光發(fā)射顯微鏡emmi失效分析熱點定位 光發(fā)射顯光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式不負眾望，*的分析工具高效流通。器件在設計、生產制造過程中有絕緣缺陷精準調控，或者期間經過外界靜電擊穿功能，均會造成器件漏電失效應用的因素之一。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下，內部形成流動電流預期，漏電位置的電子會發(fā)生遷移敢於監督，形成電能向光能的轉化，即電能以光能的方式釋放結構，

光發(fā)射顯微鏡是器件分析過程中針對漏電失效模式重要的作用，*的分析工具。器件在設計規模最大、生產制造過程中有絕緣缺陷各方面，或者期間經過外界靜電擊穿，均會造成器件漏電失效。漏電失效模式的器件在通電得狀態(tài)下，內部形成流動電流品率，漏電位置的電子會發(fā)生遷移更適合，形成電能向光能的轉化，即電能以光能的方式釋放等地，從而形成200nm~1700nm紅外線最為顯著。光發(fā)射顯微鏡主要利用紅外線偵測器，通過紅外顯微鏡探測到這些釋放出來的紅外線規定，從而精準的定位到器件的漏電點環境。我司推出的P-100光發(fā)射顯微鏡(EMMI),在同業(yè)中具有超高的性價比,并憑借良好的售后服務,迅速占領市場. 

光發(fā)射顯微鏡emmi失效分析熱點定位

光發(fā)射顯微鏡emmi失效分析熱點定位

      目前大中國地區(qū)的失效分析客戶有: 上海宜碩、深圳宜智發(fā)責任、上海閎康應用情況、上海礬詮、廣州五所組建、北京電科院表現、東南大學、樂山菲尼克斯深刻變革、深圳明微結論。。質生產力。適應性強。。先進的解決方案。 

                    Junction Leakage                                  Oxide Leakage

                       ESD Damage                        Avalanche-20x Backside Image

                      Poly Filaments                              Backside Observation 

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