Ossila紫外臭氧清洗機(jī)-L2006是一種光敏氧化處理過(guò)程統籌發展。在處理過(guò)程中深化涉外，有機(jī)分子在吸收短波長(zhǎng)紫外輻射后，與臭氧分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)逐漸完善，使有機(jī)分子從樣品表面分離下來(lái)參與能力。紫外臭氧清洗是一種的清潔技術(shù)，可清潔光敏表面是目前主流、樹脂表面充分發揮，以及洗滌溶劑、助焊劑應用創新、油類中的殘留物提高，可以對(duì)你的樣品進(jìn)行表面殺菌處理而不影響表面屬性。

什么是紫外臭氧清洗?

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化處理過(guò)程的特性。在處理過(guò)程中交流，有機(jī)分子在吸收短波長(zhǎng)紫外輻射后，與臭氧分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)提供堅實支撐，使有機(jī)分子從樣品表面分離下來(lái)還不大。紫外臭氧清洗是一種的清潔技術(shù)，可清潔光敏表面信息化技術、樹脂表面發揮作用，以及洗滌溶劑、助焊劑逐步顯現、油類中的殘留物十分落實，可以對(duì)你的樣品進(jìn)行表面殺菌處理而不影響表面屬性新產品。紫外臭氧清洗與其它清洗技術(shù)(如氧等離子清洗)不同適應性，不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷宣講手段。

紫外臭氧清洗機(jī)利用高強(qiáng)度紫外光源，在185nm和 254nm兩個(gè)波長(zhǎng)照射目標(biāo)表面進(jìn)行處理有很大提升空間。樣品倉(cāng)內(nèi)的分子氧(O2)在200nm以下波長(zhǎng)的紫外線照射下進(jìn)行分解運行好，產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•)。每個(gè)氧自由基隨后與更多的氧分子發(fā)生反應(yīng)，生成臭氧(O3)分子(圖1)部署安排。沒(méi)有被殘余氧吸收的大于200nm波長(zhǎng)的紫外線被基片表面上的有機(jī)化學(xué)鍵大量吸收搖籃，導(dǎo)致激發(fā)狀態(tài)或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些活性有機(jī)物種與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí)會(huì)產(chǎn)生易揮發(fā)性物種推廣開來，如CO2推動，H2O，N2及短鏈有機(jī)化合物重要的。這種揮發(fā)性物質(zhì)極易從樣品表面揮發(fā)釋放開展研究，達(dá)到表面清潔的效果。

Ossila紫外臭氧清洗機(jī)-L2006可以去除樣品表面污染問題分析，數(shù)分鐘內(nèi)產(chǎn)生超凈表面。它利用高能紫外光源產(chǎn)生臭氧交流研討，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物更加完善。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)，*跡建設應用。這種清潔方法可以產(chǎn)生接近原子級(jí)的清潔表面支撐作用，而不會(huì)對(duì)樣品表面產(chǎn)生損壞。

英國(guó)Ossila紫外臭氧清洗機(jī)的托盤尺寸為100mmx100mm動力，可將樣品定位于紫外光源下同時。您只需將樣品放到托盤上，關(guān)上倉(cāng)門效高性，設(shè)置好時(shí)間模式，按開始鍵即可。

Ossila紫外臭氧清洗機(jī)-L2006性價(jià)比高提升，廠家提供2年免費(fèi)質(zhì)保高品質。

主要應(yīng)用

目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE支撐能力，對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用資源優勢，以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物（碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面特征更加明顯。

表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機(jī)表面估算，在將有機(jī)物分解的同時(shí)，254nm波長(zhǎng)的紫外光被物體表面吸收后的可能性，將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷不要畏懼，光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH措施，-CHO大大縮短，-COOH），從而提高表面的浸潤(rùn)性。

紫外臭氧清洗機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域包括:

· 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過(guò)濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等更默契了。

· 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版先進技術。
精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前不合理波動，對(duì)高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接搶抓機遇，塑料汽車部件，透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等表示。
科研過(guò)程的表面清洗及處理：半導(dǎo)體全面闡釋，生物芯片，納米材料競爭力所在，聚合物引人註目，光化學(xué)等。

紫外臭氧清洗機(jī)適用的樣品類型包括:

· 石英

· 硅

· 二氧化硅

· 氮化硅

· 金

· 鎳

· 鋁

· 砷化鎵

· 氧化鋁

· 玻璃

· 不銹鋼

功能特征

· 成本低溝通機製；

· 120x120mm樣品臺(tái)好宣講；

· 處理樣品高14mm；

· 抽屜式樣品臺(tái)領先水平，簡(jiǎn)單方便；

· 樣品臺(tái)自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉，防止對(duì)人身傷害戰略布局；

· UVO顯示器

· LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”事關全面；

· 60分鐘定時(shí)器；

· 高強(qiáng)度UV燈源狀態；

· 可控溫的樣品臺(tái)技術節能；

· 樣品清洗無(wú)需溶劑；

· 超凈表面

左: 紫外線臭氧清洗前    右: 紫外臭氧清洗10分鐘后(右)基石之一。

技術(shù)參數(shù)