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    PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)XPS探針

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    PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)XPS探針是一款操作簡單先進水平,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS*的掃描聚焦X-ray系統(tǒng)全面展示,可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm重要平臺。和傳統(tǒng)的XPS相比,不采用光闌進行選區(qū)核心技術,*的提高了XPS200μm以下空間尺度的靈敏度應用提升。同時,不需要增加磁透鏡創造性,即可得到的靈敏度的信噪比要素配置改革,即使磁性樣品,也可輕松應(yīng)對保障性。

     

    1. 的操作性

    PHI X-tool 全自動掃描型微區(qū)XPS探針軟件支持直觀的觸摸屏操作,所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成責任製。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式(自動定性十分落實、定量、分析及完成報告)規則製定,操作者無論是否具有豐富的XPS操作經(jīng)驗製造業,均能輕松應(yīng)對優化服務策略。

     

    2. 自動參數(shù)設(shè)定、自動完成報告

    PHI X-tool具備自動對焦功能(Auto-Z)發展基礎,使分析位置處于X射線的焦平面上更讓我明白了,得到全優(yōu)的分析條件。其可實現(xiàn)中和參數(shù)的自動匹配積極,無論樣品的導(dǎo)電性如何探索,均可輕松應(yīng)對。

     

    • 自動定性:實現(xiàn)譜峰自動識別
    •    自動定量:自動選定譜峰定量范圍
    •    自動曲線擬合:可自動實現(xiàn)預(yù)定條件的曲線擬合
    •    自動生成實驗報告

      3. 多方式樣品觀察

      XPS分析中產業,樣品觀察滿意度,特別是微區(qū)定位至關(guān)重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進行樣品觀察:a. 進樣室高空間分辨率圖像可持續;b. 實時CCD成像主要抓手;c. 二次電子像(SXI)。利用這幾種方法觀察樣品構建,不論樣品大小創新科技,表面形貌如何均可輕松確定測試位置。

       

      4. 詳細的條件設(shè)定和直觀的操作

      結(jié)合材料和目的共創輝煌,可詳細設(shè)定分析的條件具有重要意義。通過內(nèi)置元素周期表,可設(shè)定各光電子峰和俄歇峰精準調控。通過更改通過能功能、步長、積分時間設(shè)定窄譜掃描參數(shù)解決。對每個樣品可設(shè)置習慣的文件名和樣品名稱預期。

       

      5. 快速化學成像

      采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式,可實現(xiàn)快速成像分析幅度。每個點都可以直接調(diào)取全部的譜數(shù)據(jù)結構。化學態(tài)成像的空間分辨率貢獻、靈敏度規模最大、能量分辨率與儀器主指標*。

       

       

       

       

       

      6. 采用PHI*的*硬件設(shè)計

    • 微聚焦掃描X-ray源統籌;
    • 雙束中和系統(tǒng)最深厚的底氣,低能離子束及低能電子束自動配合;
    • 浮動離子槍振奮起來,離子加速電壓條件范圍可達0~5kV


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