真空快速退火爐AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝表現。
真空快速退火爐AS-One可以搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝特點。
溫度1500 ℃，升溫速率200℃/Second結論。
全程PC軟件控制升溫程序和諧共生，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確適應性強。
應(yīng)用：
• RTA(快速熱退火)
• RTO(快速熱氧化)
• 歐姆接觸退火
• 植入退火
• 石墨烯和hBN的快速熱化學(xué)氣相沉積RTCVD
• 硒化技術交流，硫化
• 結(jié)晶和致密化
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、 紅外鹵素?zé)艄芗訜峤ㄔO，冷卻采用風(fēng)冷(低噪音水平在此基礎上，無需壓縮空氣)；
2前來體驗、加熱由功率控制而非電壓控制自主研發，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性更加廣闊，即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到初的熱處理效果不同需求；
3、石英腔體保持穩定，腔體冷卻采用水冷總之，冷壁設(shè)計(jì)，雙層不銹鋼支撐作用；
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于：1研學體驗、無記憶，2最為突出、工藝重復(fù)性高落實落細，3、冷卻速度快高效化；
4製高點項目、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì)為產業發展，氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面，避免在退火過程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生有所增加。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性各項要求；
5、快速數(shù)字PID控溫越來越重要的位置；
6新技術、熱電偶配合高溫計(jì)控溫，測試樣品的溫度結構重塑，控溫精準(zhǔn)聽得懂；
7、大氣和真空工藝均適合高質量發展，凈化氣體配針閥全方位；
8、多5路工藝氣體影響力範圍，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器大局；
9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度邁出了重要的一步；
10有序推進、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì)，用于小樣品測試需求；
11堅定不移、可選配分子泵，用于高真空測試相對開放。
產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：
1推進高水平、樣品大尺寸：AS-One100：4-inch；AS-One150 ：6-inch拓展應用；
2生產創效、溫度范圍：AS-One100室溫~1250 ℃；(室溫~1500 ℃可選)
AS-One150室溫~1200 ℃管理；(室溫~1300 ℃可選)
3優化上下、升溫速率：AS-One100 ：0.1 ℃~250 ℃/s ；
AS-One150 ：0.1 ℃~200 ℃/s 模樣；
4生產體系、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；
5很重要、熱電偶：2個(gè)K型熱電偶能力和水平；
6、低溫高溫計(jì)溫度范圍：150℃~1100 ℃服務效率；
7明確相關要求、高溫高溫計(jì)溫度范圍：400℃~1500 ℃；
8統籌發展、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì)深化涉外；
9、配置真空泵及真空規(guī)生產製造。
