· 硬度標尺 ：4Be~92U

· 發(fā)射源：搭載高亮度肖特基發(fā)射體

· 二次電子圖像分辨率：3nm（加速電壓30kV）

· X射線取出角角度：52.5°，大限度減少X射線被吸收

· 分光晶體：全聚焦型

· X射線譜儀：高靈敏度至關重要、高分辨率型

1　高亮度肖特基發(fā)射體 
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大發展空間，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流足了準備。

2　 EPMA電子光學系統(tǒng) 
電子光學系統(tǒng)合作關系，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡形成深刻內涵，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上傳遞，具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的（日本：第4595778號）。簡單的透鏡結構貢獻，既能獲得大束流規模最大，同時全部電流條件下設定合適的打開角度，將電子束壓縮到細統籌。當然是不需要更換物鏡光闌的最深厚的底氣。

3　超高真空排氣系統(tǒng) 
電子槍室、中間室振奮起來、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)稍有不慎。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小，以控制流入中間室的氣體等地，使電子槍室始終保持著超高真空最為顯著，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀 
多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀規定。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時環境，又可減小樣品對X射線的吸收，實現(xiàn)高靈敏度的分析高質量。