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晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)、晶圓表面張力分析系統(tǒng)

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晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)、晶圓表面張力分析系統(tǒng)

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奧普特TM系列視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)機構、晶圓表面張力分析系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體晶圓(Wafer)工藝的質(zhì)量控制。該視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)交流、晶圓表面張力分析系統(tǒng)提供晶圓(Wafers)表面的快速并準(zhǔn)確的接觸角/表面能分析,從而評(píng)估粘性提供堅實支撐,潔凈度及鍍膜還不大。

 

奧普特TM系列視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)、晶圓表面張力分析系統(tǒng)采用輕量化的設(shè)計(jì)信息化技術、組裝方便和的基于Windows™標(biāo)準(zhǔn)的用戶友好型軟件發揮作用,以創(chuàng)建一個(gè)即精準(zhǔn)容又容易使用的接觸角測(cè)量儀系統(tǒng)。
 

視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)逐步顯現、晶圓表面張力分析系統(tǒng)的注射滴液機(jī)制可以抬起便于裝載銘記囑托,消除了對(duì)晶圓(Wafers)可能產(chǎn)生的損壞。視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)自動化裝置、晶圓表面張力分析系統(tǒng)用于晶圓表面分析示範,同時(shí)也可用于其它需要測(cè)量較大體積樣件的分析應(yīng)用。樣件zui大可允許 300 X 300 X 19mm有很大提升空間。

奧普特TM系列視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)運行好、晶圓表面張力分析系統(tǒng)應(yīng)用 (包括但不限于): 
 

• HMDS工藝的表面涂覆評(píng)估;

•  表面污染物檢測(cè)前景;

•  膠液&底漆制備進一步意見;

•  涂覆均勻性檢測(cè);

•  涂覆質(zhì)量評(píng)估共享應用;

•  表面清潔度檢測(cè)生產能力;

研究粘附性標準、潤濕特性、粘接質(zhì)量堅持好、表面處理和纖維即將展開、織物、聚合物問題分析、半導(dǎo)體晶片培養、硬盤、 平板顯示器和生物材料等表面涂層更加完善。

 •  吸收研究形式。

奧普特TM系列視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)、晶圓表面張力分析系統(tǒng)采用了高精度攝像鏡頭和*的PC技術(shù)捕捉滴液的靜態(tài)或動(dòng)態(tài)圖像支撐作用,并確定用于觸角測(cè)量的基礎(chǔ)切線日漸深入。手動(dòng)或自動(dòng)注射器提供測(cè)試液體的簡易滴膠方式。 電腦化操作消除了人為錯(cuò)誤的畫線并能捕捉動(dòng)態(tài)圖像對(duì)時(shí)間敏感的分析同時。存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中的數(shù)據(jù)和圖像用于后面的分析互動式宣講,并且容易轉(zhuǎn)移到其他應(yīng)用軟件上。

視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)模式、晶圓表面張力分析系統(tǒng)主要技術(shù)規(guī)格:
  基本系統(tǒng)視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)自動化、晶圓表面張力分析系統(tǒng)是一款手動(dòng)操作的接觸角測(cè)量儀系統(tǒng),可測(cè)量晶圓片(Wafers)zui大尺寸為300mm高品質。動(dòng)態(tài)圖像捕捉速率為60/秒不折不扣,視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)、晶圓表面張力分析系統(tǒng)除了具備表面能分析功能以外資源優勢,該系統(tǒng)還能實(shí)現(xiàn)滴液表面張力的分析高效利用。該接觸角測(cè)量儀系統(tǒng)配備電動(dòng)、可編程注射滴膠系統(tǒng)估算。視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)講理論、晶圓表面張力分析系統(tǒng)也可在超凈間操作使用。

高分辨率攝像系統(tǒng)不要畏懼,放大透鏡服務為一體,高密度LED光源用于精密圖像捕捉

• 300mm可旋轉(zhuǎn)工作平臺(tái),允許檢測(cè)晶圓各個(gè)方位

高配PC控制系統(tǒng)取得顯著成效,配備高性能顯卡新模式,用于高級(jí)圖像分析及視頻捕捉

高清平板顯示器,用于圖像輸出顯示

 

  視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)不容忽視、晶圓表面張力分析系統(tǒng)軟件基本功能特性:

接觸角成像及計(jì)算的自動(dòng)化

動(dòng)態(tài)滴液捕捉(以錄像方式觀看滴液)

表面能(達(dá)因/厘米)分析功能

統(tǒng)計(jì)過程控制

懸滴法表面分析功能

SE-2500表面能(達(dá)因/厘米)軟件包基于同樣基片上不同液體的接觸角組織了,計(jì)算基片的表面能(達(dá)因/厘米)        列表出同一基片上不同液體的接觸角。并且用四中用戶可選的方法之一來自動(dòng)計(jì)算表面能搶抓機遇,即齊斯曼法(Zisman)分析、幾何平均數(shù)法(Geometric Mean,), 調(diào)和平均數(shù)法(Harmonic Mean,)全面闡釋,酸堿法(Acid-Base)非常激烈。
圖像分析工作站(IAW專門配備PC格式化用于圖像分析。

 

Dynamic-2500軟件
-> 基于Windows操作系統(tǒng)方便使用引人註目,增強(qiáng)的多功能性和易與其他程序接口領域;
-> 時(shí)間間隔的圖像捕捉能力提供圖像捕捉及分析,基于用戶定義的時(shí)間事件分析間隔好宣講;
-> 多個(gè)圖像同事瀏覽功能註入新的動力;
-> 圖像滾動(dòng)&堆碼能力;
-> 高速圖像捕捉可達(dá)60個(gè)圖像/秒。
AutoFAST成像軟件自動(dòng)灰度分析成像系統(tǒng)捕捉實(shí)際液滴圖像和自動(dòng)計(jì)算接觸角雙重提升,而無需人工干預(yù)。 接觸角切線和電腦生成的水滴形曲線 擬合同時(shí)顯示在視頻圖像上事關全面,便于用戶查看及分析表現明顯更佳。
PDAST(滴液表面張力分析)軟件采取垂滴圖像分析方法,通過視頻影像數(shù)字化和數(shù)字  曲線擬合技術節能,采用毛細(xì)拉普拉斯方程確定表面張力(或界面張力)指導。

 

微量注射器-三套
微量注射器針頭-五套
SPC(統(tǒng)計(jì)過程控制)軟件在一個(gè)易于使用的圖表中自動(dòng)記錄接觸角、液滴的高度國際要求,寬度增持能力,體積和面積。 即時(shí)顯示統(tǒng)計(jì)值平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差行業內卷,作為數(shù)據(jù)輸入。所有的數(shù)據(jù)都可被打印逐漸完善, 保存和/或轉(zhuǎn)出進(jìn)一步分析或成像在其他 軟件程序之中的過程中。
DataView軟件瀏覽接觸角度、寬度和高度廣泛關註,潤濕面積和體積的彩色圖表促進進步。數(shù)據(jù)和圖表可以存儲(chǔ)、打印和編輯優勢領先。

 

電動(dòng)注射器組件電腦控制自動(dòng)滴液分配系統(tǒng)迎來新的篇章,用于標(biāo)準(zhǔn)注射器。提供可重復(fù)用戶定義液體體積分配推動並實現。
視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)薄弱點、晶圓表面張力分析系統(tǒng)晶圓(Wafer)樣件工作平臺(tái):
->  圓形樣件平臺(tái)尺寸:直徑12英寸(304.80毫米);
->  可接納檢測(cè)晶圓片尺寸:4英寸優化程度、6英寸積極性、8英寸及12英寸奮勇向前;
->  光軸移動(dòng):6英寸手動(dòng)滑動(dòng)卡鎖;
->  垂直于光軸運(yùn)動(dòng):6英寸撥動(dòng)實施體系;
->  垂直移動(dòng)距離:2英寸波動(dòng)組建;
->  工作平臺(tái)旋轉(zhuǎn)角度:360度旋轉(zhuǎn),行星軸承支持手動(dòng)旋轉(zhuǎn)效果較好;
校準(zhǔn)網(wǎng)格
顯示器
電源220VAC

售后服務(wù):

  1. 視頻成像(VCA-Wafer) 晶圓表面分析檢測(cè)測(cè)量系統(tǒng)重要的意義、晶圓表面張力分析系統(tǒng)抵達(dá)客戶處后,產(chǎn)品工程師免費(fèi)指導(dǎo)設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)完成安裝調(diào)試等多個領域;

2 設(shè)備質(zhì)保期從安裝調(diào)試成功后開始再獲;


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