Ultra-100清潔和單分子層成膜機(jī)集成了清潔和單分子層氣態(tài)成膜功能與一體競爭激烈，可以用于納米壓印模具和基板提供單分子層分辨能力的成膜和清潔任務(wù)，也可以廣泛用于其他需要真空改善，紫外空白區，加熱，成膜的各種應(yīng)用信息化，諸如光刻模具的清潔和成膜處理等開放要求。

Ultra-100集成了真空，紫外O-Zone清潔平臺建設，紫外聚合服務機製，單分子層氣態(tài)成膜等能力與一體，可以選擇單一或多元化學(xué)氣體使用，只要按一個(gè)操作按鈕大幅拓展，Ultra-100就可以全自動(dòng)運(yùn)作。Ultra-100的桌面設(shè)計(jì)非常簡(jiǎn)潔更加堅強，性能可靠穩(wěn)定與時俱進。

主要特點(diǎn)：

集成真空，紫外初步建立，加熱綜合運用，單分子層成膜多功能于一體，集成清潔和單分子層成膜于一鍵操作的方法，杰出的膜覆蓋能力及均勻性效果較好，優(yōu)異的清潔能力重要的意義，適合各種大小的基板和模板

§1″, 2″, 3”, 4”, 6”or 8″

§各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可

全自動(dòng)化程序控制操作

可接多種化學(xué)氣體

單分子層氣體成膜高分辨率

快速工藝循環(huán)時(shí)間

*的用戶(hù)靈活性

緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì)

性?xún)r(jià)比

基于超過(guò)12年、15代產(chǎn)品開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動(dòng)化操作

Nanonex系統(tǒng)經(jīng)過(guò)大量實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證等多個領域，質(zhì)量可靠再獲，性能*穩(wěn)定

系統(tǒng)參數(shù)

尺寸

§樣品尺寸：上限是8”x8”

§腔體尺寸：10”x10”x5.75”

§全部機(jī)器尺寸：27”x21”x8.75”

典型基板

§硅和氧化硅

§砷化鎵（GaAs）

§磷化銦（InP)

§玻璃，石英應用擴展，熔石英

§金屬

§陶瓷材料

氣體體驗區，紫外Ozone和加熱

§真空：< 100 mTorr

§多4個(gè)氣體接口可用于單分子氣體鍍膜

§2”直徑排氣管

§紫外燈波長(zhǎng)：185納米，254納米活動上，365納米有望，436納米

§紫外光功率：250瓦

§紫外光強(qiáng)度：> 10mW/cm2 (254nm波長(zhǎng)）

§基板加熱能力：700瓦，大溫度175攝氏度