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NanoMap-500LS 三維輪廓儀新模式、臺(tái)階儀特性、白光干涉儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) aep technology中國(guó)辦事處
  • 品牌
  • 型號(hào) NanoMap-500LS
  • 所在地 北京市
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2015/12/28 11:00:00
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1426

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NanoMap 500LS掃描三維表面輪廓儀
特點(diǎn)
? 常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術(shù)的*結(jié)合
? 雙模式操作(針尖掃描和樣品臺(tái)掃描)今年,即使在長(zhǎng)程測(cè)量時(shí)也可以得到*化的小區(qū)域三維測(cè)圖
? 針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)掃描模式,三維掃描范圍從10μm X 10μm 到500μm X 500μm結構不合理。樣品臺(tái)掃描使用高級(jí)別光學(xué)參考平臺(tái)能使長(zhǎng)程掃描范圍到50mm動手能力。
? 在掃描過(guò)程中結(jié)合

詳細(xì)信息 在線詢(xún)價(jià)

 

 NanoMap 500LS掃描三維表面輪廓儀 

特點(diǎn) 
? 常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術(shù)的*結(jié)合 
? 雙模式操作(針尖掃描和樣品臺(tái)掃描),即使在長(zhǎng)程測(cè)量時(shí)也可以得到*化的小區(qū)域三維測(cè)圖 
? 針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)掃描模式效果較好,三維掃描范圍從10μm X 10μm 500μm X 500μm重要的意義。樣品臺(tái)掃描使用高級(jí)別光學(xué)參考平臺(tái)能使長(zhǎng)程掃描范圍到50mm 
? 在掃描過(guò)程中結(jié)合彩色光學(xué)照相機(jī)可對(duì)樣品直接觀察 
? 針尖掃描采用雙光學(xué)傳感器開放以來,同時(shí)擁有寬闊測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍(zui大至500μm)及亞納米級(jí)垂直分辨率≌?。▃ui懈哔|量。?/span>.nm  
? 軟件設(shè)置恒定微力接觸 
? 簡(jiǎn)單的2步關(guān)鍵操作提供了有力支撐,友好的軟件操作界面 
應(yīng)用 
三維表面輪廓測(cè)量和粗糙度測(cè)量激發創作,即適用于精密拋光的光學(xué)表面也可適用于質(zhì)地粗糙的機(jī)加工零件。 
薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測(cè)量 
劃痕形貌進一步意見,磨損深度增幅最大、寬度和體積定量測(cè)量 
空間分析和表面紋理表征 
平面度和曲率測(cè)量 
二維薄膜應(yīng)力測(cè)量 
微電子表面分析和MEMS表征 
表面質(zhì)量和缺陷檢測(cè) 
環(huán)境要求 
濕度:10-80%, 相對(duì)濕度生產能力,無(wú)冷凝 
溫度:65-85 華氏度(△T1/小時(shí)) 
電源要求:110/240V標準,50/60 Hz 

技術(shù)規(guī)格 
類(lèi)型 項(xiàng)目 規(guī)格 
綜述 小范圍XY掃描頭,提供高精確度 
XY平臺(tái)掃描堅持好,提供大尺度測(cè)量 
帶亮場(chǎng)和暗場(chǎng)的全時(shí)彩色CCD照相機(jī) 
軟件控制觸針測(cè)量力即將展開,范圍 0.1-100mg 
觸針針尖半徑選件 2μm5 μm特性,12.5 μm25 μm傳承,0.1-0.8μm可選 
針尖掃描 
(Piezo掃描器臺(tái)階高度重現(xiàn)性 0.8nm 
垂直分辨率 0.1nm 
測(cè)量高度精細(xì)范圍 5μm 
測(cè)量高度粗略范圍 0.5mm 
XY掃描分辨率 0.1μm 
XY掃描定位重現(xiàn)性 0.2μm 
掃描速度 10-50μm/sec 
掃描范圍 10-500μm 
每次掃描數(shù)據(jù)點(diǎn) 100-1000數(shù)據(jù)點(diǎn) 
樣品臺(tái)掃描 XY樣品區(qū)域 100mm X 100mm, 150mm安裝間隙 
XY平臺(tái)運(yùn)動(dòng)范圍 100mm X 100mm150mm X 150mm 
XY平臺(tái)定位重現(xiàn)性 5μm2μm可選 
zui大掃描長(zhǎng)度 50mm 
掃描速度 0.1-5mm/sec 
Z平臺(tái)范圍 55mm 
zui大樣品高度 50mm 
手動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)范圍 360 
手動(dòng)傾斜平臺(tái)范圍 ±2 
標(biāo)準(zhǔn)樣品 臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)樣品(NIST認(rèn)證) 100μm 
系統(tǒng) 光學(xué)照相機(jī)視場(chǎng)范圍 1.5 X 1.5mm 
光學(xué)照明 軟件控制暗場(chǎng)和亮場(chǎng) 
電腦 Pentium IV, USB2.0聯(lián)接 
操作系統(tǒng) Win XP 
系統(tǒng)動(dòng)力需求 90-240V建言直達,350W 
空間尺寸 20’ 寬X 22’長(zhǎng) X 25’高 
重量 160lb 
三維輪廓儀多種、白光干涉儀、三維臺(tái)階儀充分發揮、三維薄膜分析儀發展成就、三維形貌儀、三維粗糙度儀重要方式、表面輪廓儀開展面對面、表面臺(tái)階儀、薄膜分析儀非常重要、表面形貌儀自動化、表面粗糙度儀、非接觸式輪廓儀高品質、非接觸式臺(tái)階儀不折不扣、非接觸式表面形貌儀、非接觸式表面粗糙度儀文化價值、接觸式輪廓儀形式、接觸式臺(tái)階儀、接觸式表面形貌儀不斷完善、接觸式表面粗糙度儀數字化、探針式輪廓儀、探針式式臺(tái)階儀基礎上、探針式表面形貌儀各領域、探針式表面粗糙度儀、雙模式輪廓儀、雙模式臺(tái)階儀進行培訓、雙模式表面形貌儀發展機遇、雙模式表面粗糙度儀、三維表面輪廓儀法治力量、三維表面臺(tái)階儀全技術方案、三維表面形貌儀、三維表面粗糙度儀共享、

美國(guó)AEP Technology公司主要從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備, MEMS檢測(cè)設(shè)備, 光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的生產(chǎn)制造信息化,是表面測(cè)量解決方案行業(yè)的供應(yīng)者,專(zhuān)門(mén)致力于材料表面形貌測(cè)量與檢測(cè)。
aep Technology材料表面形貌測(cè)試測(cè)量未來(lái)生動。*致力于材料表面形貌及外形輪廓的測(cè)試研究新型儲能,*的三維成像技術(shù)更帶您進(jìn)入材料表面的三維圖像世界,觀察表面的每一個(gè)細(xì)節(jié)新品技,生成精密的圖像數(shù)據(jù)領域,揭示材料表面的真實(shí)形貌。結(jié)合精密的分析測(cè)試軟件好宣講,為您進(jìn)行的*研究提供援助註入新的動力,協(xié)助您創(chuàng)造更多的價(jià)值。


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