GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)設備能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置環境，工作范圍寬廣，用于制藥高質量、化工相對簡便、生物等行業(yè)，為反應釜流程、槽等提供熱源和冷源合作，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)設備簡介：

能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置助力各業，工作范圍寬廣極致用戶體驗，用于制藥、化工應用、生物等行業(yè)建議，為反應釜、槽等提供熱源和冷源相貫通，也可用于其他設備的加熱和冷卻不斷發展。

●分3個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)自動化方案、預冷系統(tǒng)集成，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用互動講。

●快速加熱和冷卻穩定性，可連續(xù)升降溫。

●溫度控制范圍寬過程中，全程不需要換導熱介質去突破，導熱介質消耗少。

●全封閉循環(huán)系統(tǒng)達到，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化智能設備，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長導熱流體的使用壽命蓬勃發展。

●高溫冷卻特點、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）發展邏輯。

●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器凝聚力量，占用空間小有所提升，換熱效率高。

●液位顯示功能新的力量，隨時監(jiān)控液位先進水平，避免缺液。

●高溫切斷全面展示、急停重要平臺、延時、漏電核心技術、過流電應用提升、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全創造性。

●冷凝要素配置改革、預熱方式為風冷，節(jié)約水資源保障性。

GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)設備?典型應用：

●化工、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制責任製。

●攪拌罐的溫度控制十分落實。

●高壓反應釜的溫度控制。

●材料測試中的應用規則製定。

●微反應器技術領域的放大工藝過程的溫度控制製造業。

●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

●工藝過程中的溫度變化模擬控制關規定。

●大型恒溫控制系統(tǒng)發展基礎。

●小型恒溫控制系統(tǒng)。

●半導體設備的溫度控制建強保護。

●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制同期。

●真空室的溫度控制。

GDZT-50-200-80G密閉制冷加熱循環(huán)設備?技術參數(shù)：