分是SiO2應用領域。在電流影像(右)中顯示   為藍(lán)色(電流不經(jīng)過的部分)保持競爭優勢。通過上圖,可以明確電路板中也存在電流不經(jīng)過的部分發展機遇。

 

表面電位模式(KFM

使用導(dǎo)電性微懸臂并施加交流電壓不容忽視, 檢測出微懸臂與樣品表面之間作用的靜電, 從而在影像中呈現(xiàn)樣品表面的電位。也稱作KFMKelvin Force Microscope)。

表面電位模式

磁帶樣品

 磁帶樣品。在電位影像中可以看出數(shù)百mV的電位差分布于磁帶表面高質量。這些電位差的分布表示,可以認(rèn)為是磁帶表面的潤滑膜分布不均勻全面闡釋。

 

磁力模式(MFM

在相位模式中使用磁化后的微懸臂進(jìn)行掃描,檢測出振動的微懸臂的相位延遲競爭力所在, 從而在影像中呈現(xiàn)樣品表面的磁力信息引人註目。也稱作MFMMagnetic Force Microscope)。

磁力模式 硬盤表面樣品

                  硬盤表面樣品溝通機製『眯v?梢杂^察到磁力信息。

 

裝配了激光掃描顯微鏡領先水平,靈活應(yīng)對多種樣品 

輕松檢測85°尖銳角

采用了有著高N.A.的物鏡和光學(xué)系統(tǒng)(能大限度發(fā)揮405nm激光性能),LEXT OLS4500 可以精確地測量一直以來無法測量的有尖銳角的樣品。

LEXT 物鏡 有尖銳角的樣品

LEXT 物鏡           有尖銳角的樣品(剃刀)

 

高度分辨率10nm戰略布局,輕松測量微小輪廓

由于采用405 nm的短波長激光和更高數(shù)值孔徑的物鏡事關全面,OLS4500達(dá)到了0.12μm的平面分辨率。因此狀態,可以對樣品的表面進(jìn)行亞微米的測量技術節能。結(jié)合高精度的光柵讀取能力和奧林巴斯*的亮度檢測技術(shù),OLS4500可以分辨出亞微米到數(shù)百微米范圍內(nèi)的高度差廣泛認同。此外國際要求, 激光顯微鏡測量還保證了測量儀器的兩大指標(biāo)——“正確性(測量值與真正值的接近程度)和重復(fù)性(多次測量值的偏差程度)的性能。

0.12μm行間距

0.12μm行間距

高度差標(biāo)準(zhǔn)類型

高度差標(biāo)準(zhǔn)類型B,PTB-5, Institut für Mikroelektronik,Germany,6 nm高度測量中的檢測


從大范圍拼接影像中目標(biāo)區(qū)域

高倍率影像容易使視場范圍變小鍛造,而通過設(shè)置行業內卷,OLS4500的拼接功能可以拼接625幅影像,從而能夠獲得高分辨率的大范圍視圖數(shù)據(jù)新的動力。不僅如此,還可以在該大范圍視圖上進(jìn)行3D顯示或3D測量發展契機。

3D拼接


可用于傳統(tǒng)的線粗糙度測量廣泛關註,也可用于信息量較多的面粗糙度測量 

越來越重要的表面粗糙度測量

近年來,工業(yè)產(chǎn)品越來越趨于小型化和輕量化發力,所以構(gòu)成產(chǎn)品的各種部件也越來越精細(xì)化優勢領先。隨著這些部件的精細(xì)化,除了形狀測量以外共創美好,表面粗糙度測量的重要性也日益提高推動並實現。

為了應(yīng)對這些市場需求,ISO規(guī)定的立體表面結(jié)構(gòu)測量儀器中覆蓋範圍,添加了激光顯微鏡和AFMISO 25178-6)優化程度。因此積極性,與傳統(tǒng)的接觸式表面粗糙度測量相同,非接觸式表面粗糙度測量也被認(rèn)定為*評價標(biāo)準(zhǔn)不斷豐富。OLS4500中配置了符合ISO規(guī)定的粗糙度參數(shù)實施體系。

粗糙度測量


在面粗糙度測量中詳細(xì)掌握粗糙度的分布和特點(diǎn)

在非接觸式表面粗糙度測量中,除了線粗糙度還可以測量面粗糙度各有優勢。在面粗糙度測量中可以掌握樣品表面上區(qū)域內(nèi)粗糙度分布和特點(diǎn)效果較好,并能夠與3D影像對照評價。OLS4500可以根據(jù)不同樣品和使用目的持續,分別使用激光顯微鏡功能或探針顯微鏡功能測量表面粗糙度等多個領域。

面粗糙度測量

焊盤,激光顯微鏡的面粗糙度測量(105μm×105μm 探針顯微鏡的面粗糙度測量(10μm×10μm

 

OLS4500的粗糙度參數(shù)

參數(shù)兼容性

OLS4500具有與接觸式表面粗糙度測量儀相同的表面輪廓參數(shù),因此具有相互兼容的操作性和測量結(jié)果產品和服務。

截面曲線

Pp, Pv, Pz, Pc, Pt, Pa, Pq, Psk, Pku, Psm, PΔq, Pmr(c), Pδc, Pmr

粗糙度曲線

Rp, Rv, Rz, Rc, Rt, Ra, Rq, Rsk, Rku, Rsm, RΔq, Rmr(c),Rδc, Rmr, RZJIS, Ra75

波動曲線

Wp, Wv, Wz, Wc, Wt, Wa, Wq, Wsk, Wku, Wsm, WΔq, Wmr(c), Wδc, Wmr

負(fù)荷曲線

Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2

基本圖形

R, Rx, AR, W, , AW, Wte

粗糙度 (JIS1994)

Ra(JIS1994), Ry, Rz(JIS1994), Sm, S, tp

其他

R3z, P3z, PeakCount

 

適應(yīng)下一代參數(shù)

OLS4500具有符合ISO25178的粗糙度(3D)參數(shù)應用擴展。通過評估平面區(qū)域,可以進(jìn)行高可靠性的分析前景。

振幅參數(shù)

Sq, Ssk, Sku, Sp, Sv, Sz, Sa

功能參數(shù)

Smr(c), Sdc(mr), Sk, Spk, Svk, SMr1, SMr2, Sxp

體積參數(shù)

Vv(p), Vvv, Vvc, Vm(p), Vmp, Vmc

橫向參數(shù)

Sal, Str

 

OLS4500的顯微鏡技術(shù)

光學(xué)顯微鏡的原理和特長

光學(xué)顯微鏡是從樣品上方照射可見光(波長約400 nm800 nm)進一步意見, 利用其反射光成像, 能夠放大樣品數(shù)十倍到一千倍左右進(jìn)行觀察共享應用。光學(xué)顯微鏡的特長是可以真實(shí)觀察彩色樣品生產能力, 還可以切換觀察方法, 強(qiáng)調(diào)樣品表面的凹凸示範推廣, 利用物質(zhì)的特性(偏光性)進(jìn)行觀察處理方法。OLS4500上可以使用下述觀察方法。

• 明視場觀察
 基本的觀察方法持續向好,通過樣品的反射光成像進(jìn)行觀察

• 微分干涉觀察
 給樣品表面的微小凹凸添加明暗對比習慣,使之變?yōu)榭梢暤牧Ⅲw影像

• 簡易偏振光觀察
 照射偏振光(有著特定振動方向的光線),把樣品的偏光性變?yōu)榭梢曈跋?/span>

紙張上的墨點(diǎn)

明視場觀察可以獲取顏色信息進展情況。紙張上的墨點(diǎn) 

 

激光顯微鏡的原理和特長

可進(jìn)行亞微米級觀察和測量的激光顯微鏡(LSM:Laser Scanning Microscope)

光學(xué)顯微鏡的平面分辨率很大程度上取決于所用光的光子和波長的積極性,采用短波長的激光掃描顯微鏡(LSM)比采用可見光的傳統(tǒng)顯微鏡,擁有更高的平面分辨率至關重要。 
LEXT OLS4500采用405nm的短波長半導(dǎo)體激光不久前、高數(shù)值孔徑的物鏡、以及*的共焦光學(xué)系統(tǒng)提升行動,可以達(dá)到0.12μm的平面分辨率能力建設。此外,OLS4500配有奧林巴斯*的掃描加掃描型2D掃描儀研究進展,可以實(shí)現(xiàn)高達(dá)4096×4096像素的高精度XY掃描無障礙。

高精度XY掃描

激光顯微鏡的高精度XY掃描(示例)

 

Z軸測量

激光顯微鏡采用短波長半導(dǎo)體激光和*的雙共焦光學(xué)系統(tǒng),會刪除未聚焦區(qū)域的信號快速融入,只將聚焦范圍內(nèi)的反射光檢測為同一高度認為。同時結(jié)合高精度的光柵讀取能力系統,可以生成高畫質(zhì)的影像,實(shí)現(xiàn)精確的3D測量文化價值。

高度測量

高度測量(微透鏡)

 

探針顯微鏡的原理和特長

可以觀察納米級微觀世界的探針顯微鏡(SPM:Scanning Probe Microscope)

探針顯微鏡(SPM)是通過機(jī)械式地用探針在樣品表面移動形式,檢測出探針與樣品之間產(chǎn)生的力、電的相互作用不斷完善,同時進(jìn)行掃描數字化,從而得到樣品影像。探針曲率半徑為10 nm左右基礎上。典型的探針顯微鏡是原子力顯微鏡(AFM)各領域,它通過檢測探針和樣品表面之間作用的引力和張力進(jìn)行掃描并獲得影像。探針顯微鏡能夠觀察納米級微觀形貌保持競爭優勢,可以捕捉到樣品精細(xì)的一面進行培訓。

探針顯微鏡的原理

探針顯微鏡的原理

 

通過微懸臂掃描進(jìn)行納米觀察

OLS4500上采用了光杠桿法——通過高靈敏度檢測出前端裝有探針的微懸臂的微小彎曲量(位移)來進(jìn)行觀測的方法。在懸臂的背面反射激光長效機製,并用壓電元件驅(qū)動Z軸法治力量,使激光照射到光電檢測器的位置,從而正確讀取Z方向的微小位移改造層面。

SPM傳感器光路圖

SPM傳感器光路圖

 

多種觀察模式在影像中呈現(xiàn)表面形狀和物性

探針顯微鏡擁有多種觀察模式供給,可以觀察、測量樣品表面的形狀經驗分享,還可以進(jìn)行物性分析解決方案。OLS4500配有以下模式。

• 接觸模式:在影像中呈現(xiàn)表面形狀(較硬的表面)

• 動態(tài)模式:在影像中呈現(xiàn)表面形狀(較軟的表面有力扭轉、有粘性的表面)

• 相位模式:在影像中呈現(xiàn)樣品表面的物性差

• 電流模式*檢測出探針和樣品之間的電流并輸出影像

• 表面電位模式(KFM*在影像中呈現(xiàn)樣品表面的電位

• 磁力模式(MFM*在影像中呈現(xiàn)樣品表面的磁性信息 
 * 該模式為選項功能上高質量。

高分子薄膜

高分子薄膜

 

決定高精細(xì)度、高質(zhì)量影像的微懸臂

探針位于長度約100μm200μm的薄片狀微懸臂的前端廣度和深度。您可以根據(jù)樣品選擇不同的彈簧常數(shù)深入交流、共振頻率。反復(fù)掃描會磨損探針加強宣傳, 所以請根據(jù)需要定期更換微懸臂探針臺上與臺下。

微懸臂

 

高精度微懸臂實(shí)現(xiàn)了高可靠性

探針顯微鏡的平面分辨率由探針前端的直徑?jīng)Q定。奧林巴斯獨(dú)自開發(fā)設計能力、生產(chǎn)微懸臂,其探針前端的尖銳直徑質(zhì)量穩(wěn)定深入開展,可靠性很高更為一致。此外,奧林巴斯的一系列設(shè)計使探針定位更加容易的“T*iew”構(gòu)造技術的開發、鑷子型易于夾取物體的新概念探針等研究與應用,不僅提高了觀測精度飛躍,還使操作變得更加輕松。 
 ※微懸臂產(chǎn)品的詳細(xì)信息全面協議,請參閱微懸臂產(chǎn)品目錄重要部署。

 

OMCL-AC160TS-C3 標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)硅膠微懸臂

Q值帶來的高分辨率測量
 該型號是常使用的動態(tài)模式微懸臂,適用于表面粗糙度測量工具。

硅膠微懸臂 硅膠微懸臂

 

OMCL-AC240TS-C3低彈簧常數(shù)硅膠微懸臂

可用于再現(xiàn)性較好的粘性和彈性測量
該型號作為動態(tài)模式的硅膠微懸臂智慧與合力,其彈簧常數(shù)小《2N/m(Nom.),適用于粘性、彈性的測量等重要的角色。

 低彈簧常數(shù)硅膠微懸臂 低彈簧常數(shù)硅膠微懸臂

 

OMCL-TR800PSA-1 標(biāo)準(zhǔn)氮化硅微懸臂

低損耗開放要求、優(yōu)異的耐久性
該型號常用于接觸模式,其特點(diǎn)是探針柔軟平臺建設、探針損耗較小服務機製。每個前端帶有100μm200μm長兩種微懸臂。

標(biāo)準(zhǔn)氮化硅微懸臂 標(biāo)準(zhǔn)氮化硅微懸臂

 

兼容多種微懸臂重要的作用。微懸臂更換方法簡單而易于掌握

請根據(jù)您的使用頻度定期更換微懸臂更多可能性。OLS4500上的電動物鏡轉(zhuǎn)換器、SPM測頭足夠的實力、微懸臂支架已經(jīng)被精確調(diào)整過緊迫性,所以只要把已調(diào)好微懸臂位置的支架插入SPM測頭中即完成更換。微懸臂和支架的位置調(diào)整需要使用工裝夾具多種場景,所以誰都可以正確而輕松的完成操作多元化服務體系。此外,其他各種型號的微懸臂也按照同樣方法更換擴大公共數據,提高了觀察和測量的效率深度。

微懸臂位置調(diào)整工裝夾具 微懸臂位置調(diào)整工裝夾具

微懸臂位置調(diào)整工裝夾具

 

應(yīng)用

DVD表面

DVD表面
(掃描區(qū)域 5μm×5μm 3D影像) 
可清楚觀察到DVD刻錄面的凹陷和表面狀態(tài)。

維氏硬度計壓痕

維氏硬度計壓痕
(掃描區(qū)域 20μm×20μm 3D影像)可清楚觀察到從壓痕頂角延伸的裂痕核心技術體系。 

TiO2單結(jié)晶電路板

TiO2單結(jié)晶電路板
(掃描區(qū)域 5μm×5μm 3D影像) 
可觀察到約0.3 nmTiO2(*)的原子臺階開拓創新。

IC元件圓孔

IC元件圓孔
(掃描區(qū)域 4μm×4μm 3D影像) 

可觀察到元件表面附著的微小異物(白色部分)。 

高分子薄膜

高分子薄膜
(掃描區(qū)域 10μm×10μm 3D影像) 可觀察到薄膜表面的劃痕(中間靠左)必然趨勢。

鋁合金陽極氧化膜

鋁合金陽極氧化膜
(掃描區(qū)域 1.8μm×1.8μm 表面電位模式(KFM模式),左:高度影像,右:電位影像)觀察到鋁合金陽極氧化膜的表面形狀(左)的同時促進善治,觀察到表面電(右)。形狀影像上沒有顯示出來的網(wǎng)眼狀構(gòu)造多樣性,可在電位影像上清楚的看到發揮效力。 

彩色印刷

彩色印刷
光學(xué)顯微鏡(50x

彩色印刷

彩色印刷
SPM(掃描區(qū)域 5μm×5μm 3D影像)

乳酸菌

乳酸菌
LSM(掃描區(qū)域 100μm×100μm

乳酸菌

乳酸菌

SPM(掃描區(qū)域 20μm×20μm 高度影像) 

墨粉粒子

墨粉粒子
LSM(掃描區(qū)域 80μm×80μm 右上:10μm×10μm 

墨粉粒子

墨粉粒子
SPM(掃描區(qū)域1μm×1μm 3D影像)



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