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PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

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PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng) PE100RIE系統(tǒng)是以一個高強度真空室為基礎快速融入,真空室內(nèi)的電極可對幾乎所有的材料進行處理認為,并屏蔽真空室內(nèi)的靜電以保護樣品。

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PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng)


特點:

等離子刻蝕增強,是干法刻蝕中見的一種形式重要意義,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體更優美,從而形成了等離子或離子各方面,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面成效與經驗。某種程度來講適應性,等離子清洗實質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室稍有不慎、電源重要作用、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室相關性,氣體被導入并與等離子體進行交換完成的事情,等離子體在工件表面發(fā)生反應,反應的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走穩定。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝改造層面。近期的發(fā)展是在反應室的內(nèi)部安裝成擱架形式,這種設計的是富有彈性的優勢與挑戰,用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法:反應性等離子體(RIE)經驗分享,順流等離子體(downstream),直接等離子體(directionplasma)趨勢。

PE公司為幾乎所有的等離子處理應用提供了*的設備有力扭轉,我們很自豪地說,我們的等離子蝕刻系統(tǒng)在各個行業(yè)應用中表現(xiàn)優(yōu)異一站式服務。我們在控制離子密度廣度和深度,電子溫度,和等離子體電位等核心技術上擁有豐富的實際經(jīng)驗,通過幾個擁有的關鍵技術加強宣傳,可以保證獲得非常均勻的等離子體蝕刻的效果臺上與臺下。

我們的系統(tǒng)是以一個高強度真空室為基礎,真空室內(nèi)的電極可對幾乎所有的材料進行處理技術發展,并屏蔽真空室內(nèi)的靜電以保護樣品集聚效應。空氣或氣體通過控制閥進入室內(nèi)重要手段,與樣品進行反應互動講,所產(chǎn)生的廢氣通過真空泵迅速抽離。所使用的氣體的類型取決于蝕刻工藝像一棵樹。四氟化碳(CF4)和氧氣是常用的氣體腐蝕講故事。

等離子體應用強大的RF(射頻)系統(tǒng)產(chǎn)生13.56MHz電極的電磁場。通過射頻發(fā)生器產(chǎn)生的振蕩的電場和電離作用積極影響,氣體分子獲得剝離的電子自動化方案。正離子因為電壓差會移向樣品,然后與被蝕刻的樣品碰撞越來越重要,并與有機材料在樣品表面化學反應線上線下。離子還可以通過轉(zhuǎn)移它們的動能來去除某些物質(zhì)。電子以震蕩的形式在真空室內(nèi)運動醒悟,多余的電子會被室壁吸收數據顯示,因為是室壁是接地的,所以他們能被安全的導出設備也逐步提升。

等離子體處理可應用于所有的基材記得牢,甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化和清洗。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低重要的作用,因此更多可能性,低壓等離子體也能處理敏感性材料。





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