磁控濺射鍍膜機(jī)（Sputter）儀器特點(diǎn)：

腔體材料：不銹鋼，鋁溝通協調，或者Bell Jar要素配置改革；

分子泵：70，250高效節能，500 l/sec影響力範圍； 一級(jí)泵：機(jī)械泵或干泵；

13.5MHz, 300-600W射頻電源新創新即將到來；1KW直流電源邁出了重要的一步；

QCM在線(xiàn)厚度測(cè)量，厚度分辨率<0.1nm設施；

帶有觀(guān)察窗的門(mén)需求，方便樣品取放；

Labview軟件組合運用，PC控制更讓我明白了；

多重密碼保護(hù)；

全安全互鎖設(shè)計(jì)競爭力；

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磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)

儀器特點(diǎn)：

• 腔體材料：不銹鋼充分，鋁，或者Bell Jar集聚；

• 分子泵：70競爭力，250，500 l/sec狀況； 一級(jí)泵：機(jī)械泵或干泵機製性梗阻；

• 13.5MHz, 300-600W射頻電源機製；1KW直流電源；

• QCM在線(xiàn)厚度測(cè)量集成應用，厚度分辨率<0.1nm探討；

• 帶有觀(guān)察窗的門(mén)，方便樣品取放高效流通；

• Labview軟件調解製度，PC控制；

• 多重密碼保護(hù)功能；

• 全安全互鎖設(shè)計(jì)應用的因素之一；

磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)選配功能：

• 向上，向下預期，側(cè)向?yàn)R射敢於監督；

• 射頻，直流共同、脈沖直流濺射推進一步；

• 共濺射，反應(yīng)濺射簡單化；

• 組合濺射力度；

• 射頻、直流偏置(1000V)優勢；

• 基底加熱：不高于700攝氏度善謀新篇；

• 厚度監(jiān)控增產；

• 基底射頻等離子清洗便利性；

• Load-Lock，以及自動(dòng)樣品取放行動力；

不同型號(hào)選擇：

• NSC系列提供有力支撐，立式磁控濺射系統(tǒng)；

• NSC系列保供，立式緊湊磁控濺射系統(tǒng)自行開發；

• NSC系列，臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)責任；

• 雙腔體系統(tǒng)應用情況，NSR系列，磁控濺射+反應(yīng)離子刻蝕(RIE)組建；

• 雙腔體系統(tǒng)表現，NSP系列，磁控濺射+PECVD深刻變革；

• 雙腔體系統(tǒng)結論，NST系列和諧共生，磁控濺射+熱蒸發(fā)；