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世界小輕的便攜式X射線殘余應力分析儀--X360s

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具體成交價以合同協(xié)議為準

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— 滿足日本標準JSMS-SD-14-20 X射線是表面殘余應力測定技術中為數(shù)不多的無損檢測法之一分享,是根據(jù)材料或制品晶面間距的變化測定應力的,至今仍然是研究得廣泛信息化、深入方式之一、成熟的殘余應力分析和檢測方法之一,被廣泛的應用于科學研究和工業(yè)生產(chǎn)的各領域新型儲能。2012年日本Pulstec公司開發(fā)出世界基于全二維探測器技術的新一代X射線殘余應力分析儀——μ-X360n創新能力,將利用X射線研究殘余應力的測量速度和精度推到了一個全新的高度,設備推出不久便得到業(yè)界的廣泛好評範圍。由于其技術之*廣度和深度、測試數(shù)據(jù)可重復性之高、使用之便攜引領作用,設備一經(jīng)推出便備受業(yè)界青睞加強宣傳! 近期,日本Pulstec公司成功克服技術難點用的舒心,發(fā)布了新的產(chǎn)品型號:μ-X360s技術發展,將全二維面探測器技術的產(chǎn)品設計和功能完善再次升級!

詳細信息 在線詢價

產(chǎn)品特點:

相較于傳統(tǒng)的X射線殘余應力測定儀深入開展,新一代μ-X360s具有以下優(yōu)點:

更快速:二維探測器一次性采集獲取完整德拜環(huán)更為一致,單角度一次入射即可完成殘余應力測量。

更精確:X射線單次曝光可獲得500個衍射點進行殘余應力數(shù)據(jù)擬合技術的開發,結果更精確研究與應用。

更輕松:無需測角儀,單角度一次入射即可更高效,復雜形狀和狹窄空間的測量不再困難全面協議。

更方便:無需任何液體冷卻裝置重要部署,支持便攜電池供電。

更強大:支持擴展區(qū)域應力分布自動測量功能工具,具備晶粒尺寸均勻性智慧與合力、材料織構、殘余奧氏體含量分析等功能重要的角色。


測試原理概述:

全二維面探測器技術

--單角度一次入射后開放要求,利用二維探測器獲得完整德拜環(huán)。通過比較沒有應力時的德拜環(huán)和有應力狀態(tài)下的變形德拜環(huán)的差別來計算應力下晶面間距的變化以及對應的應力
--施加應力后平臺建設,分析單次入射前后德拜環(huán)的變化服務機製,即可通過殘余應力分析軟件獲得殘余應力數(shù)據(jù)。



基本參數(shù):

準直器尺寸標配:直徑1mm(其他尺寸可選)
X射線管參數(shù)30KV 1.5mA
X射線管所用靶材標配:鉻靶(可選配其他)
是否需要冷卻水無需
是否需要測角儀 無需
X射線入射角度 單一入射角即可獲取全部數(shù)據(jù)
所用探測器二維探測器
直接測量參數(shù) 殘余應力 衍射峰的半峰高全寬
電源參數(shù) 130W功率 110-240V 50-60HZ
可否戶外現(xiàn)場檢測 設備便攜使用、支持便攜電池供電


應用領域:

1. 機械加工領域:測量機床大幅拓展、焊接、鑄造更加堅強、鍛壓與時俱進、裂紋等構件的殘余應力。

2. 冶金行業(yè):測量熱壓初步建立、冷壓綜合運用、煉鐵、煉鋼擴大公共數據、煉鑄等工業(yè)生產(chǎn)構件的殘余應力深度。

3. 各種零配件制造:測量電站汽輪機制造、發(fā)動機制造核心技術體系、油缸開拓創新、壓力容器、管道必然趨勢、陶瓷促進善治、裝配、螺栓多樣性、彈簧發揮效力、齒輪、軸承明顯、軋輥安全鏈、曲軸、活塞銷創新為先、萬向節(jié)真正做到、機軸、葉片創新延展、*等工業(yè)產(chǎn)品的殘余應力強化意識。

4. 表面改性處理:測量滲氮長期間、滲碳、碳氮共滲現場、淬火高端化、硬化處理、噴丸我有所應、振動沖擊提單產、擠壓、滾壓能力建設、金剛石碾壓關註、切削、磨削無障礙、車(銑)、機械拋光快速融入、電拋光等工藝處理后構件中的殘余應力認為。

5. 民生基礎建設領域:

(1)海洋領域:測量船舶、海洋就能壓製、石油更合理、化工、起重更優美、運輸各方面、港口等領域設備和設施的殘余應力。

(2)能源領域:測量核工業(yè)成效與經驗、電力(水利水電適應性、熱電核電)、水利工程稍有不慎、天然氣工程等領域的設備和設施的殘余應力重要作用。

(3)基礎建設工程領域:測量挖掘、橋梁最為顯著、汽車尤為突出、鐵路、航空航天環境、交通空間載體、鋼結構等工程領域所用材料、構件及其它相關設備設施的殘余應力相對簡便。

6. 工領域:測量武器裝備重要組成部分、重型裝備等*產(chǎn)品的殘余應力。


應用軟件:

1. 采用全二維面探測器獲取完整德拜環(huán)趨勢,X射線單角度一次入射即可完成應力測量

2. 全自動軟件測量殘余應力并可顯示出半峰寬數(shù)值

3. 內(nèi)在定位標記和CCD相機方便樣品定位有力扭轉,操作極其簡單快捷

4. 快捷進入預設各種材料測量條件上高質量,一鍵執(zhí)行測量


晶粒取向分析


晶粒均勻性分析



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