產(chǎn)品型號(hào)

GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃解決問題，濕度55%Rh±10%Rh下使用系列。

1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)的有效手段，水溫小于25℃統籌推進，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）關鍵技術；

2了解情況、電：AC380V 50Hz，功率大于10KW表現，波動(dòng)范圍：小于±6％特點，必須有良好接地（對(duì)地電阻小于2Ω）；

3結論、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上）和諧共生，需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、場(chǎng)地面積：設(shè)備尺寸2000mm×2000mm適應性強，承重1000kg以上

5技術交流、通風(fēng)裝置：需要（外排廢氣管道）；

主要特點(diǎn)

1拓展、由于電子束定位準(zhǔn)確能量很高創造更多，可蒸發(fā)難熔金屬或化合物，蒸發(fā)速率快不斷進步；

2工藝技術、體積小效率，操作簡(jiǎn)便可以非常容易的放置材料和清理；

3近年來、蒸發(fā)材料放置在水冷銅坩堝中講道理，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜技術先進；

4更多的合作機會、由于蒸發(fā)物面積小，因而熱輻射損失小認為，熱效率高服務好；

技術(shù)參數(shù)

1、極限真空度：≤6.67x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)反應能力；

2共謀發展、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

3製高點項目、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂鬄楫a業發展，再開(kāi)始抽氣，45分鐘可達(dá)到6.6x10-4 Pa有所增加；

基片參數(shù)

1各項要求、基片尺寸：可放置φ4″基片（帶手動(dòng)擋板）；

2越來越重要的位置、基片加熱溫度 800℃±1℃新技術，由熱電偶閉環(huán)反饋控制；

3順滑地配合、基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)深入，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分；

4前沿技術、基片與蒸發(fā)源之間距離300～350mm可調(diào)基礎；

電子束蒸發(fā)源參數(shù)

1、E型電子槍多種方式，陽(yáng)極電壓6KV對外開放、8KV；
2深入交流研討、電子槍坩堝：水冷銅坩堝資料，四穴設(shè)計(jì)，每個(gè)熔煉11ml 關註度；
3橫向協同、電子束功率0-6KW可調(diào)；

真空腔體

1、U型真空室尺寸Ф500X600mm不斷創新，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造建立和完善，氬弧焊接，表面進(jìn)行特殊工藝拋光處理堅持先行，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封產業；

2滿意度、真空腔體前開(kāi)門鉸鏈結(jié)構(gòu)情況較常見，方便取、放樣品主要抓手；

3體製、前開(kāi)門設(shè)有兩個(gè)觀察窗接口，可以觀察電子槍和基片很重要；

4能力和水平、設(shè)備預(yù)留膜厚儀接口，可選配膜厚儀異常狀況；

5研究、高真空分子泵機(jī)組，閘板閥隔斷（也可使用高真空擋板閥）應用創新；

產(chǎn)品規(guī)格

整機(jī)尺寸：1800mm×1200mm×2000mm提高；

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空獲得機(jī)組

1套

3

真空測(cè)量

1套

4

電子槍

1套