PlasCalc 等離子體監(jiān)測控制儀高效，實(shí)現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量，通過高級(jí)過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法要素配置改革，只需3m就可以獲得測量結(jié)果體系。

PlasCalc 等離子體監(jiān)測控制儀

PlasCalc 等離子體監(jiān)測控制儀，實(shí)現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量帶動產業發展，通過高級(jí)過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法責任製，只需3m就可以獲得測量結(jié)果。

特點(diǎn)

光學(xué)分辨率1.0nm(FWHM)

光譜范圍 200-1100nm

快速的建模及存儲(chǔ)實(shí)驗(yàn)方法

Recipe編輯器

Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置倍增效應、構(gòu)建及存儲(chǔ)實(shí)驗(yàn)方法規則製定。對(duì)一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監(jiān)測多樣性、表面潔度監(jiān)測發揮效力、等離子體室控制及異常污染新格局、排放監(jiān)測等明顯，能夠快速簡單的構(gòu)建模塊過程控制。

多種工具用于等離子體診斷

隨PlasCalc配置的操作軟件顯示，集成的程式編輯器能夠容易實(shí)現(xiàn)多種數(shù)學(xué)算法功能創新為先。可選的波長發(fā)生器（可以單獨(dú)購買）用于類型確認(rèn)科普活動，而波長編輯器可以用于優(yōu)化信噪比創新延展。雙窗口界面用于顯示實(shí)際光譜及所有過程控制信息。

PlasCalc 配置說明

重量
5 kg

主要特點(diǎn)：
 

1.0nm（半zui大值全波）光學(xué)解析度
200～1100nm波長范圍

快速建立和保存實(shí)驗(yàn)方法 
調(diào)制步驟編輯
調(diào)制步驟編輯工具可以使用戶簡單長期間、快速地設(shè)置基本情況、建立和保存實(shí)驗(yàn)方法。利用該工具可以對(duì)多數(shù)復(fù)雜的等離子體過程建立簡便而有效的步驟設(shè)置：例如測量薄膜沉積情況高端化、監(jiān)測等離子蝕刻力量、檢查表面清潔處理、分析等離子室健康控制情況、監(jiān)測反常的污染和排放現(xiàn)象等深入實施。

用于簡單的等離子體診斷的多重工具
PlasCalc型監(jiān)控器配有操作軟件調解製度，所提供的完整的公式編輯器可以進(jìn)行所有需要的數(shù)學(xué)和算法功能。我們同時(shí)提供一個(gè)可選配的放射波長數(shù)據(jù)庫功能，可以另外單獨(dú)購買應用的因素之一，它能夠提供種類的鑒定；而波長編輯器則使用戶完成信噪比的優(yōu)化預期。操作界面包含兩個(gè)窗口敢於監督，可以同時(shí)顯示真實(shí)的光譜和所有控制過程信息。