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NX-B100/200-納米壓印

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多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)

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產(chǎn)品概述

NX-B100/B200整片基板納米壓印系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證不容忽視,質(zhì)量可靠,性能*穩(wěn)定服務體系。具備全部壓印模式:熱固化說服力、紫外固化和壓印》治?;?保護的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)(ACP)表示,不論模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)非常激烈,NX-B100/B200均可對其校 正補償從而獲得*的壓印均勻性競爭力所在, ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移引人註目,有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計可獲得快速的熱壓印周 期溝通機製,終得到快速的工藝循環(huán)建設,適用于小于4英寸的晶圓片可靠保障。

所有形式的納米壓印
? 熱塑化
? 紫外固化 (NX-B200)
? 熱壓與紫外壓印同時進行(NX-B200)
? 熱固化
氣墊軟壓技術(shù)(ACP)
? Nanonex技術(shù)
? 完美的整片基板納米壓印均勻性
? 高通量
低于10nm分辨率
快速工藝循環(huán)時間(小于60秒) 靈活性
? 大75毫米直徑壓印面積 ? 各種尺寸及不規(guī)則形狀模
板與基板均可壓印
方便用戶操作
基于超過12年實踐者、15代產(chǎn)品開發(fā) 經(jīng)驗的自動化壓印操作
Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實 時實地驗證即將展開,質(zhì)量可靠,性 能*穩(wěn)定
全自動納米壓印

技術(shù)參數(shù)

熱塑壓印模塊(NX-B100/B200)
● 溫度范圍0~250℃
● 加熱速度>200℃/分鐘
● 制冷速度>60℃/分鐘
● 壓力范圍0 ~ 3.45 MPa(500 psi)
紫外固化模塊(NX-B200)
● 58mW/cm2紫外LED光源
● 365納米或395納米波長可選
● 全自動化控制

模版裝載功能
● 大3″模板可用于標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)
基板裝載
● 標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載3″基板
● 各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印
● *保護ACP技術(shù)可大限度保護模板和基板橋梁作用,特別對 于象磷化銦(InP)等極易碎模板和基板給予大限度長遠所需。


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