LSX-213 G2+ Nd：YAG激光剝蝕系統(tǒng) 品牌介紹
TELEDYNE CETAC TECHNOLOGIES專屬的激光剝蝕/燒蝕品牌PHOTON MACHINES重要方式，起源于歷史悠久的商業(yè)化激光剝蝕/燒蝕公司MERCHANTEK公司開展面對面，具有豐富的激光剝蝕/燒蝕產(chǎn)品設(shè)計(jì)、研發(fā)非常重要、制造經(jīng)驗(yàn)進一步提升，尤其具有極其豐富的激光剝蝕/燒蝕的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)。PHOTON MACHINES品牌激光剝蝕/燒蝕系統(tǒng)具有完整的產(chǎn)品線營造一處，為元素分析用戶提供*的激光剝蝕技術(shù)改革創新。
應(yīng)用領(lǐng)域
環(huán)境樣品分析 | 物證樣品分析 |
| 農(nóng)產(chǎn)品樣品分析 | 同位素定性分析 |
| 生物樣品分析 | 大體積進(jìn)樣定量分析 |
| 地質(zhì)樣品分析 | 樣品缺陷分析 |
| 同位素分析 | 元素分布圖繪制分析 |
| 透明和半透明樣品分析 | 深度剝蝕分析 |
樣品種類：
方解石；金屬合金取得顯著成效；透明和半透明類樣品新模式；骨頭、牙齒和皮毛等不容忽視；陶瓷組織了；塑料；涂層/鍍層不要畏懼；動(dòng)植物組織等服務為一體。
產(chǎn)品綜述
LSX-213 G2+ Nd：YAG激光剝蝕系統(tǒng)采用技術(shù)優(yōu)化的光路設(shè)計(jì)。使用皮實(shí)耐用、且經(jīng)過多種苛刻驗(yàn)證的LSX-G2平臺(tái)進行培訓，提供超級(jí)穩(wěn)定的光學(xué)性能和工作穩(wěn)定性發展機遇。提供常規(guī)分析所需要的所有性能指標(biāo)，操作成本低法治力量，易維護(hù)全技術方案。
LSX-213 G2+內(nèi)置性能良好密閉的泵浦燈和MIL一SPEC標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)制造的激光源，給操作者帶來超級(jí)穩(wěn)定的激光能量和極少的維護(hù)成本共享。配備了高精度獨(dú)立減震光學(xué)平臺(tái)后信息化，LSX-213 G2+能夠在多種苛刻環(huán)境中進(jìn)行多種樣品分析。
LSX-213 G2+采用了*的高性能硬件和高精度光學(xué)部件設(shè)計(jì)制造生動，能夠提供*的光學(xué)分辨率新型儲能，達(dá)到清晰的觀察效果的同時(shí)具有寬泛的視野。配備高質(zhì)量新品技、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng)範圍，確保在*放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
LSX-213 G2+ 簡(jiǎn)潔實(shí)用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)紮實做，不僅提供穩(wěn)定的性能空間廣闊，同時(shí)具有良好的易維護(hù)性。采用開放式樣品池位置設(shè)計(jì)提供深度撮合服務，能夠兼容多種樣品池服務品質，并支持用戶定制樣品池。
軟件控制內(nèi)置光圈自動(dòng)切換組成部分，剝蝕斑點(diǎn)直徑范圍4μm一200μm影響；系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)與ICP雙向通訊，實(shí)時(shí)調(diào)整能量技術節能、斑點(diǎn)大小和掃描速度等參數(shù)指導；CETAC產(chǎn)品為您提供便利高效的工作過程廣泛認同，實(shí)現(xiàn)定點(diǎn)——剝蝕——分析的三步目標(biāo)國際要求。
性能參數(shù)
激光源和光路單元
·五倍頻213nm Q-switched控制的Nd：YAG固態(tài)激光源，激光能量＞4mJ/pluse鍛造，＜5ns的脈沖寬度競爭激烈。
·＜3%的脈沖穩(wěn)定性
·平頂激光技術(shù)，達(dá)到良好的剝蝕坑
·激光光路和觀察光路獨(dú)立設(shè)計(jì)改善，防止機(jī)械震動(dòng)干擾和熱源干擾空白區，具有*的穩(wěn)定性
·輸出能量可調(diào)，脈沖頻率可調(diào)(1-20Hz)
·剝蝕斑點(diǎn)范圍(4-200μm)
·*密閉但易維護(hù)的激光源設(shè)計(jì)
視頻觀察單元
·計(jì)算機(jī)控制重要的角色，連續(xù)調(diào)節(jié)的等焦面共焦點(diǎn)設(shè)計(jì)開放要求，顯微光學(xué)放大(2.6x-32.5x)
·觀察視野(＜6mm)，光學(xué)分辨率(＜2μm)
·高強(qiáng)度LED陣列反射透射和泛光照明系統(tǒng)
·計(jì)算機(jī)控制的上偏振系統(tǒng)平臺建設，標(biāo)配下偏振系統(tǒng)
取樣單元
·可拆卸易維護(hù)的樣品池石英窗設(shè)計(jì)
·開放式樣品池位置設(shè)計(jì)服務機製，可靈活多變使用
·多種樣品池可選貢獻力量，含HelEx雙體積雙氣路渦流樣品池
·XY平臺(tái)步進(jìn)分辨率達(dá)到0.16μm/step
